沉积系统技术方案

本发明专利技术的沉积系统包括：具有维持真空状态的操作空间的腔室；在腔室内沿第一路径循环并移送载体的第一移送装置；在腔室内沿第二路径往返并移送掩模的第二移送装置；在腔室内沿第一路径设置在沉积区域中的沉积装置；设置在腔室内的装载部；以及与第一路径和所述装载部连接的第三移送装置，载体在第一路径的基板结合站中与基板结合，并且在第一路径与第二路径交汇的掩模结合站中与掩模结合，载体在与基板及掩模结合之后经过沉积区域，并且在第一路径与第二路径交汇的掩模分离站中与掩模分离，在第一路径的基板分离站中与基板分离。一路径的基板分离站中与基板分离。一路径的基板分离站中与基板分离。

【技术实现步骤摘要】
沉积系统


[0001]本专利技术涉及一种沉积系统。更详细而言，本专利技术涉及一种包括真空腔室的沉积系统。

技术介绍

[0002]在显示装置中，有机发光显示装置由于具有较宽的视角、优异的对比度及迅速的响应速度，作为下一代显示装置备受瞩目。
[0003]所述有机发光显示装置包括彼此对置的下部电极和上部电极、以及设置在所述下部电极与所述上部电极之间的中间层。所述电极和所述中间层等可通过多种方法形成。例如，可通过沉积工艺来形成所述电极和所述中间层等。所述沉积工艺可在待进行所述沉积的基板上紧贴掩模来进行，所述掩模具有与所述电极和所述中间层等的图案相同的图案。
[0004]但是，用于移送所述基板的载体及掩模在运送过程中有可能暴露于大气中。在该情况下，包括沉积有所述电极和所述中间层等的基板的有机发光显示装置的品质有可能下降。

技术实现思路

[0005]本专利技术的技术问题是着眼于这种问题而提出的，本专利技术的目的是提供一种包括真空腔室的沉积系统。
[0006]但是，本专利技术所要解决的技术问题不限于上面提到的技术问题，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种沉积系统，包括：具有维持真空状态的操作空间的腔室；在所述腔室内沿第一路径循环并移送载体的第一移送装置；在所述腔室内沿第二路径往返并移送掩模的第二移送装置；在所述腔室内沿所述第一路径设置在沉积区域中的沉积装置；设置在所述腔室内的装载部；以及与所述第一路径和所述装载部连接的第三移送装置，所述载体在所述第一路径的基板结合站中与基板结合，并且在所述第一路径和所述第二路径交汇的掩模结合站中与所述掩模结合，所述载体在与所述基板及所述掩模结合之后经过所述沉积区域，并且在所述第一路径和所述第二路径交汇的掩模分离站中与所述掩模分离，在所述第一路径的基板分离站中与所述基板分离。2.根据权利要求1所述的沉积系统，其中，所述腔室进一步包括供所述基板投入的基板投入口。3.根据权利要求2所述的沉积系统，其中，所述腔室进一步包括供所述基板排出的基板排出口。4.根据权利要求1或3所述的沉积系统，进一步包括第四移送装置，所述第四移送装置用于将所述基板移送到所述腔室的内部并传递给所述载体。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：李镐准，金京汉，朴在穆，赵源锡，金盛珍，文柱日，朴宰完，崔烔赫，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：