一种光谱分析装置及系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种光谱分析装置及系统，包括设置在外壳内的狭缝、消像差元件、准直镜、光栅、聚焦镜、光电探测器以及设置在外壳外的光纤接头；狭缝与光纤接头配合连接，用于将被测光导入并投射到准直镜；消像差元件设置于狭缝与准直镜之间，用于补偿像差；准直镜，用于将通过狭缝投射的被测光准直反射到光栅；光栅，用于将准直镜反射的被测光衍射到聚焦镜；聚焦镜，用于将光栅衍射后的被测光聚焦到光电探测器；光电探测器，用于接收聚焦镜衍射的被测光以获得相应的光谱。本发明专利技术通过有效地弥补光学像差以提高光谱分析装置的光谱分辨率，具有高分辨率、小体积的优势，可广泛用于拉曼光谱应用以及无接触色共焦测量厚度等应用。用以及无接触色共焦测量厚度等应用。用以及无接触色共焦测量厚度等应用。

【技术实现步骤摘要】
一种光谱分析装置及系统


[0001]本专利技术涉及光学分析仪器
，具体涉及一种光谱分析装置及系统。

技术介绍

[0002]现有的常规光纤光谱仪将被测光导入狭缝，透过狭缝后经准直镜的准直后到达光栅，经光栅的散射后到达聚焦镜，再经聚焦镜的聚焦到达光电探测器，最后经光电探测器的光电转换获得相应的光谱。
[0003]而现有的常规光纤光谱的像差通常比较大，这对于某些对光谱分辨率要求比较高的应用场景是非常不方便的，如拉曼光谱应用以及无接触色共焦测量厚度等应用。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种光谱分析装置及系统，可以有效地弥补光学像差以提高光谱分析装置的光谱分辨率，具有高分辨率、小体积的优势，可广泛用于拉曼光谱应用以及无接触色共焦测量厚度等应用。
[0005]为实现上述目的，本专利技术实施例第一方面提供一种光谱分析装置，作为其中一种实施方式，所述光谱分析装置包括设置在外壳内的狭缝、消像差元件、准直镜、光栅、聚焦镜、光电探测器以及设置在外壳外的光纤接头；所述狭缝与所述光纤接头配合连接，用于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光谱分析装置，其特征在于，包括设置在外壳内的狭缝、消像差元件、准直镜、光栅、聚焦镜、光电探测器以及设置在外壳外的光纤接头；所述狭缝与所述光纤接头配合连接，用于将被测光导入并投射到所述准直镜；所述消像差元件设置于所述狭缝与所述准直镜之间，用于补偿像差；所述准直镜，用于将通过所述狭缝投射的被测光准直反射到所述光栅；所述光栅，用于将所述准直镜反射的被测光衍射到所述聚焦镜；所述聚焦镜，用于将所述光栅衍射后的被测光聚焦到所述光电探测器；所述光电探测器，用于接收所述聚焦镜衍射的被测光以获得相应的光谱。2.根据权利要求1所述的光谱分析装置，其特征在于，所述光谱分析装置采用交叉型切尼-特纳光路或M型光路。3.根据权利要求1所述的光谱分析装置，其特征在于，所示光谱分析装置还包括反射镜，所述反射镜用于实现所述光电探测器与所述聚焦镜的光轴的方向呈垂直状态。4.根据权利要求1所述的光谱分析装置，其特征在于，所述光谱分析装置还包括PCB电路...

【专利技术属性】
技术研发人员：苑高强，刘民玉，
申请(专利权)人：高利通科技深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：