一种砖体的均匀上釉的上釉装置制造方法及图纸

一种砖体的均匀上釉的上釉装置，包括：第一传送结构、第二传送结构和上釉组件；第一传送结构和第二传送结构用于传送砖体，两者相向设置，两者之间设置有上釉组件；上釉主动辊和上釉从动辊可转动地安装于储釉容器内，储釉容器用于储存表面釉；两个上釉从动辊水平相靠或成间隙设置，上釉主动辊分别接触于两侧的上釉从动辊，上釉主动辊用于接触经过于第一传送结构和第二传送结构之间的砖体；上釉驱动器用于驱动上釉主动辊和/或上釉从动辊转动。本上釉装置，均匀地对经过于第一传送结构和第二传送结构两者之间的砖体进行上釉，上釉主动辊和上釉从动辊两者共同配合，上釉主动辊对砖体均匀上釉，使砖体表面形成的表面釉更均匀。使砖体表面形成的表面釉更均匀。使砖体表面形成的表面釉更均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种砖体的均匀上釉的上釉装置


[0001]本技术涉及陶瓷机械
，尤其涉及一种砖体的均匀上釉的上釉装置。

技术介绍

[0002]现有的砖体，当需要对砖体的表面进行施釉时，往往需要先在砖体的表面喷淋表面釉，并通过涂布辊将表面釉在砖体上涂覆均匀；但现有技术中，当涂布辊下压至砖体表面时，往往会由于涂布辊上的布釉不均匀，出现涂布辊上的一处釉量过多，另一处釉量过少，导致砖体的表面在施釉过程出现分布不均的现象，影响了砖体烧成后的质量。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提出一种砖体的均匀上釉的上釉装置，其通过上釉主动辊和上釉从动辊之间的配合，使砖体上釉更均匀。
[0004]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]一种砖体的均匀上釉的上釉装置，包括：第一传送结构、第二传送结构和上釉组件；
[0006]所述第一传送结构和第二传送结构用于传送砖体，两者相向设置，两者之间设置有所述上釉组件；
[0007]所述上釉组件包括：储釉容器、上釉主动辊、上釉从动辊和上釉驱动器；
[0008]所述上釉主本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种砖体的均匀上釉的上釉装置，其特征在于，包括：第一传送结构、第二传送结构和上釉组件；所述第一传送结构和第二传送结构用于传送砖体，两者相向设置，两者之间设置有所述上釉组件；所述上釉组件包括：储釉容器、上釉主动辊、上釉从动辊和上釉驱动器；所述上釉主动辊和上釉从动辊可转动地安装于所述储釉容器内，所述储釉容器用于储存表面釉；两个所述上釉从动辊水平相靠或成间隙设置，所述上釉主动辊设置于所述上釉从动辊的上方，并分别接触于两侧的所述上釉从动辊，所述上釉主动辊用于接触经过于所述第一传送结构和第二传送结构之间的砖体；所述上釉驱动器的输出端连接所述上釉主动辊和/或上釉从动辊，用于驱动所述上釉主动辊和/或上釉从动辊转动。2.根据权利要求1所述的上釉装置，其特征在于，所述上釉主动辊抵靠于所述上釉从动辊，所述上釉从动辊与所述上釉主动辊同步转动。3.根据权利要求1或2所述的上釉装置，其特征在于，所述上釉主动辊和/或所述上釉从动辊的外侧设有多道粘釉槽。4.根据权利要求3所述的上釉装置，其特征在于，所述粘釉槽沿所述上釉主动辊或所述上釉从动辊的径向设置。5.根据权利要求3所述的上釉装置，其特征在于，所述上釉组件包括：补釉管和配釉容器；所述补釉管，其输入端连通所述配釉容器，其输出端对准或连通于所述储...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁红，吴则昌，刘畅，邓荣，潘婷，李丽芳，
申请(专利权)人：佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：