一种磷铜球抛光机构制造技术

技术编号:31065121 阅读:86 留言:0更新日期:2021-11-30 06:34
本实用新型专利技术提出一种磷铜球抛光机构,包括支架、抛光机构、清洗机构、收集箱和废水箱;所述抛光机构包括抛光箱、抛光驱动装置和抛光轴;所述抛光箱的上端设有磷铜球入口,所述抛光箱的下端设有磷铜球出口;所述抛光箱倾斜设置于所述支架,所述抛光轴可转动设置于所述抛光箱,所述抛光轴设置于所述抛光驱动装置的输出端;所述清洗机构平行于所述抛光箱设置于所述支架,所述清洗机构设有清洗入口和清洗出口,所述清洗入口与所述磷铜球出口连通,所述清洗出口与所述收集箱连通,本实用新型专利技术中经过抛光后的磷铜球可以利用其重力进入所述清洁机构内对其表面的铜粉进行清洗,有效解决抛光中铜粉粘在磷铜球影响后续工序的问题。中铜粉粘在磷铜球影响后续工序的问题。中铜粉粘在磷铜球影响后续工序的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种磷铜球抛光机构


[0001]本技术涉及磷铜球加工的
,特别是一种磷铜球抛光机构。

技术介绍

[0002]在PCB板的制做中,经过钻孔后,为了使钻孔形成导通的状态,须在转孔中生成一薄铜层,然后透过电解镀铜的方式来进行一次镀铜及二次镀铜,增加铜层厚度以强化导孔的导电效果,磷铜球作为用于一次铜及二次铜的关键材料。在磷铜球的生产工艺中,一般需要经过熔炼上引连铸、轧球、抛光、清洗风干和包装等工序,目前的磷铜球设备对磷铜球的抛光设备抛光效果不理想,抛光时往往会产生铜粉粘在磷铜球表面影响磷铜球后续的清洗风干工序,进而影响企业的整体生产效率。

技术实现思路

[0003]针对上述缺陷,本技术的目的在于提出一种磷铜球抛光机构,解决抛光中铜粉粘在磷铜球影响后续工序的问题。
[0004]为达此目的,本技术采用以下技术方案:
[0005]一种磷铜球抛光机构,包括支架、抛光机构、清洗机构、收集箱和废水箱;所述抛光机构包括抛光箱、抛光驱动装置和抛光轴;所述抛光箱的上端设有磷铜球入口,所述抛光箱的下端设有磷铜球出口;所述抛光箱倾斜设置于所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磷铜球抛光机构,其特征在于:包括支架、抛光机构、清洗机构、收集箱和废水箱;所述抛光机构包括抛光箱、抛光驱动装置和抛光轴;所述抛光箱的上端设有磷铜球入口,所述抛光箱的下端设有磷铜球出口;所述抛光箱倾斜设置于所述支架,所述抛光轴可转动设置于所述抛光箱,所述抛光驱动装置于所述抛光箱的一侧,且所述抛光轴设置于所述抛光驱动装置的输出端;所述清洗机构平行于所述抛光箱设置于所述支架,所述清洗机构设有清洗入口和清洗出口,所述清洗入口与所述磷铜球出口连通,所述清洗出口与所述收集箱连通。2.根据权利要求1所述的一种磷铜球抛光机构,其特征在于:所述抛光机构还包括有抛光定位板,所述抛光定位板为圆筒状,所述抛光定位板套设于所述抛光轴的外部,所述抛光定位板排列设有定位孔。3.根据权利要求1所述的一种磷铜球抛光机构,其特征在于:所述清洗机构和所述抛光机构之间设有限位机构,所述限位机构包括限位驱动气缸和限位板,所述限位驱动气缸设置于所述抛光箱的一侧,所述限位板设置于所述限位驱动气缸的输出端,在所述限位驱动气缸的驱动下,所述限位板能将所述磷铜球出口封堵。4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:龚朝辉李树泉
申请(专利权)人:佛山高力新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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