【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】肖特基势垒型红外光电探测器
[0001]本专利技术涉及一种用于探测红外辐射的红外光电探测装置,以及一种制造这种装置的方法。
技术介绍
[0002]光电探测是使用装置来探测入射到装置上的电磁辐射,通常是通过测量光子被吸收时通过装置产生的电流。通过吸收光子产生的电流称为光电流。本专利技术旨在改进红外辐射的光电探测。
[0003]金属和半导体紧密接触的金属/半导体结通常会形成肖特基势垒。肖特基势垒具有整流特性,因此可以用作二极管。这是一种非欧姆电接触形式,其中在施加正向偏压或反向偏压时电阻不同。这与会在紧密接触的两种金属之间形成的欧姆接触不同,欧姆接触在正向或反向偏压下电阻没有差异。
[0004]从所谓的热载流子肖特基势垒结中的光吸收中提取高能载流子是一个活跃的研究领域,因为它可以收集半导体光电探测器通常无法探测到的低光子能量。以硅光电探测器(带隙能量为1.1eV)为例,肖特基势垒装置(pSi/nSi)的开发可以产生适用于具有电信波长(1100
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1600nm)的光子的商用锗和砷化镓(GaAs)光电探测器的高度集成的CMOS兼容且廉价的替代方案。
[0005]以前的装置利用p型和n型半导体之间的标准p
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n结,以在光照下实现电荷分离,从而实现可探测的光电流。其他装置已经利用金属或金属氧化物吸收体层,其中金属氧化物对于高能量(即UV)光子吸收特别感兴趣。
[0006]Yu和Wang,Sensors 2010,10,10155
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10180公 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于探测波长为700nm以上的红外辐射的红外光电探测装置,包括:由具有带隙的非金属材料构成的载流子传输构件;位于所述载流子传输构件一侧的吸收体,所述吸收体为金属材料,其中当红外辐射被吸收时在所述吸收体中激发电子
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空穴对;以及位于所述载流子传输构件另一侧的半导体,所述半导体与所述载流子传输构件电接触;并且其中所述载流子传输构件包含陷阱态,使得由红外辐射在所述吸收体中激发的多数载流子经由所述陷阱态传导通过所述载流子传输构件以被所述半导体收集。2.根据权利要求1所述的红外光电探测装置,其中所述半导体与所述吸收体之间的所述载流子传输构件的厚度为50nm以下,优选为30nm以下,更优选为20nm以下,进一步优选为10nm以下,最优选为5nm以下。3.根据权利要求1或2所述的红外光电探测装置,其中耗尽区存在于所述载流子传输构件中,与所述半导体相邻。4.根据权利要求3所述的红外光电探测装置,其中所述半导体和所述吸收体之间的所述载流子传输构件的厚度不超过所述载流子传输构件中所述耗尽区厚度的5倍,优选不超过所述载流子传输构件中所述耗尽区厚度的2倍,更优选不超过所述载流子传输构件中所述耗尽区厚度的1.5倍。5.根据权利要求1至4中任一项所述的红外光电探测装置,其中,所述载流子传输构件的带隙等于或大于所述半导体的带隙。6.根据权利要求1至5中任一项所述的红外光电探测装置,其中所述载流子传输构件是非晶材料。7.根据权利要求1至6中任一项所述的红外光电探测装置,其中,所述载流子传输构件是被溅射的。8.根据权利要求1至7中任一项所述的红外光电探测装置,其中所述载流子传输构件是金属氧化物材料。9.根据权利要求8所述的红外光电探测装置,其中所述金属氧化物材料为TiO2‑
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。10.根据权利要求1或9中任一项所述的红外光电探测装置,其中所述载流子传输构件具有5%以上、优选10%以上、更优选15%以上且最优选20%以上的氧的亚化学计量比。11.根据权利要求1至10中任一项所述的红外光电探测装置,其中所述红外辐射的波长为1100nm以上,优选为1150nm以上,更优选为1200nm以上。12.根据权利要求1至11中任一项所述的红外光电探测装置,其中所述红外辐射的波长为1mm以下,优选为15μm以下,更优选为8μm以下,更优选为3μm以下,更优选为1600nm以下,更优选为1400nm以下,最优选为1350nm以下。13.根据权利要求1至12中任一项所述的红外光电探测装置,其中所述吸收体被布置为具有彼此平行且在二维方向上延伸的两个主表面,所述两个主表面之一与所述载流子传输构件接触,所述两个...
【专利技术属性】
技术研发人员:尼古拉斯,
申请(专利权)人:帝国理工学院创新有限公司,
类型:发明
国别省市:
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