【技术实现步骤摘要】
一种膜层球磨仪
[0001]本技术涉及PVD真空镀膜的膜层检测应用领域,尤其是一种膜层球磨仪。
技术介绍
[0002]PVD(Physical Vapor Deposition)指物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程,它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。
[0003]目前,在某些产品的制造中,产品在喷涂上PVD膜层后无法监测质量,需要去除某一位置处的PVD膜层作为监测点进行检测,在现有设备打磨PVD膜层后,会在设备上留下大量残渣,而现有设备本身拆装困难不便清洗,且运作时会产生震动,影响打磨的细腻程度,对结果产生影响,所以现需要一种便于拆装且减震的膜层球磨仪。
技术实现思路
[0004]解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足,本技术提供了一种膜层球磨仪。
[0006]技术方案
[0007]一种膜层球磨仪,包括球磨仪本体、连接装置、接收装置和减震装置, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种膜层球磨仪,包括球磨仪本体(1)、连接装置(2)、接收装置(3)和减震装置(4),所述球磨仪本体(1)内部安装有连接装置(2)和接收装置(3),所述球磨仪本体(1)底部设置有减震装置(4),其特征在于:所述底座(101)上表面焊接有若干连接板(201),所述连接板(201)一表面安装有第一限位块(202),所述底座(101)上表面设置有基座(109)和若干轴承座(102),所述轴承座(102)一表面开设有凹槽(307),所述凹槽(307)内部周侧面连接有支撑块(302)和若干阻块(305),所述支撑块(302)一表面设置有第二限位块(301),所述支撑块(302)另一表面焊接有弹簧(303)和衔接柱(304),所述衔接柱(304)上表面安装有拉伸按钮(306),所述弹簧(303)另一端和阻块(305)连接。2.根据权利要求1所述的一种膜层球磨仪,其特征在于:所述第一限位块(202)和第二限位块(301)卡合配合,所述第二限位块(301)、支撑块(302)、弹簧(303)、衔接柱(304)和阻块(305)均位于凹槽(307)内。3.根据权利要求1所述的一种膜层球磨仪,其特征在于:所述底座(101)内部开设有减震槽(401),所述减震槽(401)底面安装有若干下减震板(4...
【专利技术属性】
技术研发人员:王叔晖,沈平,孟庆学,
申请(专利权)人:法德浙江机械科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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