头滑动器制造技术

本发明专利技术提供了一种头滑动器，其用于通过采用微小光斑照射记录介质的磁记录。头滑动器包括：滑动器主体，其具有面对记录介质的底表面和与所述底表面相反的顶表面；光学头，其设置在所述滑动器主体中，以用光照射所述记录介质；以及光学层，其传播从外部供应的光，并且将所述光引导到所述光学头。所述光学层沿形成在所述滑动器主体的一部分中的弯曲表面弯曲，以形成弯曲的光传播路径。

【技术实现步骤摘要】

在此公开的实施例涉及用于通过微小光斑照射记录介质进行磁记录的 磁记录器的头滑动器。
技术介绍
在目前的磁盘设备中，为了增大设备每单元的存储容量，多个记录介 质在旋转轴上堆叠，并且多个磁头被用于记录/读出。为了进一步增大存储 容量，必须通过提高记录介质中的记录密度来增大每个记录介质的存储容 量。记录介质的记录方法正从纵向记录方法变为垂直记录方法，进一步提 高了每个记录介质的记录密度。记录材料中的磁记录部分的晶粒也趋向于 被不断制造得更细。随着记录材料的晶粒被制造得更细，可能产生诸如由于超顺磁性效应 导致的记录信息的消失之类的问题。超顺磁性效应导致介质的所谓热衰 减。热辅助记录方法被认为是解决此热衰减温度的方法。在常温下具有强 矫顽磁力的记录材料被用于热辅助记录方法。在此情况下，通过在记录时 加热记录介质的记录区域来减小矫顽磁力，暂时使得由来自磁头中的写头 元件的磁场进行的写操作更容易，从而避免常温下记录的消失。激光通常 被用于热辅助记录方法，来以非接触方式加热记录介质，因此，必须在浮 动滑动器上安装用于以微小光斑照射记录介质的光学头。对于这样的光学头，可以考虑其中光源被安装在浮动滑动器上的构造 和其中光源被布置在浮动滑块外部的构造。在此，如果半导体激光器被用 作光源，则伴随激光激发的生热产生问题。就是说，由半导体激光器产生 的热被释放到周围，导致安装在浮动滑动器上的磁头的读头元件和写头元 件的特性劣化。因此，需要用于将来自布置在浮动滑动器外部的光源的光 通量传播到浮动滑动器的光学头的装置。已经提出了通过由抛物面折射平行于记录介质传播的光来偏转经聚集 的光并且将传播方向改向记录介质的技术，以将平行于记录介质传播的光 耦合到处于浮动滑动器的端面的光学器件(例如参见专利文件1:日本专利申请特开No. 60-224139)。并且，已经提出了通过由抛物面折射平行于 记录介质传播的光来偏转经聚集的光并且将传播方向改向记录介质的技术 (例如参见专利文件2:日本专利申请特开No. 2000-298802)。此外，已经提出了将平行于记录介质布置的光纤经由反射镜折射一次之后耦合到光 栅的技术(例如参见专利文件3:日本专利申请特开No. 2006-179169)。为了通过光实现热辅助记录，必须将光学头安装得更靠近常规的磁 头，并且还必须将足够量的光供应到光学头，以加热记录介质。为此，需 要用于将来自光源的光高效率供应到光学头的装置。并且，光学头需要满 足与磁头的相似的环境规范，以将光热辅助记录应用于常规的磁记录设 备。在上述的专利文件1中，在浮动滑动器的后表面通过将光纤弯曲90 度，光纤被耦合到光学头。光纤由芯和包覆构成，并且芯和包覆之间的折 射率的差为百分之几。因此，存在光的闭锁效应弱并且由于弯曲导致的光 的传播损耗量大。而且，即使损耗是可容许的，弯曲半径也必须为数十毫 米或更大，以便以芯不破裂的方式弯曲光纤。但是，在目前的磁盘设备 中，多个记录介质在旋转轴上堆叠，以增大设备的记录容量。因为记录介 质之间的间距小到数毫米，所以难以通过弯曲光纤来对其进行布置。自然 地，如果减小记录介质的数量，光纤可以被布置，但是记录容量由于记录 介质的数量而减小了，并且由此，通过热辅助记录方法改善记录密度的优 点被抵消了。在上述专利文件2中，抛物面反射镜被设置在浮动滑动器的顶表面 上，用自由空间中的平行光照射抛物面反射镜，并且聚集光，光通过折射 被偏转90度。在此构造中，浮动滑动器自身的结构必须被改变。而且， 由于抛物面反射镜的空气阻力，该结构不能保持滑动器的稳定浮动。此 外，虽然抛物面反射镜具有不会受到诸如光源的波长波动之类的问题的影 响的优点，但是光不能被聚集到抛物面反射镜的焦点位置，除非入射与光轴完全平行的光。因此，因为浮动滑动器通过臂的摆动驱动在记录介质上 移动并且产生入射角度的波动，所以很难将平行光供应到浮动滑动器。在上述专利文件3中，从与记录介质和浮动滑动器的顶表面平行布置 的光纤发射的光通过在耦合之前由处于滑动器的后表面上的光栅镜面折射以实现90度的偏转，来照射浮动滑动器的后表面。光栅具有二维结构， 因此可以有利地通过与用于制造其它磁头的相似的工艺来制造，并被耦合 到细芯上。但是，光栅具有易受波长波动和入射角度波动影响的缺点。激 光二极管(LD)目前正被考察作为安装在磁记录设备中的光源。工作温度 导致波长波动，并且各个LD的激发波长存在差异。因此，对于各个光学 头需要进行入射角度微调，并且必须控制LD的环境温度。如同专利文件 2，入射角度由于臂的摆动驱动而可能波动，因此，存在由于反射镜的折 射而难以调节或保证入射角度的温度。本专利技术的目的是提供一种头滑动器，其能够通过在头滑动器中形成弯 曲的传播路径而将光引导到光学头。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面，头滑动器包括滑动器主体，其具有面对记 录介质的底表面和与所述底表面相反的顶表面；光学头，其设置在所述滑 动器主体中，以用光照射所述记录介质；以及光学层，其传播从外部供应的光，并且将所述光引导到所述光学头。所述光学层沿形成在所述滑动器 主体的一部分中的弯曲表面弯曲，以形成弯曲的光传播路径。附图说明图1是根据本专利技术的第一实施例的头滑动器的剖视图； 图2是根据本专利技术的第一实施例的头滑动器的透视图； 图3是光学层的剖视图4是在多层结构中具有芯层的光学层的剖视图； 图5是具有光聚集功能的光学层的剖视图； 图6是光波导的剖视图；图7A和7B是用于说明光学层的形成方法的光学层的剖视图； 图8是根据本专利技术的第二实施例的头滑动器的剖视图-,图9是说明在滑动器主体形成沟槽的加工方法的截面图IO是根据本专利技术的第三实施例的头滑动器的剖视图11是根据本专利技术的第四实施例的头滑动器的剖视图12是根据本专利技术的第五实施例的头滑动器的剖视图13是根据本专利技术的第六实施例的头滑动器的剖视图14是根据本专利技术的第七实施例的头滑动器的剖视图；以及图15是根据本专利技术的第七实施例的头滑动器的透视图。具体实施例方式参考附图描述本专利技术的实施例。首先，参考图1和图2描述根据本专利技术的第一实施例的头滑动器。图 1是根据本专利技术的第一实施例的头滑动器的剖视图。图2是根据本专利技术第一实施例的头滑动器的透视图。图1所示的头滑动器具有滑动器主体10、读头元件11、写头元件12 和光学头13。本实施例中的头滑动器是用于热辅助磁记录/读出的头滑动 器。读头元件ll由诸如GMR (巨磁阻效应元件)和TMR (穿隧磁阻效应 元件)的磁阻器件制成。写头元件12由感应线圈和磁轭构成。光学头13 被设置来用光垂直地照射诸如磁盘的记录介质14，以局部加热记录介质 14。滑动器主体10具有底表面10a和处于底表面10a相反一侧的顶表面 10b，所述底表面10a形成与记录介质14相对的空气承载表面(ABS)并 浮动在记录介质14上方。前表面10c和后表面10d在底表面10a和顶表面 10b之间延伸。磁头由读头元件ll和写头元件12构成。读头元件11、写 头元件12和光学头13被形成在滑动器主体IO的后表面10d的底表面10a作为常平架安装构件的两个填充板15被固定到滑动器主体10的顶表 面10b。在安装在头悬架16上的常平架(gimbal) 17由填充板1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种头滑动器，包括：　滑动器主体，其具有面对记录介质的底表面和与所述底表面相反的顶表面；　光学头，其设置在所述滑动器主体中，以用光照射所述记录介质；以及　光学层，其传播从外部供应的光，并且将所述光引导到所述光学头，　 其中，所述光学层沿形成在所述滑动器主体的一部分中的弯曲表面弯曲，以形成弯曲的光传播路径。

