一种制备聚合物薄膜的高压雾化喷嘴制造技术

本实用新型专利技术涉及一种制备聚合物薄膜的高压雾化喷嘴，由第一雾化装置和第二雾化装置组成，第一雾化装置的一侧设有进液口，另一侧设有进气口，底部设有出液口；第一雾化装置内设有喷气管、与进液口连通的环形流道，喷气管的一侧与进气口连通，另一侧设有出气嘴；出气嘴处设有第一腔体，所述环形流道与第一腔体之间连通设有导流管；第二雾化装置的一端旋转连接于出液口上，另一端设有喷雾口，第二雾化装置内设有用于二次雾化的旋流件，旋流件的上方设有与第一腔体连通的第二腔体，下方设有与喷雾口连通的第三腔体；本实用新型专利技术以气为动力的同时，保证最初的气液分离，气液从两个腔道进入，直到混合腔压缩打散，避免产生气泡，有助于液滴的均匀。滴的均匀。滴的均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种制备聚合物薄膜的高压雾化喷嘴


[0001]本技术属于喷嘴领域，具体涉及制备聚合物薄膜的高压雾化喷嘴。

技术介绍

[0002]目前基于溶液的薄膜制备方法有旋涂法、丝网印刷法、浸涂法、喷墨打印法等，旋涂法可制备有机或无机薄膜，已广泛用于硅晶片、传感器、防护涂料和光学薄膜光致抗腐剂膜层的制备；其薄膜厚度、均匀性及表面形貌等取决于样品溶液的粘性、挥发性、浓度以及旋涂速度等；该方法影响因素较多且不易控制，制膜过程多在大气条件下进行，无法避免灰尘、空气及溶剂在薄膜中的残留，虽可快速成膜但无法保证成膜质量，从而影光电器件的工作性能；而真空喷射法是利用真空技术的一种新型喷射薄膜制备方法，目前也主要用于制备聚合物薄膜，该方法在高压下将聚合物溶液通过喷嘴喷入真空室并产生雾化，在真空环境下大部分溶剂迅速蒸发，雾滴到达基片时只有少量溶剂存留，残余溶剂在加热的基片上快速蒸发，最终在基片上形成聚合物薄膜；这种方法很大程度上减少了灰尘和溶剂在薄膜中的残留，且整个过程不需高温，避免聚合物结构变化；但是该喷射法采用的喷嘴还是传统方法中使用的喷嘴，一般都是制式加工且结构简单的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制备聚合物薄膜的高压雾化喷嘴，其特征在于:由第一雾化装置(1)和第二雾化装置(2)组成，所述第一雾化装置(1)的一侧设有进液口(11)，另一侧设有进气口(12)，所述进液口(11)和进气口(12)连线的一侧设有出液口(13)；所述第一雾化装置(1)内设有喷气管(14)、与进液口(11)连通的环形流道(15)，所述喷气管(14)的一侧与进气口(12)连通，另一侧设有出气嘴(141)；所述出气嘴(141)处设有与出液口(13)连通的第一腔体(16)，所述环形流道(15)与第一腔体(16)之间连通设有导流细管(3)；所述第二雾化装置(2)的一端旋转连接于出液口(13)上，另一端设有喷雾口(21)，所述第二雾化装置(2)内设有用于二次雾化的旋流件(4)，所述旋流件(4)的上方设有与第一腔体(16)连通的第二腔体(22)，下方设有与喷雾口(21)连通的第三腔体...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹青，樊翔，余涵林，
申请(专利权)人：合肥工业大学，
类型：新型
国别省市：