一种真空等离子清洗设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种真空等离子清洗设备，包括罩壳和设置于罩壳内的等离子清洗箱；所述罩壳内还设有位于等离子清洗箱侧面的升降装置和预清理装置；所述升降装置包括第一驱动器和定位板，第一驱动器的数量设为两个，两个第一驱动器分别设置于等离子清洗箱的相对两侧，两个第一驱动器的输出端上均设有定位柱，定位板的两端均设有连接定位柱的定位孔，该定位板处于等离子箱体的正上方；所述预清理装置包括第二驱动器和风刀，风刀安装在第二驱动器的输出端。本实用新型专利技术能够快速将物料板从清洗腔内取出，提高了清洗的效率。提高了清洗的效率。提高了清洗的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种真空等离子清洗设备


[0001]本技术属于清洗设备
，具体涉及一种真空等离子清洗设备。

技术介绍

[0002]等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新清洗技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果；等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。
[0003]目前等离子清洗机常用于半导体领域，可对引线框架、PCB板、晶圆、陶瓷等材料进行清洗，但目前的等离子清洗机在取片时大多是采用人工取片，即人工将待清洗的物料板放置在清洗腔内，清洗完成后再由人工从清洗腔内取出，这样不仅降低了清洗的效率，且增加了大量人工成本，经济效益低下。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是针对上述缺陷，提供一种真空等离子清洗设备，能够快速将物料板从清洗腔内取出，提高了清洗的效率。
[0005]本技术解决其技术问题采用的技术方案如下：
[0006]一种真空等离子清洗设备，包括罩壳和设置于罩壳内的等离子清洗箱；所述罩壳内还设有位于等离子清洗箱侧面的升降装置和预清理装置；所述升降装置包括第一驱动器和定位板，第一驱动器的数量设为两个，两个第一驱动器分别设置于等离子清洗箱的相对两侧，两个第一驱动器的输出端上均设有定位柱，定位板的两端均设有连接定位柱的定位孔，该定位板处于等离子箱体的正上方；所述预清理装置包括第二驱动器和风刀，风刀安装在第二驱动器的输出端。
[0007]进一步地，所述罩壳的表面上设有门板。
[0008]进一步地，所述罩壳的顶部设有排风机。
[0009]进一步地，所述罩壳内还设有抽气泵和气源筒，抽气泵的一端与气源筒相连通，另一端与等离子清洗箱相连通。
[0010]进一步地，所述预清理装置的数量设为两个，两个预清理装置的之间设有高度差。
[0011]进一步地，所述等离子清洗箱内设有用于容置物料板的清洗腔体，清洗腔体的外侧设有安装空间，安装空间内设有相连的等离子枪头和等离子发射器，等离子枪头处于清洗腔体内，等离子发射器与抽气泵相连。
[0012]本技术的有益效果是：
[0013](1)本技术将待清洗的物料板固定在定位板上，然后再将定位板放置在第一驱动器上，通过第一驱动器将物料板移入等离子清洗箱内，清洗完毕后再由第一驱动器将其从等离子清洗箱内取出，结构设计合理，操作简便，能够快速将物料板从清洗腔内取出，提高了清洗的效率。
[0014](2)本技术通过定位柱插入定位孔内实现定位板与第一驱动器的固定，这样
在移动过程中定位板不会脱落，以便于进行清洗的工作。
[0015](3)本技术通过风刀可以对物料板进行预清理，以提高清洗效果。
[0016](4)本技术通过第二驱动器可以对风刀的位置进行调整，已达到合适的位置。
[0017](5)本技术中两个预清理装置之间形成高度差，即一高一低设置，这样可以提高对物料板的清理效果。
附图说明
[0018]通过下面结合附图的详细描述，本技术前述的和其他的目的、特征和优点将变得显而易见。
[0019]图1为本技术的结构示意图；
[0020]图2为图1中省略罩壳后的结构示意图；
[0021]图3为图2另一视角的结构示意图；
