光记录媒体及其制造方法技术

对于在支承基体中设有纹道和／或纹间表面用作记录磁道且设有预制坑的光记录媒体，使其支承基体易于制造且易使记录高密度化。于支承基体２上交替存在凸条部３与凹条部４和将相邻凸条部互连的横断凸部。此横断凸部在中央附近呈最窄的平面形状。支承基体由具有形成凸和凹条部与预制坑各自母型图案的抗蚀剂层的光盘原盘制造。用一束曝光光束间歇地照射抗蚀剂层。以照射区作为凹或凸条部的母型图案，以照射中止区作为预制坑的母型图案。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。作为光记录媒体例如有将有机染料用作记录材料等的CD-R、DVD-R等的补写型光盘，以及采用相变型记录材料的CD-RW、DVD-RW等可改写型光盘。这类光记录媒体是在设有跟踪用纹道(凹条部)的光盘基片上形成记录层。在这些记录媒体之中，在进行更高密度记录的DVD-R与DVD-RW中，把纹道作为记录磁道，而且把具有地址信息等预先格式设于相邻的纹道间的凸条部(称为纹间表面)中。图5与图6中例示了这种结构媒体的构造。这种媒体在基片102上具有记录层(未图示)，在基片102上存在相互大致平行的纹道109。用于记录或再生的激光束从图中下方照射。纹道104为记录磁道，在此形成记录标记10。在相邻的纹道104与104之间是纹间表面103，而在此纹间表面103中则形成有预制坑105。具有图5所示结构的光盘已描述于特开平9-326138号公报的附图说明图15中，而具有图6所示结构的光盘则记载于上述特开平9-326138号公报的图3以及特开2000-132868号公报的图1(a)之中。下面说明光盘基片的一般制造方法。光盘基片采用设有预制坑和纹道的字模图案的冲压模，通过对树脂进行注射成型制造。上述冲压模一般由Ni构成。为了制成此冲压模，首先制作光盘的原盘，再由此原盘制作原模(一次复制盘)、母模(二次复制盘)与子模(三次复制盘)等。光盘原盘一般由以下工序制造。首先于玻璃等组成的刚性基片表面上形成光致抗蚀剂等抗蚀剂材料组成的抗蚀剂层。随即在由激光束等曝光用光束使抗蚀剂层曝光形成潜像图案，然后显像。通过这样地将抗蚀剂层图案化，可以制得光盘原盘。在用此光盘原盘制作原模时，为使光盘原盘的抗蚀剂层表面上具有导电性，由溅射法或非电解镀层等形成Ni薄膜。然后以此Ni薄膜为基底进行电铸，形成Ni电铸膜。将Ni薄膜与Ni电铸膜组成的叠层体从抗蚀剂层剥离，将此叠层体用作原模。母模则是在原模的表面上形成Ni电铸模，通过剥离此Ni电铸膜制成。此时，对母模表面作氧化处理等，容易将Ni电铸模剥离。通过同样的作业，用母模可以制成子模。在光盘原盘的制造工艺中，形成抗蚀剂层的潜像图案的最小宽度受到曝光用光束的光束点直径的限制。聚束点直径W在以λ表示光束波长而以NA作照射光学系物镜的数值孔径时，表示为W＝k·λ/NA，式中的k为根据物镜的孔径形状与入射光束的强度分布等确定的常数。在形成对应于纹道间潜像图案时，使光束按螺旋状扫描。在纹道间设有预制坑的情形。于潜像图案形成时使用两道光束，以一道光束连续地照射形成纹道图案，以另一道光束间歇地照射形成预制坑图案。这样地使用两道光束的方法在本说明书中称为双光束法。如上所述，在制作用于制造纹道间具有预制坑结构的光盘的光盘原盘时，必须在光刻时个别控制两束曝光用光束，遂使曝光装置的结构与控制复杂化。此外，随着记录密度的提高，还需要缩短预制坑的长度。但在既有的方法中，由于是以光束间歇地照射抗蚀剂层以在照射区域形成预制坑，例如就会由于光束的波长和照射光学系的数值孔径限制预制坑的尺寸。具体地说，在光束波长与数值孔径为一定的条件下来缩短预制坑的长度时(缩短曝光时间时)，当于抗蚀剂层中形成预制坑图案，就不能将抗蚀剂层挖坑到其底面附近，结果就不能形成规定深度的预制坑，防碍预制坑的读出。但通过缩短光束波长和更换为数值孔径大的物镜等对曝光系统作大规模的变动，则将显著加大成本。本专利技术把设于支承基体中的纹道或纹间表面用作记录磁道，而且对于设有预制坑的记录媒体，使支承基体的制造与高密度记录变得容易。上述目的可以通过下述的(1)～(12)中的本
技术实现思路
来实现。(1)光记录媒体，它在支承基体上具有记录层，在支承基体的记录层形成面上交替地存在相互大致平行的凸条部与凹条部；存在作为连接相邻凸条部的凸部的横断凸部，而此横断凸部在相邻凸条部之间的中央附近具有成为最窄的平面形状。(2)在上述(1)内所述的光记录媒体中，所述横断凸部用作预制坑。(3)在上述(1)或(2)内所述的光记录媒体中，于所述凸条部中存在孤立的凹部，而此孤立的凹部则用作预制坑。(4)在上述(1)～(3)中任一之内所述的光记录媒体中，通过使凹条部的一部分弯曲，在与此凹条部相邻的凸条部中形成突出的区域，而将此突出区域用作预制坑。(5)光记录媒体，它在支承基体上具有记录层，在支承基体的记录层形成面上交替地存在相互大致平行的凸条部与凹条部；存在作为连接相邻凹条部的凹部即横断凹部，而此横断凹部在相邻凹条部之间的中央附近具有成为最窄的平面形状。(6)在上述(5)内所述的光记录媒体中，所述横断凹部用作预制坑。(7)在上述(5)或(6)所述的光记录媒体中，于所述凹条部中存在孤立的凸部，而此孤立的凸部则用作预制坑。(8)在上述(5)～(7)中任一项内所述的光记录媒体中，通过使凸条部的一部分弯曲，在与此凸条部相邻的凹条部中形成突出区域，而将此突出区域用作预制坑。(9)在上述(1)～(8)中任一项内所述的光记录媒体中，将凸条部或凹条部用作记录磁道。(10)在上述(1)～(9)中任一项所述的光记录媒体中，于支承基体上具有相对于用作记录或再生的激光束可透光的基体或膜层，而上述激光束可通过此基体或膜层入射到所述记录层；凸条部起到纹道的作用而凹条部则起到纹间表面的作用。(11)在上述(1)～(9)中任一项所述的光记录媒体中，上述支承基体相对于用于记录或再生的激光束具有透光性，所述激光束通过此支承基体入射到前述记录层内；凸条部起到纹间表面的作用而凹条部则起到纹道的作用。(12)光记录媒体的制造方法，此光记录媒体在支承基体上具有记录层，在支承基体的记录层形成面上交替地存在相互大致平行的凸条部与凹条部，而在凸条部或凹条部中存在预制坑；在制备用于前述支承基体制造中的具有形成凸条部、凹条部与预制坑各个的母模图案的抗蚀剂层的光盘原盘之际，是通过将曝光用光束照射抗蚀剂层来形成前述母模图案的工序中，用一束曝光用的光束间歇地照射，使照射了曝光用光束的区域作为凹条部或凸条部的母模图案，而将未照射曝光用光束的区域作为预制坑的母模图案。本专利技术在光盘原盘的制作中的曝光时只用到一束光，将这束光作间歇的照射，把未照射有光束的区域用作预制坑。这样，预制坑的长度不受曝光时光束聚束点直径的约束。于是可以不需大幅度变更曝光用光束的照射光学系统而将预制坑的长度缩短，这在提高记录密度时是有利的。此外，本专利技术与迄今所用的双光束法不同，由于在曝光时不必分别控制两束光，曝光装置的结构与控制也变得简单。图1是相对本专利技术的光记录媒体的结构例示明其一部分的斜视图。图2是相对本专利技术的光记录媒体的结构例示明其一部分的斜视图。图3是相对本专利技术的光记录媒体的结构例示明其一部分的斜视图。图4是相对本专利技术的光记录媒体的结构例示明其一部分的斜视图。图5是相对于先有的光记录媒体的结构例示明其一部分的斜视图。图6是相对于先有的光记录媒体的结构例示明其一部分的斜视图。图中各标号的意义如下2，支承基体；3，凸条部；31，横断凸部；32，(凸条部的)突出部；4，凹条部；41，横断凹部；5，孤立凹部；10，记录标记；102，基板；103，纹间表面；104，纹道；105，预制坑。现在说明本专利技术的实施形式。图1中例示本专利技术的光记录媒体的结构。本专利技术的光记录媒体在支承基体2上本文档来自技高网...

