一种单晶硅片烘干装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种单晶硅片烘干装置，解决了单晶硅片烘干不彻底的问题，其技术方案要点是：所述的烘干仓外设置有传送机构，所述传送机构设置有送料台和传送带，所述传送带一端位于送料台旁，所述烘干仓包覆于传送带外部，所述送料台顶部设置有导料槽，所述导料槽靠近传送带一端设置有开口，所述传送带靠近导料槽一端顶部设置有固定轮，所述固定轮外设置有传导环，所述传导环可在固定轮外部旋转，所述固定轮与传导环相处的表面设置有导气孔，所述的传导环外设置有均匀分布的吸盘，所述传导环内部设置有若干与吸盘相连通的导气槽，达到了有效烘干的目的。了有效烘干的目的。了有效烘干的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片烘干装置


[0001]本技术属于烘干设备
，特指一种单晶硅片烘干装置。

技术介绍

[0002]在单晶硅片加工过程中，经过磨圆完成后的硅棒需要进行切片加工，加工完成后形成单晶硅片，之后对单晶硅片进行清洗，清洗完成后的单晶硅片需要进行烘干处理，然而，由于单晶硅片的厚度极低，清洗完成后的单晶硅片之间容易发生粘连，在烘干过程中，相互粘连的两个单晶硅片之间的水分很难得到有效烘干，影响后续加工。

