量子点发光器件及其制备方法技术

技术编号:30792114 阅读:22 留言:0更新日期:2021-11-16 07:55
本申请提供一种量子点发光器件,属于量子点发光技术领域。该量子点发光器件的空穴传输层包括空穴传输材料主体以及Cu(I)

【技术实现步骤摘要】
量子点发光器件及其制备方法


[0001]本申请涉及量子点发光
,具体而言,涉及一种量子点发光器件及其制备方法。

技术介绍

[0002]在显示材料领域,量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes,简称QLED)由于其自身高色阈、高亮度和窄峰宽的特点,在平板显示和固态照明等领域都有着广泛的应用前景。
[0003]在量子点发光器件的工作中,主要包括载流子注入、载流子传输、激子的形成与复合等过程。器件发光效率是量子点发光器件的重要指标,目前的量子点发光器件,电子传输层的传输性能通常远高于空穴传输层,使得器件整体的电荷传输不平衡,从而限制了器件的发光效率。

技术实现思路

[0004]本申请的目的在于提供一种量子点发光器件及其制备方法,能够有效提高量子点发光器件的发光效率。
[0005]本申请的实施例是这样实现的:
[0006]第一方面,本申请实施例提供一种量子点发光器件,该量子点发光器件的空穴传输层包括:空穴传输材料主体以及Cu(I)
‑<br/>卤代配合物;本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种量子点发光器件,其特征在于,所述量子点发光器件的空穴传输层包括:空穴传输材料主体;以及Cu(I)

卤代配合物,分散于所述空穴传输材料主体中。2.根据权利要求1所述的量子点发光器件,其特征在于,所述Cu(I)

卤代配合物为中性配合物,和/或,所述Cu(I)

卤代配合物中的卤素为Cl、Br或者I。3.根据权利要求1所述的量子点发光器件,其特征在于,所述Cu(I)

卤代配合物与所述空穴传输材料主体的质量比为(1~10):100。4.根据权利要求1~3任一项所述的量子点发光器件,其特征在于,所述空穴传输材料主体的材料为NPB、NDDP、TTP、PVK、TAPC、TPD、DMFL

NPB、HMTPD、PAPB、2

TNATA、p

DPA

TDAB、TQTPA、Spiro

NPB、Spiro

BPA、Spiro

TAD、NPBAPF、TcTa和2

2'

Spiro

DBP中的一种或多种;可选地,所述空穴传输材料主体的材料为PVK。5.根据权利要求1~3任一项所述的量子点发光器件,其特征在于,所述量子点发光器件的量子点发光层的量子点材料为无镉...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒋畅
申请(专利权)人:合肥福纳科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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