【技术实现步骤摘要】
一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备
[0001]本技术涉及高纯化学品
，具体涉及一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备。
技术介绍
[0002]八甲基环四硅氧烷(octamethylcyclotetrasiloxane，OMCTS)是一种无色无味、无毒、无腐蚀性的有机硅材料。自20世纪九十年代，国内外光纤企业相继开展将八甲基环四硅氧烷应用于环保型光纤预制棒生产的技术研究。近年来，随着5G以及半导体行业的发展，八甲基环四硅氧烷作为一种与大笼状有机硅结构相似的含硅大环化合物的前驱体，其独特的性能在集成电路用低介电常数材料的研发生产中也具有较高的应用价值。然而，无论应用于光纤还是半导体，其对金属杂含量水平要求较高，一般要求达到ppb级。
[0003]在美国专利文献US20110259818A1中，公开了将由环烯烃共聚物或环烯烃聚合物组成的熔喷非织造基材制成液体净化的过滤介质，通过向该过滤介质上引入离子交换基团或者螯合基团使其具有过滤掉金属杂质的能力。该方法虽能有效去除八甲基环四硅氧烷中的金属杂质，但由于该过滤...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，其特征在于，所述设备包括吸附
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萃取反应釜、第一分离罐、第二分离罐、第三分离罐、精馏塔；所述吸附
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萃取反应釜设有吸附剂入口、原料及萃取剂入口、上层清液出口、乳化混合液出口；所述第一分离罐设有乳化混合液入口和罐底分液口，其中，所述乳化混合液入口与所述乳化混合液出口相连通；所述第二分离罐设有上层清液入口、八甲基环四硅氧烷出口和残留液出口，其中，所述上层清液入口与所述上层清液出口相连通，所述八甲基环四硅氧烷出口与所述精馏塔相连通；所述第三分离罐设有混合液入口和八甲基环四硅氧烷回收出口；其中，所述混合液入口分别与所述罐底分液口和所述残留液出口相连通；所述八甲基环四硅氧烷回收出口与所述上层清液入口相连通。2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第三分离罐的直径小于所述第一分离罐和/或第二分离罐的直径。3.如权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第三分离罐的直径小于所述第一分离罐和/或第二分离罐的直径的二...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒲云平，赵强，胡通，莫杰，冯晓青，纪淼，宁红锋，
申请(专利权)人：有研国晶辉新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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