一种光学薄膜及其成型方法技术

本发明专利技术适用于膜技术领域，提供了一种光学薄膜，包括依次设置的防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，所述防反射第一膜层包括依次设置的基材和多层高分子材料层，防反射第二膜层设于高分子材料层表面，构成高分子材料层的高分子材料中含有二氧化硅和氧化铝，本发明专利技术还公开了所述光学薄膜的成型方法，设有防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，通过加入二氧化硅和氧化铝，材料层表面应力变小不易收缩，上层材料的附着力更高，成膜后表面羟基更多，接着力更好，通过对防反射第一膜层进行预加热，能够将湿涂涂料中的小分子受热膨胀后挤出，这样表面层都是附着在高分子树脂上，进一步提高了防反射第二膜层与防反射第一膜层的接着力。层的接着力。层的接着力。

【技术实现步骤摘要】
一种光学薄膜及其成型方法


[0001]本专利技术属于膜
，尤其涉及一种光学薄膜及其成型方法。

技术介绍

[0002]光学薄膜由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。现代光学薄膜已广泛用于光学和光电子
，制造各种光学仪器，光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的，光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。
[0003]现有光学薄膜的膜层之间接着力较低，从而降低了光学薄膜的力学性能。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种光学薄膜及其成型方法，旨在解决现有湿涂工艺与磁控溅射工艺各自存在的问题。
[0005]本专利技术是这样实现的，一种光学薄膜，包括依次设置的防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，所述防反射第一膜层包括依次设置的基材和多层高分子材料层，防反射第二膜层设于高分子材料层表面，防指纹层设于防反射第二膜层表面，构成高分子材料层的高分子材料中含有二氧化硅和氧化铝。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜，其特征在于，包括依次设置的防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，所述防反射第一膜层包括依次设置的基材和多层高分子材料层，防反射第二膜层设于高分子材料层表面，防指纹层设于防反射第二膜层表面，构成高分子材料层的高分子材料中含有二氧化硅和氧化铝。2.如权利要求1所述的一种光学薄膜，其特征在于，所述基材的材质为pet、pc、pmma、tac、pen、cpi中的一种或多种。3.如权利要求1所述的一种光学薄膜，其特征在于，相邻的两层高分子材料层中的一层为高折射率，另一层为低折射率，所述防反射第二膜层为低折射率。4.如权利要求1所述的一种光学薄膜，其特征在于，所述防反射第二膜层的材料包括氧化硅、氟化镁、氧化铝、氟化铈、氟化镧、氟化钡、氟化铝、冰晶石、锥冰晶石、二氧化铝、碳化硅、氧化铌、氮化硅和氧化钛中的一种或多种。5.如权利要求1所述的一种光学薄膜，其特征在于，所述基材表面设有硬化膜层。6.一种光学薄膜成型方法，用于制...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔运辉，
申请(专利权)人：孔运辉，
类型：发明
国别省市：