一种水分离地漏制造技术

本发明专利技术提供了一种一种水分离地漏，所述地漏包括过滤盖、离合腔体和浮力防臭盖；所述离合腔体的下端部设有排水底管，所述离合腔体下端部与排水底管的外壁共同组成储水槽；所述防臭盖位于离合腔体内且盖在排水管入口上；所述防臭盖与离合腔体之间设置有定位水通道，液体通过定位水通道的流量大于防臭盖与离合腔体之间定位水通道以外空间的流量。另外本发明专利技术所述浮力防臭盖平均密度小于或远小于水，因此便于位于储水槽（非区别特征点）内的水具有对浮力防臭盖足够的升力克服浮力防臭盖的重力，使浮力防臭盖脱离对排水底管入口的封堵，从而使地面水迅速从排水底管进入排水管道。地面水迅速从排水底管进入排水管道。地面水迅速从排水底管进入排水管道。

【技术实现步骤摘要】
一种水分离地漏


[0001]本专利技术涉及地漏，尤其涉及一种防地臭的地漏。

技术介绍

[0002]现有地漏为了防止管道内的气体从地漏导出，使用过程中，防臭盖反而堵住地面水，无法从地漏正常从管道排走。

技术实现思路

[0003]为了克服上述的缺陷，本专利技术的目的是提供一种不受颗粒和毛发的影响，。
[0004]为实现上述目的，本专利技术技术方案为：一种水分离地漏，其特征在于：所述地漏包括过滤盖、离合腔体和浮力防臭盖；所述离合腔体的下端部设有排水底管，所述离合腔体下端部与排水底管的外壁共同组成储水槽；所述防臭盖位于离合腔体内且盖在排水管入口上。
[0005]所述防臭盖与离合腔体之间设置有定位水通道，液体通过定位水通道的流量大于防臭盖与离合腔体之间定位水通道以外空间的流量。
[0006]所述防臭盖的密度小于水密度。
[0007]所述防臭盖设置临界段，当防臭盖完全顶靠于排水底管入口，且离合腔体内水位抵达临界段最高点时，防臭盖或临界段的等量排水质量大于防臭盖质量。
[0008]所述过滤盖上设有过滤槽和通水孔；所述过滤槽的槽底低于通水孔的入水口。
[0009]所述过滤槽内设有吸发或粘发装置。
[0010]所述吸发或粘发装置为设置在芝滤槽槽壁上的粗糙面或刷面。
[0011]滤盖的通水孔设置喇叭状出水口，防臭盖上端设反喇叭槽。
[0012]上述技术方案的有益之处在于：1、本专利技术所述浮力防臭盖平均密度小于或远小于水，因此便于位于储水槽（非区别特征点）内的水具有对浮力防臭盖足够的升力克服浮力防臭盖的重力，使浮力防臭盖脱离对排水底管入口的封堵，从而使地面水迅速从排水底管进入排水管道。
[0013]2、本专利技术所述浮力防臭盖与离合腔体内壁之间设有定位水通道，使地面水可以从定位水通道大流量流入储水槽内，同时还能维持防臭盖与离合腔体内壁之间的间隔，以确保地面水在定位水通道的流量具有稳定性。
[0014]3、本专利技术所述外装盖设有过滤槽，使毛发和颗粒无法直接进入离合腔体内，从而避免减小甚至堵塞定位水通道及其它水通道；进一步的本专利技术在过滤槽内设有糙面或其它吸发或粘发装置，以进一步使毛发粘附过滤槽，同时也利用毛发与颗粒与糙面/刷面(一根或多根拦挡柱)的共同配合，形成临时稳定结构，以避免水流的冲刷使毛发轻易进入定位水通道。
[0015]4、本专利技术所述防臭盖设有临界段，所述临界段与储水槽配合实现：水隔离效果，当合腔体内的水位满足，储水槽内水对防臭盖的浮力=防臭盖重力时，储水槽内水与防臭盖配
合共同对排水底管入口完全封闭。
[0016]下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步的说明。
附图说明
[0017]图1为本专利技术的实施示意图。
具体实施方式实施例
[0018]如图1所示的一种水分离地漏，包括过滤盖、离合腔体和浮力防臭盖；所述离合腔体的下端部设有排水底管，所述离合腔体下端部与排水底管的外壁共同组成储水槽；所述防臭盖位于离合腔体内且盖在排水管入口上。
[0019]所述防臭盖与离合腔体之间设置有定位水通道，液体通过定位水通道的流量大于防臭盖与离合腔体之间定位水通道以外空间的流量。
[0020]所述防臭盖的密度小于水密度。
[0021]所述防臭盖设置临界段，当防臭盖完全顶靠于排水底管入口，且离合腔体内水位抵达临界段最高点时，防臭盖或临界段的等量排水质量大于防臭盖质量。
