【技术实现步骤摘要】
一种电池正面副栅线图形结构
[0001]本技术涉及太阳能电池光伏
,尤其涉及一种适合扩散高方阻的电池正面图形结构。
技术介绍
[0002]光伏硅片尺寸直接影响下游电池片和组件尺寸,当前光伏硅片有5种主流尺寸,分别为156.75、158.75、166、182、210。大尺寸硅片通过增大硅片面积,放大组件尺寸,从而摊薄各环节加工成本。从原来上来说,硅片尺寸越大越好,然而随着硅片尺寸的增大,硅片扩散后的均匀性越来越差,即使许多厂家的扩散炉从常压扩散方式改到低压扩散方式,随着方阻的逐步提高,同一片片子上的最低方阻与最高方阻已经无法控制在5Ω以内,许多硅片的最低方阻与最高方阻差值已经到10Ω,扩散炉炉尾硅片的最低方阻与最高方阻差值已经超过了10Ω。扩散方阻不均匀性的增加,导致电池片的Rs偏高,FF偏低,如果只是整面设计成密栅的图形,会导致硅片边缘低方阻区域的遮光面积增大,收集的电流减少,导致电池片整体的效率得不到提升。
技术实现思路
[0003]解决上述技术问题,本技术的目的是提供一种适合扩散高方阻的电池正面图形结构 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电池正面副栅线图形结构,其特征在于,所述结构包括扩散区域,所述扩散区域位于整个正面的中间位置,在所述扩散区域四周为常规区域;所述扩散区域的副栅线根数比常规区域多,且副栅线的宽度比常规区域的副栅线宽度细。2.根据权利要求1所述的一种电池正面副栅线图形结构,其特征在于,所述常规区域使用430目数、13um线径、20...
【专利技术属性】
技术研发人员:钱小芳,职森森,吴仕梁,张凤鸣,徐建华,范琼,
申请(专利权)人:江苏日托光伏科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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