【技术特征摘要】
JP 2007-10-12 2007-2660981.一种头滑动器，包括滑动器主体，其具有面对记录介质的底表面和与所述底表面相反的顶表面；光学头，其设置在所述滑动器主体中，以用光照射所述记录介质；以及光学层，其传播从外部供应的光，并且将所述光引导到所述光学头，其中，所述光学层沿形成在所述滑动器主体的一部分中的弯曲表面弯曲，以形成弯曲的光传播路径。2. 如权利要求1所述的头滑动器，其中所述光学层的折射率沿所述传播路径的曲率半径方向与所述曲率半径 成反比地变化，并且从所述传播路径的发射面发射的光变为平面波。3. 如权利要求1所述的头滑动器，其中所述光学层的折射率沿所述传播路径的曲率半径方向变化，使得在所 述曲率半径小于所述传播路径的预定位置的部分中传播光的相位领先，在 所述曲率半径大于所述传播路径的所述预定位置的部分中所述传播光的相 位落后，并且在所述传播路径的发射面中发射的光在曲率半径的方向上的波表面呈 圆弧状。4. 如权利要求1所述的头滑动器，其中 所述光学层具有沿所述传播路径均一的厚度。5. 如权利要求1所述的头滑动器，其中所述光学层的厚度沿所述传播路径从光入射的入射面开始不断变化。6. 如权利要求1所述的头滑动...

【专利技术属性】
技术研发人员：田和文博，小田岛涉，长谷川信也，
申请(专利权)人：富士通株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]