炸药组合物及其制造方法、以及掺杂杂原子的纳米金刚石的制造方法技术

本发明专利技术提供炸药组合物，其包含至少一种炸药、和至少一种杂原子化合物，上述杂原子化合物包含选自B、P、Si、S、Cr、Sn、Al、Ge、Li、Na、K、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Mn、Ni、Cu、Ag、Cd、Hg、Ga、In、Tl、As、Sb、Bi、Se、Te、Co、Xe、F、Y及镧系元素中的至少一种杂原子。Y及镧系元素中的至少一种杂原子。Y及镧系元素中的至少一种杂原子。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】炸药组合物及其制造方法、以及掺杂杂原子的纳米金刚石的制造方法


[0001]本专利技术涉及炸药组合物及其制造方法、以及掺杂杂原子的纳米金刚石的制造方法。

技术介绍

[0002]金刚石的发光中心是纳米尺寸且化学性稳定的荧光性发色团，其不会显示出在有机物的荧光体中常见的生物体内的分解、褪色、闪烁，因此，作为荧光成像的探针而备受期待。另外，也有时能够从外部测量在发光中心内被激发的电子的自旋信息，由此，也期待作为ODMR(Optically Detected Magnetic Resonance；光学检测磁共振)、量子比特的利用。
[0003]作为金刚石的发光中心的一种的SiV中心在发光光谱中具有被称作ZPL(零声子水平，Zero Phonon Level)的尖峰(非专利文献1)。
[0004]掺杂有硅或硼的金刚石是通过CVD(化学气相沉积)法等制造的(专利文献1～4)。
[0005]专利文献5公开包含一种或两种以上高性能炸药和金刚石粉的金刚石合成用炸药组合物。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特表2014
‑
504254
[0009]专利文献2：日本特开2004
‑
176132
[0010]专利文献3：日本特开2018
‑
076216
[0011]专利文献4：日本特开2018
‑
012612
[0012]专利文献5：日本特开平2r/>‑
241536
[0013]非专利文献
[0014]非专利文献1：E.Neu et al.APPLIED PHYSICS LETTERS 98,243107(2011)

