光盘模版形成方法技术

本发明专利技术涉及一种模版形成方法，包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光阻层；于第一光阻层上涂布一阻绝层；于阻绝层上涂布一第二光阻层；以一光束对第二光阻层进行曝光；以另一光束穿透阻绝层对第一光阻层进行曝光；进行显影；及朝第二光阻层的方向溅镀一金属层，另外，本发明专利技术亦提供另一种模版形成方法。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别是指一种用于数字激光视盘的。
技术介绍
在光盘片的生产过程中，一开始需将原始的数字数据或讯号转换为激光刻版讯号，接着于无尘的环境中，经过刻版与电镀等处理步骤，产生量产光盘的母版(master)。接下来，再利用母版制成模版(stamper)以供后续制程使用。如图1A所示，先前的DVD-RW等模版是于Readable Embossed区域(区域A)以及Unreadable Embossed区域(区域B)中形成有多个相同深度的沟槽(H1约为25nm-30nm)。目前，为了促进光盘片与光驱的兼容性，并使一般的DVD-ROM能够读取DVD-RW格式的光盘片，于DVD-RW Ver 1.1版本中，将Readable Embossed区域(区域A)讯号作部分的修改，亦即将Readable Embossed区域(区域A)的沟槽深度增加为100nm，如图1B所示，其用以增加讯号读取的模式。但是在目前的制程处理上，直接利用不同强度的激光于模版中的正光阻3蚀刻所需的沟槽深度，如图1B所示。由于在光阻中能量扩散不易控制，虽然利用相同强度的激光束，亦可能得到误差值约为2-3nm的深本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种模版形成方法，用以形成一模版，其特征在于，该模版形成方法包含下列步骤： 于一基版上涂布一第一光阻层； 于该第一光阻层上涂布一阻绝层； 于该阻绝层上涂布一第二光阻层； 以一光束对该第二光阻层进行曝光； 以另一光束穿透该阻绝层对该第一光阻层进行曝光； 进行显影；及 朝该第二光阻层的方向溅镀一金属层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邓国欣，廖浩嘉，
申请(专利权)人：精碟科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]