一种砖体的均匀上釉的上釉装置，包括：第一传送结构、第二传送结构和上釉组件；第一传送结构和第二传送结构用于传送砖体，两者相向设置，两者之间设置有上釉组件；上釉主动辊和上釉从动辊可转动地安装于储釉容器内，储釉容器用于储存表面釉；两个上釉从动辊水平相靠或成间隙设置，上釉主动辊分别接触于两侧的上釉从动辊，上釉主动辊用于接触经过于第一传送结构和第二传送结构之间的砖体；上釉驱动器用于驱动上釉主动辊和/或上釉从动辊转动。本上釉装置，均匀地对经过于第一传送结构和第二传送结构两者之间的砖体进行上釉，上釉主动辊和上釉从动辊两者共同配合，上釉主动辊对砖体均匀上釉，使砖体表面形成的表面釉更均匀。使砖体表面形成的表面釉更均匀。使砖体表面形成的表面釉更均匀。
【技术实现步骤摘要】
一种砖体的均匀上釉的上釉装置
[0001]本技术涉及陶瓷机械
，尤其涉及一种砖体的均匀上釉的上釉装置。
技术介绍
[0002]现有的砖体，当需要对砖体的表面进行施釉时，往往需要先在砖体的表面喷淋表面釉，并通过涂布辊将表面釉在砖体上涂覆均匀；但现有技术中，当涂布辊下压至砖体表面时，往往会由于涂布辊上的布釉不均匀，出现涂布辊上的一处釉量过多，另一处釉量过少，导致砖体的表面在施釉过程出现分布不均的现象，影响了砖体烧成后的质量。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提出一种砖体的均匀上釉的上釉装置，其通过上釉主动辊和上釉从动辊之间的配合，使砖体上釉更均匀。
[0004]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]一种砖体的均匀上釉的上釉装置，包括：第一传送结构、第二传送结构和上釉组件；
[0006]所述第一传送结构和第二传送结构用于传送砖体，两者相向设置，两者之间设置有所述上釉组件；
[0007]所述上釉组件包括：储釉容器、上釉主动辊、上釉从动辊和上釉驱动器；
[0008]所述上釉主动辊和上釉从动辊可转动地安装于所述储釉容器内，所述储釉容器用于储存表面釉；两个所述上釉从动辊水平相靠或成间隙设置，所述上釉主动辊设置于所述上釉从动辊的上方，并分别接触于两侧的所述上釉从动辊，所述上釉主动辊用于接触经过于所述第一传送结构和第二传送结构之间的砖体；所述上釉驱动器的输出端连接所述上釉主动辊和/或上釉从动辊，用于驱动所述上釉主动辊和/或上釉从动辊转动。
[0009]优选地，所述上釉主动辊抵靠于所述上釉从动辊，所述上釉从动辊与所述上釉主动辊同步转动。
[0010]优选地，所述上釉主动辊和/或所述上釉从动辊的外侧设有多道粘釉槽。
[0011]优选地，所述粘釉槽沿所述上釉主动辊或所述上釉从动辊的径向设置。
[0012]优选地，所述上釉组件包括：补釉管和配釉容器；
[0013]所述补釉管，其输入端连通所述配釉容器，其输出端对准或连通于所述储釉容器，用于向所述储釉容器输出表面釉。
[0014]优选地，所述第一传送结构和/或第二传送结构包括：传送基座、主动传送轴、从动传送轴、主动轮、从动轮、同步带和传送驱动器；
[0015]所述主动传送轴和从动传送轴可转动地安装于所述传送基座；所述主动轮安装于所述主动传送轴；所述从动轮安装于所述从动传送轴；所述同步带同步转动地连接于所述主动轮和所述从动轮，所述同步带用于放置砖体；所述传送驱动器的输出端连接于所述主动传送轴，用于驱动所述主动传送轴转动。
[0016]优选地，所述主动传送轴上设置有多个所述主动轮；所述从动传送轴上设置有多个所述从动轮；
[0017]所述主动轮、从动轮和同步带形成传送单元；所述传送单元的数量为多个。
[0018]优选地，所述同步带上设有推块；所述推块用于接触砖体。
[0019]优选地，所述同步带于所述砖体的多个侧面设有所述推块。
[0020]优选地，所述第一传送结构和/或第二传送结构包括：支撑杆和辅助从动辊；
[0021]所述支撑杆设置于所述储釉容器的外侧，所述辅助从动辊可转动地安装于所述支撑杆；所述辅助从动辊的上表面与所述上釉主动辊的上表面处于同一水平面。
[0022]本技术的有益效果：
[0023]本上釉装置，均匀地对经过于第一传送结构和第二传送结构两者之间的砖体进行上釉，上釉主动辊和上釉从动辊两者共同配合，上釉主动辊对砖体均匀上釉，使砖体表面形成的表面釉更均匀。
附图说明
[0024]图1是上釉装置的结构示意图；
[0025]图2是上釉组件的结构示意图。
[0026]其中：
[0027]第一传送结构1、第二传送结构2、上釉组件3、砖体4
[0028]储釉容器21、上釉主动辊22、上釉从动辊23、上釉驱动器24、补釉管25；
[0029]粘釉槽221；