技术实现思路

[0003]针对现有技术存在的不足，本技术的目的是提供一种烘干效率高的单晶硅片烘干装置。
[0004]本技术的目的是这样实现的：一种单晶硅片烘干装置，包括烘干仓，所述的烘干仓外设置有传送机构，所述传送机构设置有导料槽和传送带，所述传送带一端位于导料槽旁，所述烘干仓包覆于传送带外部，所述导料槽靠近传送带一端设置有开口，所述传送带靠近导料槽一端顶部设置有固定轮，所述固定轮外设置有传导环，所述传导环可在固定轮外部旋转，所述固定轮内部设置有与传导环内壁相连通的导气孔，所述导气孔连接有负压泵，所述的传导环外设置有吸盘，所述传导环内部设置有吸盘相连通的导气槽，所述导气槽随着传导环旋转可与导气孔连通。
[0005]本技术进一步优化为：所述传导环连接有驱动电机。
[0006]本技术进一步优化为：所述的负压泵与导气孔之间通过导气管连通。
[0007]本技术进一步优化为：所述烘干仓内传送带旁设置有鼓风口，所述鼓风口位于传送带侧面，所述传送带表面设置有均匀分布的凸起。
[0008]本技术进一步优化为：所述导料槽高度高于传送带高度,所述的固定轮通过支架与导料槽连接。
[0009]本技术相比现有技术突出且有益的技术效果是：本技术通过传导环上的吸盘将单晶硅片逐个传送至传送带上，之后由传送带传送至烘干仓内，进行烘干，由于传送带表面设置有均匀分布的凸起，凸起可减少单晶硅片与传送带之间的接触面积，实现有效烘干。
附图说明
[0010]图1是本技术的结构示意图；
[0011]图2是本技术的传导环结构示意图I；
[0012]图3是本技术的传导环结构示意图II；
[0013]图4是图1中A处放大示意图；
[0014]图5是图1中B处放大示意图。
[0015]图中：1、烘干仓；2、导料槽；3、传送带；4、固定轮；5、传导环；6、导气孔；7、负压泵；8、吸盘；9、导气槽；10、弹簧；11、挡刷；12、扭簧；13、驱动电机；14、导气管；15、鼓风口；16、凸起；17、支架。
具体实施方式
[0016]为了使本
的人员更好的理解本技术中的技术方案，下面结合本技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
[0017]参考附图1
‑
5，本实施例提供了一种单晶硅片烘干装置，包括烘干仓1，所述的烘干仓1外设置有传送机构，传送机构可将单晶硅片传送至烘干箱内所述传送机构设置有导料槽2和传送带3，待烘干的单晶硅片均匀放置于导料槽2内，所述传送带一端位于导料槽2旁，所述烘干仓1包覆于传送带3 外部，所述烘干仓1内传送带3旁设置有鼓风口15，鼓风口15与外部气源相连接，对传送带3上的单晶硅片进行烘干，所述鼓风口15位于传送带3 侧面，所述传送带3表面设置有均匀分布的凸起16，凸起16可减少单晶硅片与传送带3之间的接触面积，使得单晶硅片与传送带3之间形成间隙，位于侧面的鼓风口15可将气流吹入间隙中，实现有效烘干。
[0018]本实施例中，所述导料槽2高度高于传送带3高度，所述导料槽2靠近传送带3一端设置有开口，所述传送带靠近导料槽2一端顶部设置有固定轮 4，所述的固定轮4通过支架17与导料槽2连接，所述固定轮4外设置有传导环5，所述传导环5连接有驱动电机13，驱动电机13通过减速器连接有驱动齿轮，所述传导环5周围设置有与驱动齿轮相配合的卡齿，卡齿与驱动齿轮啮合连接，驱动电机13通过驱动齿轮可带动传导环5在固定轮4外旋转；
[0019]所述固定轮4内部设置有与传导环5内壁相连通的导气孔6，所述导气孔6连接有负压泵7，所述的负压泵7与导气孔6之间通过导气管14连通，所述的传导环5外设置有吸盘8，所述传导环5内部设置有吸盘8相连通的导气槽9，所述导气槽9延伸至传导环5内壁，且所述导气槽9随着传导环5 旋转可与导气孔6连通，采用此结构，当传导环5旋转至如附图2所示的位置时，导气槽9与导气孔6连通，吸盘8与负压泵7连通，使吸盘8产生负压，可对单晶硅片进行吸附，使单晶硅片随着传导环5旋转，当吸附有单晶硅片的传导环5旋转至如附图3所示位置时，传导环5内壁与封堵在导气孔 6处，使吸盘8的负压消失，单晶硅片从吸盘8上脱落至传送带3上，随着传送带3进入烘干仓1内进行烘干，同时，传导环5继续转动进行下次传送。
[0020]本实施例进一步优化为，所述的导料槽2远离开口一端设置有弹簧10，弹簧10可自动将单晶硅片向传送带3方向传递，使吸盘8始可进行有效吸附，所述导料槽2开口处顶部设置有挡刷11，所述挡刷11通过扭簧12与导料槽 2连接，若吸盘8吸附了两个发生粘连的单晶硅片，当发生粘连的单晶硅片随着吸盘8传送经过挡刷11时，挡刷11可将未被吸附的单晶硅片从吸盘8 上导落，确保每次传送单张单晶硅片，确保烘干效果。
[0021]上述实施例仅为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护
范围之内。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。在本技术说明中所使用的术语，只是为了描述具体得实施方式的目的，不是旨在于限制本技术。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片烘干装置，包括烘干仓(1)，其特征在于，所述的烘干仓(1)外设置有传送机构，所述传送机构设置有导料槽(2)和传送带(3)，所述传送带(3)一端位于导料槽(2)旁，所述烘干仓(1)包覆于传送带(3)外部，所述传送带靠近导料槽(2)一端顶部设置有固定轮(4)，所述固定轮(4)外设置有传导环(5)，所述传导环(5)可在固定轮(4)外部旋转，所述固定轮(4)内部设置有与传导环(5)内壁相连通的导气孔(6)，所述导气孔(6)连接有负压泵(7)，所述的传导环(5)外设置有吸盘(8)，所述传导环(5)内部设置有吸盘(8)相连通的导气槽(9)，所述导气槽(9)延伸至传导环(5)内壁，且所述导气槽(9)随...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜君，李海林，王中国，
申请(专利权)人：曲靖阳光能源硅材料有限公司，
类型：新型
国别省市：