光盘设备和记录功率控制方法技术

一种光盘设备和记录功率控制方法，在数据写入操作中，经低通滤波器（１４）和采样保持电路（１５）获得了由前监视器（ＦＭ）检测到的发射功率的平均值。在该写入操作中，经采样保持电路（１２）获得了由擦除ＡＰＣ（１９）控制的擦除功率。在ＬＤ（７９）以擦除功率发光的同时，根据所述擦除ＡＰＣ（１９）的输出电压来确定擦除电流。根据平均功率、擦除功率、擦除电流、和记录脉冲的波形来评估ＬＤ（７９）的电流对发射功率关系特性（００７）。另外，根据电流对发射功率关系特性来控制在写入操作中ＬＤ（７９）的峰值功率（００８到０１０）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于在诸如CD-R、CD-RW、DVD-R、DVD-RW、DVD-RAM、HDDVD-R、HDDVD-RAM、或HDDVD-RW之类的可记录光盘上记录信息的技术，尤其涉及对记录功率的控制。
技术介绍
近年来，DVD记录器之类的高记录密度光盘设备已经很常见。随着光盘记录密度的提高，要求光盘自身的记录质量具有很高的可靠性。例如，在可重写光盘中，沟槽和/或槽岸轨道形成在盘表面上，记录层形成在轨道上，并且使得激光的射束点随轨道行进从而形成或擦除记录标记。已知的是用于光盘的激光二极管的驱动电流对发射功率关系的特性会随温度变化或时间变化而发生波动。为了改善记录性能，重要的是控制发射功率以使功率恒定。在传统的功率控制方法中，首先，标记部分中记录功率(峰值功率)的值、空白部分中记录功率(擦除功率)的值、以及多脉冲中底值功率的值被保持。随后，根据所保持的值以及擦除功率对预设峰值功率和底值功率的比来计算擦除功率。控制记录脉冲以使得峰值功率、底值功率、和擦除功率的实际强度级与各目标值相一致(日本专利申请，公开号2000-30276)。通常，在使用通过模拟或数字反馈控制的峰值(底值)保持电路和采样保持电路来用多个峰值功率脉冲记录单个记录标记的多脉冲方法中，保持激光二极管(LD)的发射功率恒定的控制(自动功率控制，以下称作APC)是对峰值功率、擦除功率、和底值功率这三个功率电平来执行的。然而，传统的方法具有以下问题(1)需要快速响应/高精度的峰值保持电路或采样保持电路。(2)当比其它部分的脉冲高的脉冲(提升脉冲)仅被用作对应于标记部分起始和结束的脉冲时，不清楚峰值保持电路保持了多个峰值电平中的哪一个。(3)作为一个用于测量峰值电平的光监视器元件，例如前监视器，需要一个宽带监视器。随着光盘记录密度和速度的增加，会明显出现这些问题。
技术实现思路
因此本专利技术的目的是提供控制，从而即使由于温度变化使LD特性发生波动，也能在无需使用高价的快速响应/高精度峰值保持电路或宽带监视器的情况下使得LD总是以所需功率来发光。为了解决传统方法中存在的问题，提供了一种方法使用可通过窄带峰值保持电路而无需使用宽带峰值保持电路就可测量的记录中的平均功率和擦除功率来评估LD的电流对发射功率关系的特性(以下称为I-L特性)，并且确定一个电流设置值来获得任意功率电平。由于I-L特性随温度变化或时间减少而发生波动，必须确定一个引起了将要恒定生成的理想功率的驱动电流值。此时，如果已知了最新的I-L特性，则不仅可以保持一个恒定的发射电平，而且即使在了解或测试写特性的过程中目标电平发生改变时，也可以立即得知一个获得新目标电平所需的电流值。因此，可以瞬时地控制发射功率电平，而无需进行传统发射功率反馈控制中对瞬态的遍查。根据本专利技术的实施例，可以提供控制，从而即使由于温度变化使LD的特性发生波动，也能在无需使用高价的快速响应/高精度峰值保持电路或宽带监视器的情况下使得LD总是以所需功率来发光。附图说明图1是示出应用了本专利技术的光盘设备的构造示例的框图；图2是有助于说明在数据读取操作和数据写入操作中激光发射功率示例的示图； 图3是示出激光控制电路的实施例构造的框图；图4示出了用于LD发射功率控制中的发射功率与LD驱动电流之间的关系；图5是用来说明平均功率的示图；图6是用来说明单脉冲记录波形占空率的示图；图7是用来说明多脉冲记录波形占空率的示图；图8是激光二极管的电流对发射功率关系为非线性时的曲线图；图9是用来说明本专利技术中用来补偿电流对发射功率的非线性关系特性的方法的曲线图；图10是用来说明激光发射功率控制中LD驱动电流值设置过程的流程图；以及图11是用来说明激光发射功率控制中LD驱动电流值设置过程的第二实施例的流程图。具体实施例方式下面将参考附图说明本专利技术的实施例。图1是示出应用了本专利技术的光盘设备的构造示例的框图。光盘设备将信息记录在信息存储介质或如DVD(数字多功能盘)之类的光盘100上，并从中再现信息。在光盘100中，以同心圆方式或螺旋方式刻沟槽。凸出部分称为槽岸，凹入部分称为沟槽。一圈沟槽或槽岸称为轨道。沿轨道(或者只沿沟槽，或者沿沟槽和槽岸)施加经强度调制的激光以形成记录标记，从而记录用户数据。通过施加读取功率激光来再现数据，该读取功率激光比记录到轨道上并检测由轨道上的记录标记引起的反射光强度变化的激光弱。通过施加擦除功率激光来擦除所记录数据，该擦除功率激光比施加到轨道上以使记录层结晶的记录功率高。由主轴电动机63旋转光盘100。提供在主轴电动机63上的旋转检测器63a用来提供FG脉冲。当主轴电动机63作出一周旋转时，例如生成了5个FG脉冲。