[0022]所述过滤盖上设有过滤槽和通水孔；所述过滤槽的槽底低于通水孔的入水口。
[0023]所述过滤槽内设有吸发或粘发装置。
[0024]所述吸发或粘发装置为设置在芝滤槽槽壁上的粗糙面或刷面。
[0025]滤盖的通水孔设置喇叭状出水口，防臭盖上端设反喇叭槽。
[0026]工作原理：当不存在地面水时，或地面水完全进入离合腔体内还不足于使防臭盖获得足够的升力克服自身重力前，防臭盖始终封堵管道出口，使得管道内的臭气或虫类无法通过地漏到地面来；长期具有地面水的环境，储水槽内始终有水；通过防臭盖位于排水底管入口外的部份伸入槽内的水中，继通过水封堵排水底管入口所有边际，继而达到密封的效果。
[0027]所述防臭盖的密度小于水密度，且防臭盖的等量排水质量大于防臭盖质量；当地面水进入离合腔体，并使储水槽的水位达到一定高度时，储水槽内的水作用于防臭盖位于排水底管入口以外的部份，并克服防臭盖的重力，使防臭盖脱离接触排水底管入口，继而使储水槽内的水顺利流入排水底管。
[0028]专利技术重点：所述防臭盖设置临界段，防臭盖完全顶靠于排水底管入口，且离合腔体内水位抵达临界段最高点时，防臭盖或临界段的等量排水质量大于防臭盖质量；所述等量排水质量m=等量排水体积V*水密度ρ；或当离合腔体内的水位达到最大值，使防臭盖装配于离合腔体内，并使临界段最大限度浸入储水槽内时，防臭盖所排挤出来的水的质量大于防臭盖的质量。
[0029]等量排水体积的评估方法1：
①
封堵排水底管，并对不装配防臭盖的离合腔体持续灌水，直至灌满离合腔体，记
录此刻水体积为v1;
②
将防臭盖装配入离合腔体，并使防臭盖完全顶靠于排水底管入口时，取出防臭盖，并记录此刻水体积为v2;
③
V=v1
‑
v2等量排水体积的评估方法2：
①
防臭盖完全顶靠于排水底管入口时，限制防臭盖发生位移，并持继向离合腔体内灌水，直至水位抵达临界段的最高点，并记录此刻水位高度为h1;
②
从离合腔体内取出防臭盖，并记录此刻水位高度为h2;
③
离合腔体内水位高度h2到水位高度h1之间的容积为临界段的等量排水体积V，具体算法可以是：
④
在离合腔体内无防臭盖的前提下，，当水位高度为h2离合腔体内水体积为v2,当水位高度为h1离合腔体内水体积为v1，V=临界段的等量排水体积V=v1
‑
v2。
[0030]2、通过设置设有定位水通道，定位水通道以外位置AX的流量小于定位水通道A上的流量，从而避免在离合腔体与防臭盖之间形成阻碍水流通的气泡；同时在离合腔体与防臭盖之间维持稳定的流量通道，进一步破坏气泡的产生，继而使得地面水迅速汇集到防臭盖底部；同时 以离合腔体为容器，在离合腔体内获得充分等量排水体积，实现在离合腔体被灌满之前，使离合腔体内的水对防臭盖的浮力足可以克服输防臭盖的重力，继而克服防臭盖对排水底管的封堵限制，继而进入排水底管，继而实现避免地漏封堵的问题。
[0031]定位水通道破坏气泡原理：可能形成气泡的边际至少存在两处流速不同，根据伯努利定律，使气泡周边液压不均匀，继而使气泡内的气体冲破气泡液壁，最终破坏气泡。本专利技术定位水通道优选2个或多个。
[0032]通过在滤盖的通水孔设置喇叭状出水口，防臭盖上端设反喇叭槽；当存在地下水反冲时，防臭盖向上发生位移，使防臭盖的反喇叭槽扣在滤盖通水孔的出水口上，从而封闭滤盖的通本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种水分离地漏，其特征在于：所述地漏包括过滤盖、离合腔体和浮力防臭盖；所述离合腔体的下端部设有排水底管，所述离合腔体下端部与排水底管的外壁共同组成储水槽；所述防臭盖位于离合腔体内且盖在排水管入口上。2.如权利要求1所述的一种水分离地漏，其特征在于：所述防臭盖与离合腔体之间设置有定位水通道，液体通过定位水通道的流量大于防臭盖与离合腔体之间定位水通道以外空间的流量。3.如权利要求1所述的一种水分离地漏，其特征在于：所述防臭盖的密度小于水密度。4.如权利要求3所述的一种水分离地漏，其特征在于：所述防臭盖设置临界段，当防臭盖完全顶靠于...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛启祥，
申请(专利权)人：漳州三和盛电子有限公司，
类型：发明
国别省市：