分析装置、分析方法及程序制造方法及图纸

提供减小与比色皿台的加减速时相伴的对测光造成的不良影响的分析装置、分析方法及程序。驱动部对以环状配置多个比色皿的比色皿台进行驱动以使其进行静止状态和旋转状态交替反复的间歇旋转，在比色皿台每次进行该间歇旋转时，使多个比色皿的列每次以规定数量的比色皿的数量沿环状方向位移。在静止状态下，预处理部对在预处理位置处静止的比色皿进行预处理，后处理部对在后处理位置处静止的比色皿进行后处理。在旋转状态下，测光部对经过测光位置的比色皿进行测光。控制部对驱动部进行控制，以在预处理位置处静止的比色皿从预处理完成后直到在后处理位置处静止为止的旋转状态下，使该比色皿在每次经过测光位置时以一定的旋转速度经过该测光位置。旋转速度经过该测光位置。旋转速度经过该测光位置。

【技术实现步骤摘要】
分析装置、分析方法及程序


[0001]本专利技术涉及对被检体与试剂的反应液进行分析的分析装置、分析方法及程序。

技术介绍

[0002]以往，已知通过使被检体与试剂反应从而对该被检体中的成分进行分析的分析装置。在这种分析装置中，将收容了被检体及试剂的多个比色皿在比色皿台上以环状配置并使比色皿台旋转，使比色皿经过位于隔着比色皿配置的光源与分光检测器之间的测光位置。此时，对从光源照射并透射比色皿上的被照射区域的光的光量进行测定(以下表现为测光)，从而对被检体中的成分进行分析。测光对于相同的比色皿进行多次，被检体中的成分的分析值基于多次测光的测光值被计算。
[0003]在专利文献1中，公开了自动地进行这样的一系列工序的分析装置。即，在专利文献1所记载的分析装置中，在使比色皿台间歇旋转的期间，对于相同的比色皿，在与各个工序对应的分析装置上的各个位置处进行清洗、被检体的分注、试剂的分注、搅拌及反应液的测光等各种工序。
[0004]在先技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开平8
‑
304413号公报

