【技术实现步骤摘要】
一种吸附箱
[0001]本技术涉及废气吸附
,具体涉及一种吸附箱。
技术介绍
[0002]随着半导体的需求日益旺盛,半导体行业用特种气体的需求也随之攀升,半导体用特种气体在生产制造的过程中往往会产生各种废气,需要使用碱性物质或者活性炭进行吸附处理,生产厂家在面临废气处理的问题上一般采用将废气通过吸附装置进行吸收,但是在实际吸附过程中由于废气具有一定的流动性,在吸附装置周围停留的时间较短,吸附还不充分时就被排放出去,导致吸附效果不佳,此外吸附装置出于密闭考虑,可供接触的有效面积也十分有限,进一步限制了吸附的效果。
[0003]针对以上问题,需要设计一种吸附箱。
技术实现思路
[0004]针对现有技术中所存在的不足,本技术提供了一种吸附箱,以解决在吸附过程中由于废气流动太快,接触面积有限、导致吸附不充分的问题。
[0005]为解决上述技术问题,本技术具体采用如下技术方案:一种吸附箱,包括箱体,所述箱体一侧设置有可开启的侧板,所述箱体外壁上部固设有连通至所述箱体内的排气管,所述箱体外壁下部固设有连 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种吸附箱,包括箱体(1),所述箱体(1)一侧设置有可开启的侧板(11),其特征在于:所述箱体(1)外壁上部固设有连通至所述箱体(1)内的排气管(3),所述箱体(1)外壁下部固设有连通至所述箱体(1)内的进气管(4),所述箱体(1)内位于进气管(4)和排气管(3)之间固设至少三个导流板(2),所述导流板(2)相互交错设置使得所述进气管(4)到所述排气管(3)之间形成S型的气流通道(6),所述导流板(2)上设置有用于吸附废气的吸附柱(5),所述吸附柱(5)与所述气流通道(6)的气流方向垂直设置。2.根据权利要求1所述的一种吸附箱,其特征在于:所述导流板(2)相互平行且等距设置。3.根据权利要求1所述的一种吸附箱,其特征在于:所述吸附柱(5)包括两个间隙设置的立板(52),两所述立板(52)的两端分别固设盖板...
【专利技术属性】
技术研发人员:曾令军,阳辉,肖左恒,曾令霞,邵辉,
申请(专利权)人:太和气体荆州有限公司,
类型:新型
国别省市:
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