可改写光学介质、读出和/或写入可改写光学介质的设备以及制造可改写盘的方法技术

在这个光学介质（１）中，在材料的各层（４０和４１）之间嵌入预刻槽轨道（５），用于产生称之为推挽信号的跟踪信号。这个推挽信号在写入的轨道和空的轨道之间有相当大的变化。对于读出和／或写入的干扰很大。形成光学介质的材料在写入的轨道和未写入的轨道之间的相位方面存在略微正向的微弱变化，并且平均反射系数幅度的数量级为０．５或更大些，这样的光学介质可以避免这样的干扰。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学介质，其中嵌入预刻槽轨道以产生跟踪信号。
技术介绍
这样的介质是众所周知的并且有许多应用场合，主要是在使用可改写光盘的数字视频记录器领域。在这种光学介质中数据的记录和擦除的基础是，强力的激光使材料从结晶态到非结晶态的反射有所差异，反之亦然。在这些盘上，预刻槽产生跟踪信号，跟踪信号通常称之为“推挽(PP)”信号。专利文献EP-1063642提供了有关推挽信号的某些信息。这个信号允许跟踪激光头，以便向盘的刻槽上或刻槽内记录数据并且从该盘上读出数据。专利文献EP-1143430给出了有关这种介质的信息。在这篇专利文献中提及推挽信号受到各种参数的影响。本申请人已经发现，除了这些参数以外，还存在另外一个参数。这个参数就是已经写入轨道和未经写入的轨道之间的状态方面存在差异。利用这些不同的状态，推挽信号的幅度和斜率在写入的轨道和空轨道之间转变周围要发生强烈的改变。跟踪激光头的伺服机构在很大程度上受到扰动。减小了与推挽信号有关的径向倾角检测器的跟踪可靠性和精度。因此，可能发生某种干扰，这是使用户不快的事情。
技术实现思路
本专利技术提出一种光学介质，采取一些措施以便在很大程度上减小本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学介质，其中在各材料层之间嵌入预刻槽轨道，用于产生跟踪信号，其特征在于：这种材料在写入的轨道和未写入的轨道之间的相位存在略微正向的、微弱的变化，平均反射系数的幅度的数量级为０．５或更大。

【技术特征摘要】
EP 2002-7-24 02291874.21.一种光学介质，其中在各材料层之间嵌入预刻槽轨道，用于产生跟踪信号，其特征在于这种材料在写入的轨道和未写入的轨道之间的相位存在略微正向的、微弱的变化，平均反射系数的幅度的数量级为0.5或更大。2.根据权利要求1所述的光学介质，其特征在于这种材料由相变材料形成。3.根据权利要求1所述的光学介质，其特征在于这种材料由相变生长占优势的材料形成。4.根据权利要求1所述的光学介质，其特征在于这种材料由相变成核占优势的材料形成。5.根据权利要求1所述的光学介质，其特征在于这种材料由可记录材料形成。6.根据权利要求1所述的光学介质，其特征在于这种材料由可记录染料材料形成。7.根据权利要求1所述的光学介质，其特征在于这种材料由可记录的金属合金材料形成。8.根据权利要求1所述的光学介质，其特征在于这种材料由可记录相变材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：M凯珀，OK安德森，JM特尔默伦，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]