【技术实现步骤摘要】
覆晶型的电激发光子晶体面射型激光元件
[0001]本专利技术有关一种覆晶型的电激发光子晶体面射型激光元件，其第一电极金属与第二电极金属呈同一面向，第一电极金属可接合第一接合金属与第二电极金属可接合第二接合金属，使该光子晶体结构呈覆晶。
技术介绍
[0002]美国专利US10340659B1，公开一种电激发光子晶体面射型激光元件，其包含：一基板，其具备一第一表面及相反侧的第二表面；一第一披覆层，位于该基板的第一表面上；一主动层，位于该第一披覆层上，并具有一量子结构；一第二披覆层，位于该主动层上；一接触层，位于该第二披覆层上，并以该第二披覆层及该接触层呈高台型且设有多个空气孔洞，形成一光子晶体结构，且该光子晶体结构的上表面设定一第一预定区域；一电流局限结构，位于该光子晶体结构及该主动层上，并具有一孔径，且该孔径为对应该光子晶体结构的第一预定区域，使电流流向局限在该光子晶体结构的第一预定区域；一透明导电层，位于该电流局限结构上，并覆盖该光子晶体结构的第一预定区域上，且该透明导电层的上表面设定一第二预定区域，该第二预定区域的位置与该...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种覆晶型的电激发光子晶体面射型激光元件，其特征在于，包含：一第一基板，其具备一第一表面及相反侧的第二表面；一第一披覆层，位于该第一基板的第一表面上；一第一分开局限异质层，位于该第一披覆层上；一主动层，位于该第一分开局限异质层上，并具有一量子结构；一第二分开局限异质层，位于该主动层上；一第二披覆层，位于该第二分开局限异质层上；一接触层，位于该第二披覆层上，使该第一基板、该第一披覆层、该第一分开局限异质层、该主动层、该第二分开局限异质层、该第二披覆层、该接触层形成一磊晶结构，该磊晶结构设有一高台，该高台设有多个空气孔洞，形成一光子晶体结构，又该磊晶结构设有一凹台，该凹台的面向与该光子晶体结构的面向呈同一面向；一绝缘层，位于该光子晶体结构与该凹台上，并具有一孔径及一凹槽，且该孔径对应该光子晶体结构与该凹槽对应该凹台；一第一电极金属，位于该绝缘层上，并覆盖该光子晶体结构上；一第二电极金属，位于该凹台上，并凸出于该凹槽外，使该第一电极金属的面向与该第二电极金属的面向呈同一面向；以及一第二基板，其具备一第三表面及相反侧的第四表面，并在该第二基板的第三表面上设有一第一接合金属与一第二接合金属，先将该第一基板覆于该第二基板的上方后，再以该第一电极金属接合至该第一接合金属与该第二电...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈俞谌，周柏存，林建宏，翁志源，
申请(专利权)人：富昱晶雷射科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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