[0022]图4为本技术中第一驱动器的结构示意图；
[0023]图5为本技术中定位板的结构示意图；
[0024]其中：罩壳1，等离子清洗箱2、清洗腔体21，抽气泵3，气源筒4，门板5，排风机6，物料板7，等离子枪头8，等离子发射器9，升降装置10，第一驱动器101，定位板102，定位柱103，定位孔104，承载板105，预清理装置11，第二驱动器111，风刀112。
具体实施方式
[0025]下面结合附图对本技术做进一步说明。
[0026]如图1至图5所示的一种真空等离子清洗设备，包括罩壳1和设置于罩壳1内的等离子清洗箱2、抽气泵3和气源筒4。罩壳1的表面上设有门板5，罩壳1的顶部设有排风机6，通过排风机6可以进行排气，保证罩壳1内的气体的流通。本实施例中的等离子清洗箱2内设有用于容置物料板7的清洗腔体21，清洗腔体21的外侧设有安装空间22，安装空间22内设有相连的等离子枪头8和等离子发射器9，等离子枪头的数量根据需要进行设置。等离子枪头8处于清洗腔体21内，等离子发射器9与抽气泵3的一端通过管道相连，抽气泵3的另一端通过管道与气源筒4相连通，通过抽气泵3将气源筒4内的气体传输至等离子发射器9内，然后在通过等离子枪头8喷射出去，对物料板7进行清洗。
[0027]罩壳1内还设有位于等离子清洗箱2侧面的升降装置10和预清理装置11。具体地，升降装置10包括第一驱动器101和定位板102，第一驱动器101的数量设为两个，两个第一驱动器101分别设置于等离子清洗箱2的左右两侧，两个第一驱动器101的输出端上均设有定位柱103，定位板102的两端均设有连接定位柱103的定位孔104，这样不仅能够保证定位板102与第一驱动器101固定连接，又方便定位板102的放置和取走，操作极为方便，另外，定位柱103上还设有承载板105，该承载板105用于支撑定位板102，避免其晃动，从而保证其稳定性。该定位板102处于等离子箱体2中清洗腔体21的正上方，这样便于将物料板移入清洗腔体内，通过第一驱动器的下降，使得定位板上的物料板进入清洗腔体内，清洗完毕后，通过第一驱动器的上升实现物料板的快速取出，减少了人工成本，提高了清洗效率。要说明的是，实际操作中，可以准备多个定位板，多个定位板均与待清洗的物料板预先固定连接好，然后再依次地放置在第一驱动器上，等清洗完毕后在进行拆解。这样能够提高工作效率。
[0028]预清理装置11的数量设为两个，两个预清理装置11分别安装在等离子清洗箱2的前后两侧，两个预清理装置11的之间设有高度差，如一高一低设置，这样可以提高清洗效果。具体地，预清理装置11包括第二驱动器111和风刀112，风刀112安装在第二驱动器的输出端，风刀112的风口朝向物料板7。本实施例中的第一驱动器和第二驱动器均为气缸。
[0029]要说明的是，本实施例中的等离子枪头、等离子发射器、抽气泵、升降装置10和预清理装置11均是由外部的PLC控制器自动控制的。
[0030]以上所述，仅是本技术的较佳实施例，并非对本技术做任何形式上的限制，凡是依据本技术的技术实质上对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化，均落入本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空等离子清洗设备，其特征在于：包括罩壳和设置于罩壳内的等离子清洗箱；所述罩壳内还设有位于等离子清洗箱侧面的升降装置和预清理装置；所述升降装置包括第一驱动器和定位板，第一驱动器的数量设为两个，两个第一驱动器分别设置于等离子清洗箱的相对两侧，两个第一驱动器的输出端上均设有定位柱，定位板的两端均设有连接定位柱的定位孔，该定位板处于等离子箱体的正上方；所述预清理装置包括第二驱动器和风刀，风刀安装在第二驱动器的输出端。2.根据权利要求1所述的一种真空等离子清洗设备，其特征在于：所述罩壳的表面上设有门板。3.根据权利要求1所述的一种真空等离子清洗设备，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈代国，
申请(专利权)人：湖南钦泽环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：