[0030]传送单元10、传送基座11、主动传送轴12、从动传送轴13、主动轮14、从动轮15、同步带16、传送驱动器17、推块18、支撑杆191、辅助从动辊192。
具体实施方式
[0031]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。
[0032]一种砖体的均匀上釉的上釉装置，包括：第一传送结构1、第二传送结构2 和上釉组件3；
[0033]所述第一传送结构1和第二传送结构2用于传送砖体4，两者相向设置，两者之间设置有所述上釉组件3；
[0034]所述上釉组件3包括：储釉容器21、上釉主动辊22、上釉从动辊23和上釉驱动器24；
[0035]所述上釉主动辊22和上釉从动辊23可转动地安装于所述储釉容器21内，所述储釉容器21用于储存表面釉；两个所述上釉从动辊23水平相靠或成间隙设置，所述上釉主动辊22设置于所述上釉从动辊23的上方，并分别接触于两侧的所述上釉从动辊23，所述上釉主动辊22用于接触经过于所述第一传送结构 1和第二传送结构2之间的砖体4；所述上釉驱动器24的输出端连接所述上釉主动辊22和/或上釉从动辊23，用于驱动所述上釉主动辊22和/或上釉从动辊 23转动。
[0036]本上釉装置，均匀地对经过于第一传送结构1和第二传送结构2两者之间的砖体进行上釉，上釉主动辊22和上釉从动辊23两者共同配合，上釉主动辊 22对砖体均匀上釉，使砖体表面形成的表面釉更均匀。
[0037]具体地，第一传送结构1用于向上釉组件3和第二传送结构2输送砖体，砖体从第一传送结构1输出至上釉组件3后，即会进入第二传送结构2；其中上釉组件3中，储釉容器21内装有表面釉，上釉从动辊23位于储釉容器21的相对下方，在上釉驱动器24的带动下，上釉从动辊23转动时，其辊面会接触于表面釉；由于上釉从动辊23与上釉主动辊22接触，两者相对转动后，上釉从动辊23会将其辊面的表面釉传至上釉主动辊22的辊面，使上釉主动辊22的表面能始终保持有表面釉，当砖体接触于上釉主动辊22的表面，砖体在移动过程中，上釉主动辊22会对砖体的接触面进行施釉，且上釉从动辊23会持续向上釉主动辊22传釉，提高了上釉主动辊22对砖体上釉的均匀性。
[0038]第一传送结构1和第二传送结构2可由公知具有传送功能的传送装置代替，如传送带结构、气缸驱动传送，或电机与丝杆的驱动传送等，驱动作用为水平驱动即可。
[0039]上釉驱动器24为公知具有驱动转动的装置，如电机，或电机与减速机的配合。
[0040]优选地，所述上釉主动辊22抵靠于所述上釉从动辊23，所述上釉从动辊 23与所述上釉主动辊22同步转动。
[0041]上釉主动辊22与上釉从动辊23同步转动时，即可确保上釉主动辊22与上釉从动辊23同步传釉，提高了上釉主动辊22与上釉从动辊23两者传釉的同步性，使上釉主动辊22对砖体表面上施釉更均匀。
[0042]其中，上釉主动辊22和上釉从本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种砖体的均匀上釉的上釉装置，其特征在于，包括：第一传送结构、第二传送结构和上釉组件；所述第一传送结构和第二传送结构用于传送砖体，两者相向设置，两者之间设置有所述上釉组件；所述上釉组件包括：储釉容器、上釉主动辊、上釉从动辊和上釉驱动器；所述上釉主动辊和上釉从动辊可转动地安装于所述储釉容器内，所述储釉容器用于储存表面釉；两个所述上釉从动辊水平相靠或成间隙设置，所述上釉主动辊设置于所述上釉从动辊的上方，并分别接触于两侧的所述上釉从动辊，所述上釉主动辊用于接触经过于所述第一传送结构和第二传送结构之间的砖体；所述上釉驱动器的输出端连接所述上釉主动辊和/或上釉从动辊，用于驱动所述上釉主动辊和/或上釉从动辊转动。2.根据权利要求1所述的上釉装置，其特征在于，所述上釉主动辊抵靠于所述上釉从动辊，所述上釉从动辊与所述上釉主动辊同步转动。3.根据权利要求1或2所述的上釉装置，其特征在于，所述上釉主动辊和/或所述上釉从动辊的外侧设有多道粘釉槽。4.根据权利要求3所述的上釉装置，其特征在于，所述粘釉槽沿所述上釉主动辊或所述上釉从动辊的径向设置。5.根据权利要求3所述的上釉装置，其特征在于，所述上釉组件包括：补釉管和配釉容器；所述补釉管，其输入端连通所述配釉容器，其输出端对准或连通于所述储...
【专利技术属性】
技术研发人员：袁红，吴则昌，刘畅，邓荣，潘婷，李丽芳，
申请(专利权)人：佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：
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