【技术保护点】
光记录媒体，它在支承基体上具有记录层，在支承基体的记录层形成面上交替地存在相互大致平行的凸条部与凹条部；存在作为连接相邻凸条部的凸部的横断凸部，此横断凸部在相邻凸条部之间的中央附近具有成为最窄的平面形状。

【技术特征摘要】
JP 2001-6-15 181795/2001;JP 2000-7-7 207455/2000;J1.光记录媒体，它在支承基体上具有记录层，在支承基体的记录层形成面上交替地存在相互大致平行的凸条部与凹条部；存在作为连接相邻凸条部的凸部的横断凸部，此横断凸部在相邻凸条部之间的中央附近具有成为最窄的平面形状。2.权利要求1所述的光记录媒体，其中所述横断凸部用作预制坑。3.权利要求1或2所述的光记录媒体，其中于所述凸条部中存在孤立的凹部，而此孤立的凹部用作预制坑。4.权利要求1～3中任一项所述的光记录媒体，其中通过使凹条部的一部分弯曲，在与此凹条部相邻的凸条部中形成突出区域，而此突出区域用作预制坑。5.光记录媒体，它在支承基体上具有记录层，在支承基体的记录层形成面上交替地存在相互大致平行的凸条部与凹条部；存在作为连接相邻凹条部的凹部的横断凹部，此横断凹部在相邻凹条部之间的中央附近具有成为最窄的平面形状。6.权利要求5所述的光记录媒体，其中所述横断凹部用作预制坑。7.权利要求5或6所述的光记录媒体，其中所述凹条部内存在孤立的凸部，而此孤立的凸部用作预制坑。8.权...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤达也，宇都宫肇，井上弘康，平田秀树，
申请(专利权)人：TDK株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]