技术实现思路

[0015]专利技术所要解决的问题
[0016]本专利技术的目的在于提供适于掺杂有杂原子的纳米金刚石的制造的炸药组合物及其制造方法、以及掺杂杂原子的纳米金刚石的制造方法。
[0017]解决问题的方法
[0018]本专利技术提供以下的炸药组合物及其制造方法、以及掺杂杂原子的纳米金刚石的制造方法。
[0019]项1.一种炸药组合物，其包含：
[0020]至少一种炸药、和至少一种杂原子化合物，
[0021]上述杂原子化合物包含选自B、P、Si、S、Cr、Sn、Al、Ge、Li、Na、K、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Mn、Ni、Cu、Ag、Cd、Hg、Ga、In、Tl、As、Sb、Bi、Se、Te、Co、Xe、F、Y及镧系
元素中的至少一种杂原子。
[0022]项2.根据项1所述的炸药组合物，其中，
[0023]上述炸药包含选自三硝基甲苯(TNT)、环三亚甲基三硝胺(黑索今，RDX)、环四亚甲基四硝胺(奥克托今)、三硝基苯甲硝胺(特屈儿)、季戊四醇四硝酸酯(PETN)、四硝基甲烷(TNM)、三氨基三硝基苯、六硝基茋、及二氨基二硝基苯并氧化呋咱中的至少一种。
[0024]项3.根据项1或2所述的炸药组合物，其中，
[0025]杂原子化合物为有机杂原子化合物。
[0026]项4.根据项1～3中任一项所述的炸药组合物，其包含炸药80～99.9999质量％、和杂原子化合物0.0001～20质量％。
[0027]项5.根据项1～4中任一项所述的炸药组合物，其中，
[0028]炸药和/或杂原子化合物的粒子尺寸为10mm以下。
[0029]项6.一种炸药组合物的制造方法，其是制造项1～5中任一项所述的炸药组合物的方法，该方法包括：
[0030]将炸药与杂原子化合物以干燥粉末或熔融状态进行混合或使用溶剂进行混合，并通过压榨法或填注法进行成型。
[0031]项7.根据项6所述的炸药组合物的制造方法，该方法包括：
[0032]使用粒子尺寸为10mm以下的炸药和/或杂原子化合物以干燥粉末或熔融状态进行混合而制作炸药组合物。
[0033]项8.一种掺杂杂原子的纳米金刚石的制造方法，该方法包括：
[0034]使项1～5中任一项所述的炸药组合物在密闭容器内爆炸的工序。
[0035]专利技术的效果
[0036]通过使用本专利技术的炸药组合物，能够通过爆轰法得到掺杂有至少一种杂原子的纳米金刚石。
附图说明
[0037]图1是使用三苯基硅烷醇作为硅化合物、且添加量以外部比例计为1质量％而得到的硅掺杂纳米金刚石的(a)738nm亮点成像图像(a)、(b)图1(a)的亮点的荧光测定结果、(c)混酸及碱处理后的试样的XRD测定结果。图1(b)中，在750nm附近存在荧光的边带(肩峰)，但根据样品的不同也有时不存在该边带。
具体实施方式
[0038]本专利技术的炸药组合物包含至少一种炸药、和至少一种杂原子化合物。
[0039]作为炸药，没有特别限定，可广泛使用公知的炸药。作为具体例，可列举：三硝基甲苯(TNT)、环三亚甲基三硝胺(黑索今，RDX)、环四亚甲基四硝胺(奥克托今)、三硝基苯甲硝胺(特屈儿)、季戊四醇四硝酸酯(PETN)、四硝基甲烷(TNM)、三氨基三硝基苯、六硝基茋、二氨基二硝基苯并氧化呋咱等，可以将它们单独使用一种或者组合使用两种以上。
[0040]杂原子化合物是包含至少一种杂原子(碳以外的原子)的化合物，可以是有机化合物和无机化合物中的任意化合物。
[0041]杂原子选自B、P、Si、S、Cr、Sn、Al、Ge、Li、Na、K、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Ti、Zr、V、Nb、Ta、
Mo、W、Mn、Ni、Cu、Ag、Cd、Hg、Ga、In、Tl、As、Sb、Bi、Se、Te、Co、Xe、F、Y及镧系元素，优选选自Si、Ge、Sn、B、P、Ni、Ti、Co、Xe、Cr、W、Ta、Zr、Ag及镧系元素，进一步优选选自Si、Ge、Sn、B、P、Ni、Ti、Co、Xe、Cr、W、Ta、Zr、及Ag。
[0042]以下记载了具体例的杂原子化合物仅仅为示例，可以广泛使用公知的杂原子化合物。
[0043]在杂原子为硅的情况下，作为有机的硅化合物，可列举：
[0044]·
乙酰氧基三甲基硅烷、二乙酰氧基二甲基硅烷、三乙酰氧基甲基硅烷、乙酰氧基三乙基硅烷、二乙酰氧基二乙基硅烷、三乙酰氧基乙基硅烷、乙酰氧基三丙基硅烷、甲氧基三甲基硅烷、二甲氧基二甲基硅烷、三甲氧基甲基硅烷、乙氧基三甲基硅烷、二乙氧基二甲基硅烷、三乙氧基甲基硅烷、乙氧基三乙基硅烷、二乙氧基二乙基硅烷、三乙氧基乙基硅烷、三甲基苯氧基硅烷等具有低级烷基的硅烷；
[0045]·
三氯甲基硅烷、二氯二甲基硅烷、氯三甲基硅烷、三氯乙基硅烷、二氯二乙基硅烷、氯三乙基硅烷、三氯苯基硅烷、二氯二苯基硅烷、氯三苯基硅烷、二氯二苯基硅烷、二氯甲基苯基硅烷、二氯乙基苯基硅烷、氯二氟甲基硅烷、二氯氟甲基硅烷、氯氟二甲基硅烷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种炸药组合物，其包含：至少一种炸药、和至少一种杂原子化合物，所述杂原子化合物包含选自B、P、Si、S、Cr、Sn、Al、Ge、Li、Na、K、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Mn、Ni、Cu、Ag、Cd、Hg、Ga、In、Tl、As、Sb、Bi、Se、Te、Co、Xe、F、Y及镧系元素中的至少一种杂原子。2.根据权利要求1所述的炸药组合物，其中，所述炸药包含选自三硝基甲苯(TNT)、环三亚甲基三硝胺(黑索今、RDX)、环四亚甲基四硝胺(奥克托今)、三硝基苯甲硝胺(特屈儿)、季戊四醇四硝酸酯(PETN)、四硝基甲烷(TNM)、三氨基三硝基苯、六硝基茋、及二氨基二硝基苯并氧化呋咱中的至少一种。3.根据权利要求1或2所述的炸药组合物，其中，杂原子化合物为有机杂原子化...

【专利技术属性】
技术研发人员：间彦智明，牧野有都，鹤井明彦，刘明，西川正浩，
申请(专利权)人：株式会社大赛璐，
类型：发明
国别省市：