【技术实现步骤摘要】
光学系统透过率检测装置及光学系统透过率检测方法
[0001]本专利技术涉及光学系统性能检测领域，特别涉及一种光学系统透过率检测装置及光学系统透过率检测方法。
技术介绍
[0002]透过率是对物镜组件的辐射光通量反映和成像质量评价的一个重要参考量，因此对其进行的测量非常重要。
[0003]在现有的物镜组件透过率的检测装置中，采用分光镜将入射光一分为二，一束作为测试光经过待测物镜组件后被探测光测量单元所探测，而另一束则作为参考光被参考光测量单元所探测，再通过对比二者的比值即可获得待测物镜组件的透过率。但在该检测装置中，入射光源、分光镜和参考光测量单元位于待测物镜组件的一侧，而探测光测量单元位于待测物镜组件的另一侧，导致关键探测部件空间上分散，不利于电气一体化设计。此外，测试光经过待测物镜组件后，其出射光会受待测物镜组件特性(例如出射数值孔径过大、像距较短、像方空间较小、视场较大等)的影响，探测光测量单元需要进行相应的匹配性设计，可能会造成设计难度、空间需求及设计成本的增加，同时装置的通用性和适用性较差。另外，测试精度受测...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学系统透过率检测装置，其特征在于，包括：光路调整单元，包括分光镜和反射器，所述分光镜和所述反射器分别设置于待测物镜组件的两侧，所述分光镜用于将入射光分为透射的初次探测光和反射的参考光，所述反射器用于对初次经过所述待测物镜组件的所述初次探测光进行反射，以形成反射探测光，且所述反射探测光能再次经过所述待测物镜组件后到达探测光测量单元；探测光测量单元，用于对所述反射探测光进行检测；以及，参考光测量单元，用于对所述参考光进行检测；所述探测光测量单元和所述参考光测量单元位于所述待测物镜组件的同一侧。2.如权利要求1所述的光学系统透过率检测装置，其特征在于，经所述分光镜透射的所述初次探测光与再次经过所述待测物镜组件后的所述反射探测光均会聚于所述待测物镜组件的物面。3.如权利要求1所述的光学系统透过率检测装置，其特征在于，所述光路调整单元还包括：设置于所述分光镜的背向所述反射器一侧的针孔挡板，所述针孔挡板具有针孔，并用于减小到达所述反射器上的所述初次探测光的光斑。4.如权利要求3所述的光学系统透过率检测装置，其特征在于，所述光路调整单元还包括：设置于所述针孔挡板和所述分光镜之间的扩束组件，所述扩束组件用于对所述入射光进行扩束。5.如权利要求4所述的光学系统透过率检测装置，其特征在于，所述光路调整单元还包括：设置于所述扩束组件和所述分光镜之间的孔径光阑，所述孔径光阑用于调节经所述扩束组件扩束后的所述入射光的束宽。6.如权利要求5所述的光学系统透过率检测装置，其特征在于，所述光路调整单元还包括：设置于所述分光镜和所述待测物镜组件之间的第一会聚组件，所述第一会聚组件用于会聚所述分光镜透射的所述初次探测光，以使得会聚后的所述初次探测光的发散角小于所述待测物镜组件的物方数值孔径角。7.如权利要求1所述的光学系统透过率检测装置，其特征在于，所述探测光测量单元包括第二会聚组件、第一消杂光阑和第一探测器，所述第二会聚组件用于将所述分光镜反射的所述反射探测光会聚于所述第一消杂光阑上，所述反射探测光经所述第一消杂光阑消除杂散光后被所述第一探测器所检测。8.如权利要求1所述的光学系统透过率检测装置，其特征在于，所述参考光测量单元包括第三会聚组件、第二消杂光阑和第二探测器，所述第三会聚组件用于将所述分光镜反射的所述参考光会聚于所述第二消杂光阑上，所述参考光经所述第二消杂光阑消除杂散光后被所述第二探测器所检测。9.如权利要求1所述的光学系统透过率检测装置，其特征在于，所述光学系统透过率检测装置还包括第一位置调整单元，用于同时在垂直于系统光轴的方向上移动所述分光镜、探测光测量单元和参考光测量单元，以实现整个视场的透过率均匀性的检测。10....
【专利技术属性】
技术研发人员：李天鹏，侯宝路，杨若霁，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。