光学系统技术方案

本发明专利技术披露了一种包括布置在辐射束的路径中的光轴上的光学元件的光学系统。所述光学元件（２；１１６；２０２）包括一种双折射材料，并具有辐射束从其通过的非平表面（４）。所述光学系统包括一偏振控制系统，用于控制辐射束的偏振使得所述辐射束具有跨过沿垂直光轴截取的剖面（２１；２４）为不均匀的偏振，所述不均匀的偏振具有与所述非平表面的形状相应的分布。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学系统，尤其是涉及一种用于扫描光记录载体的光学系统。
技术介绍
在光记录领域中，可将信息存储在光记录载体(例如致密盘(CD)或数字万用盘(DVD))的信息层上。可存储在这种光盘上的信息密度的增加可通过降低用于扫描光盘的辐射束的光斑尺寸来实现。光斑尺寸的这种降低可通过使用较短波长的射线和较高的数值孔径(NA)来实现。除了CD和DVD光盘和能够在光学载体上存储比CD或DVD高的数据密度的所谓B1ue-RayTM技术之外，当前正在开发深度紫外(DUV)射线的应用以实现更高密度的数据存储等级。DUV射线存在于低于大约300nm的波长区域。用于在DUV光盘上记录和控制数据的光学系统要求光学系统的组成光学元件提供适用于DUV射线的高数值孔径(NA)，例如对于近似256nm的DUV射线波长的NA＝0.85。需要较高的NA使得DUV射线在DUV光盘上被聚焦成足够的尺寸和质量以精确扫描DUV盘上的数据。为了实现该较高的NA，需要通过适当的材料来制造光学元件。然而，具有足够高的折射系数以实现期望的NA和具有充分不同的光学色散以避免色差同时还是各向同性和具有适当光学透射率的材料对于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学系统，包括布置在辐射束的路径中的光轴上的光学元件，所述光学元件（２；１１６；２０２）包括一种双折射材料，所述光学元件具有辐射束从其通过的非平表面（４），其中所述光学系统包括偏振控制系统，用于控制辐射束的偏振使得所述辐射束具有跨过沿垂直光轴截取的剖面（２１；２４）为不均匀的偏振，所述不均匀的偏振具有与所述非平表面的形状相应的分布。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2004-1-16 04100125.61.一种光学系统，包括布置在辐射束的路径中的光轴上的光学元件，所述光学元件(2；116；202)包括一种双折射材料，所述光学元件具有辐射束从其通过的非平表面(4)，其中所述光学系统包括偏振控制系统，用于控制辐射束的偏振使得所述辐射束具有跨过沿垂直光轴截取的剖面(21；24)为不均匀的偏振，所述不均匀的偏振具有与所述非平表面的形状相应的分布。2.根据权利要求1所述的光学系统，其中在所述剖面的多个扇区(22)中，射束的偏振具有基本上为切向的偏振，所述基本上为切向的偏振在所述扇区(22)的至少一些中的一不同方向上对齐。3.根据权利要求1所述的光学系统，其中在所述剖面的多个扇区(26)中，射束的偏振具有基本上为径向的偏振，所述基本上为径向的偏振在所述扇区(26)的至少一些中的一不同方向上对齐。4.根据权利要求2或3所述的光学系统，其中所述非平表面的形状关于光轴(OA)是旋转对称的。5.根据前述任何一个权利要求所述的光学系统，其中所述光学系统包括基本上平行于所述光轴(OA)的光轴(AB)。6.根据前述任何一个权利要求所述的光学系统，其中所述偏振控制系统包括第一偏振元件(54；254)，其包括多个不同的部分(55)，其中每个部分被布置以不同的修改辐射束的偏振。7.根据权利要求4所述的光学系统，其中所述第一偏振元件包...

【专利技术属性】
技术研发人员：RFM亨德里克斯，BHW亨德里克斯，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]