技术实现思路

[0007]本专利技术要解决的课题
[0008]在使比色皿台反复间歇旋转的方式中，在比色皿台刚开始旋转后和刚要结束旋转前，存在比色皿台的旋转速度未成为一定的期间(定时)。关于在该期间内经过分析装置上的测光位置的比色皿，存在如下问题：与比色皿台的旋转的加速时或者减速时产生的惯性相伴的旋转偏差(例如旋转延迟或者旋转超前等)对比色皿上的被照射区域造成影响，结果比色皿上的被照射区域从期望的位置偏离。
[0009]测光对于相同的比色皿进行多次。为了更加准确地计算被检体中的成分的分析值，希望在每次经过分析装置上的测光位置进行测光时，对于相同的比色皿上的相同的被照射区域准确地进行测光。但是，如果比色皿上的被照射区域偏差，则测光值产生偏差，计算被检体中的成分的分析值的精度降低。
[0010]本专利技术的目的在于，提供减小与比色皿台的旋转的加速时或者减速时相伴的对测光造成的不良影响的分析装置、分析方法及程序。
[0011]用于解决课题的手段
[0012]本专利技术所涉及的分析装置的特征在于，具备：以环状配置多个比色皿的比色皿台；驱动部，对所述比色皿台进行驱动以使其进行静止状态和旋转状态交替反复的间歇旋转，在所述比色皿台每次进行该间歇旋转时，使所述多个比色皿的列每次以规定数量的比色皿的数量沿环状方向位移；预处理部，在所述静止状态下，对所述多个比色皿之中的在预处理
位置处静止的所述比色皿进行预处理；后处理部，在所述静止状态下，对所述多个比色皿之中的在后处理位置处静止的所述比色皿进行后处理；测光部，在所述旋转状态下，对经过测光位置的所述比色皿进行测光；以及控制部，对所述驱动部进行控制，以在所述预处理位置处静止的比色皿从所述预处理完成后直到在所述后处理位置处静止为止的所述旋转状态下，使该比色皿每次经过所述测光位置时以一定的旋转速度经过该测光位置。
[0013]专利技术效果
[0014]根据本专利技术，能够提供减小与比色皿台的旋转的加速时或者减速时相伴的对测光造成的不良影响的分析装置、分析方法及程序。
附图说明
[0015]图1是表示本专利技术的第1实施方式所涉及的分析装置1的概略性的构成的平面图。
[0016]图2是表示本专利技术的第1实施方式所涉及的分析装置1所具备的比色皿台3、驱动部4及测光部5的构成的平面图。
[0017]图3是本专利技术的第1实施方式所涉及的分析装置1的功能框图。
[0018]图4是表示本专利技术的第1实施方式所涉及的分析装置1对于比色皿2的列进行的分析工序的流程图。
[0019]图5是表示在第1实施方式中比色皿台3进行间歇旋转之前的比色皿2的列的初始配置的示意图。
[0020]图6是表示在第1实施方式中比色皿台3进行了1时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0021]图7是表示在第1实施方式中比色皿台3进行了2时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0022]图8是表示在第1实施方式中比色皿台3进行了3时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0023]图9是表示在第1实施方式中比色皿台3进行了20时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0024]图10是表示在第1实施方式中比色皿台3进行了21时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0025]图11是表示在第1实施方式中比色皿台3进行了25时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0026]图12是表示在第2实施方式中比色皿台3进行间歇旋转之前的比色皿2的列的初始配置的示意图。
[0027]图13是表示在第2实施方式中比色皿台3进行了1时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0028]图14是表示在第2实施方式中比色皿台3进行了2时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0029]图15是表示在第2实施方式中比色皿台3进行了3时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0030]图16是表示在第2实施方式中比色皿台3进行了5时序的动作之后的比色皿2的列
的配置的示意图。
[0031]图17是表示在第2实施方式中比色皿台3进行了6时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0032]图18是表示在第2实施方式中比色皿台3进行了20时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0033]图19是表示在第2实施方式中比色皿台3进行了21时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0034]图20是表示在第2实施方式中比色皿台3进行了25时序的动作之后的比色皿2的列的配置的示意图。
[0035]附图标记说明：
[0036]1ꢀꢀ
分析装置
[0037]2ꢀꢀ
比色皿
[0038]3ꢀꢀ
比色皿台
[0039]4ꢀꢀ
驱动部
[0040]5ꢀꢀ
测光部(DTR)
[0041]5p 测光位置
[0042]6ꢀꢀ
预处理部
[0043]6p 预处理位置
[0044]7ꢀꢀ
后处理部(Wa、Wb)
[0045]7p 后处理位置
[0046]8ꢀꢀ
控制部
[0047]9ꢀꢀ
显示部
[0048]11 被检体库
[0049]12 第1试剂库
[0050]13 第2试剂库
[0051]21 被检体库驱动部
[0052]22 第1试剂库驱动部
[0053]23 第2试剂库驱动部
[0054]41 驱动齿轮
[0055]42 从动齿轮
[0056]43 步进马达
[0057]51 光源
[0058]52 受本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分析装置，具备：以环状配置多个比色皿的比色皿台；驱动部，对所述比色皿台进行驱动以使其进行静止状态和旋转状态交替反复的间歇旋转，在所述比色皿台每次进行该间歇旋转时，使所述多个比色皿的列每次以规定数量的比色皿的数量沿环状方向位移；预处理部，在所述静止状态下，对所述多个比色皿之中的在预处理位置处静止的所述比色皿进行预处理；后处理部，在所述静止状态下，对所述多个比色皿之中的在后处理位置处静止的所述比色皿进行后处理；测光部，在所述旋转状态下，对经过测光位置的所述比色皿进行测光；以及控制部，对所述驱动部进行控制，以在所述预处理位置处静止的比色皿从所述预处理完成后直到在所述后处理位置处静止为止的所述旋转状态下，使该比色皿在每次经过所述测光位置时以一定的旋转速度经过该测光位置。2.一种分析装置，具备：以环状配置多个比色皿的比色皿台；驱动部，对所述比色皿台进行驱动以使其进行静止状态和旋转状态交替反复的间歇旋转，在所述比色皿台每次进行该间歇旋转时，使所述多个比色皿的列每次以规定数量的比色皿的数量沿环状方向位移；预处理部，在所述静止状态下，对所述多个比色皿之中的在预处理位置处静止的所述比色皿进行预处理；后处理部，在所述静止状态下，对所述多个比色皿之中的在后处理位置处静止的所述比色皿进行后处理；以及测光部，在所述旋转状态下，对经过测光位置的所述比色皿进行测光，所述测光部的加减速静止位置与后处理部中的后处理位置处于以至少一次间歇旋转的位移量相离的配置关系。3.一种分析装置，具备：以环状配置多个比色皿的比色皿台；驱动部，对所述比色皿台进行驱动以使其进行静止状态和旋转状态交替反复的间歇旋转，在所述比色皿台每次进行该间歇旋转时，使所述多个比色皿的列每次以规定数量的比色皿的数量沿环状方向位移；预处理部，在所述静止状态下，对所述多个比色皿之中的在预处理位置处静止的所述比色皿进行预处理；后处理部，在所述静止状态下，对所述多个比色皿之中的在后处理位置处静止的所述比色皿进行后处理；以及测光部，在所述旋转状态下，对经过测光位置的所述比色皿进行测光，所述测光部的加减速静止位置与预处理部中的预处理位置处于以至少一次间歇旋转的位移量相离的配置关系。4.如权利要求1至权利要求3中任一项所述的分析装置，所述预处理部包含搅拌部，
所述预处理是对所述比色皿的反应液进行搅拌的搅拌处理，所述预处理位置是进行所述搅拌处理的搅拌位置。5.如权利要求1至权利要求3中任一项所述的分析装置，所述预处理部包含分注部，所述预处理是向所述比色皿分注被检体或者试剂的分注处理，所述预处理位置是进行所述分注处理的分注位置。6.如权利要求1至权利要求5中任一项所述的分析装置，所述后处理部包含比色皿清洗部，所述后处理是对所述比色皿进行清洗的清洗处理，所述后处理位置是进行所述清洗处理的清洗位置。7.如权利要求1至权利要求5中任一项所述的分析装置，所述后处理部包含比色皿废弃部，所述后处理是将所述比色皿废弃的废弃处理，所述后处理位置是进行所述废弃处理的废弃位置。8.权利要求1至权利要求7中任一项所述的分析装置，在所述比色皿以所述一定的旋转速度经过所述测光位置的所述旋转状态下，包含该比色皿在内的在所述环状方向上前后相邻的特定数量的所述比色皿以所述一定的旋转速度经过所述测光位置，所述特定数量的比色皿的数量为：从所述规定数量的比色皿的数量中，减去在所述静止状态下在所述测光位置处静止的比色皿的数量以及在所述旋转状态下在所述比色皿台的旋转的加速时或者减速时经过所述测光位置的比色皿的数量而得到的数量。9.如权利要求1至权利要求8中任一项所述的分析装置，所述预处理部具备：第1预处理部，对在所述预处理位置中包含的第1预处理位置处静止的第1比色皿进行预处理；以及第2预处理部，对在所述预处理位置...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈岛善史，
申请(专利权)人：古野电气株式会社，
类型：发明
国别省市：