可由该FG脉冲来确定主轴电动机63的旋转角度和旋转数。由光学拾取器65来将信息记录到光盘100上以及从光盘100再现信息。通过齿轮将光学拾取器65与步进电动机66耦合。通过步进电动机控制电路68来控制步进电动机66。将速度检测电路69连接到步进电动机控制电路68。由速度检测电路69检测到的光学拾取器65的速度信号被发送到步进电动机控制电路68。永磁铁(未示出)被提供在步进电动机66的固定部分。步进电动机控制电路68激励驱动线圈67，从而使光学拾取器65沿光盘100的半径上方移动。由线簧或片簧(未示出)支持的物镜70提供给光学拾取器65。可以通过驱动线圈71的驱动来使物镜70在聚焦方向上(或在透镜的光轴方向上)移动。还可通过驱动线圈72的驱动来使其在轨道方向上(或在垂直于透镜光轴的方向上)移动。在记录信息过程中，调制电路73对从主机单元94经接口电路93提供的用户数据进行例如8-14调制(EFM)，从而提供EFM数据。当记录信息时(或者当形成标记时)，激光控制电路75根据调制电路73提供的EFM数据来把写入信号提供给激光二极管(或激光发射元件)79。当读取信息时，激光控制电路75把小于写入信号的读取信号提供给激光二极管79。下面将详细描述激光控制电路75的构造。由光电二极管组成的前监视器FM检测由激光二极管79产生的激光光量或发射功率，并向激光控制电路75提供检测到的电流。根据来自前监视器FM的检测到的电流，激光控制电路75控制激光二极管79以使二极管79以CPU90设定的再现激光功率、记录激光功率、或擦除激光功率来发光。激光二极管79根据激光控制电路75所提供的信号来产生激光。从激光二极管79发射的激光通过准直透镜80、半棱镜81、和物镜70并落在光盘100上。从光盘100反射的光通过物镜70、半棱镜81、聚光透镜82、和柱面透镜83并被导入光电检测器84。光电检测器84例如由象限光检测单元组成。这些光检测单元检测到的信号被输出到RF放大器85。RF放大器85对来自光检测单元的信号进行处理，并生成指示了对正确焦点的偏离的聚焦误差信号FE、指示了激光射束点中心与轨道中心间误差的循轨误差信号TE、以及作为光检测单元信号的总计信号的RF信号。聚焦误差信号FE被提供到聚焦控制电路87。聚焦控制电路87根据聚焦误差信号FE生成聚焦驱动信号。将聚焦驱动信号提供到聚焦方向上的驱动线圈71。这就实现了聚焦伺服以使得激光总是聚焦在光盘100的记录膜上。循轨误差信号TE被提供到循轨控制电路88。循轨控制电路88根据循轨误差信本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光盘设备，其特征在于包括：激光发射元件；检测单元（ＦＭ），其用来检测所述激光发射元件的发射功率；平均功率测量单元（１４，１５），其用来在写入操作中测量由所述检测单元检测到的发射功率的平均值，其中在所述写入操作中以 记录脉冲来驱动所述激光发射元件并将标记形成在光盘的轨道上；擦除功率测量单元（１２，１８），其用来在所述写入操作中对通过反馈控制所控来与目标值保持一致的擦除功率进行测量；擦除电流测量单元（１９，１８），在所述激光发射元件以擦除 功率发光的同时，所述擦除电流测量单元对驱动该激光发射元件的擦除电流进行测量；评估单元（８０，００７），其根据所述平均功率、所述擦除功率、所述擦除电流、和所述记录脉冲的波形来评估所述激光发射元件的电流对发射功率关系特性；以及控 制单元（９０，００８到０１０），其根据所述电流对发射功率关系特性来控制在所述写入操作中所述激光发射元件的峰值功率。

【技术特征摘要】
JP 2006-5-31 2006-1527581.一种光盘设备，其特征在于包括激光发射元件；检测单元(FM)，其用来检测所述激光发射元件的发射功率；平均功率测量单元(14，15)，其用来在写入操作中测量由所述检测单元检测到的发射功率的平均值，其中在所述写入操作中以记录脉冲来驱动所述激光发射元件并将标记形成在光盘的轨道上；擦除功率测量单元(12，18)，其用来在所述写入操作中对通过反馈控制所控来与目标值保持一致的擦除功率进行测量；擦除电流测量单元(19，18)，在所述激光发射元件以擦除功率发光的同时，所述擦除电流测量单元对驱动该激光发射元件的擦除电流进行测量；评估单元(80，007)，其根据所述平均功率、所述擦除功率、所述擦除电流、和所述记录脉冲的波形来评估所述激光发射元件的电流对发射功率关系特性；以及控制单元(90，008到010)，其根据所述电流对发射功率关系特性来控制在所述写入操作中所述激光发射元件的峰值功率。2.根据权利要求1所述的光盘设备，其特征在于所述评估单元评估出所述电流对发射功率关系特性为直线，并且进一步评估出实际产生的峰值功率距在所述写入操作中根据所述电流对发射功率关系特性计算出的目标峰值功率的偏移量(108)，并且所述控制单元根据所述偏移量来校正所述实际产生的峰值功率(107)。3.根据权利要求1或2所述的光盘设备，其特征在于进一步包括一个单元(012)，所述单元在所述平均功率与所述擦除功率之间的差等于或小于一个特定值时改变所述记录脉冲的波形的写策略。4.根据权利要求1到3的任意一个所述的光盘设备，其特征在于所述控制单元根据所述电流对发射功率关系特性来控制在所述写入操作中所述激光发射元件的底值功率(17，18)。5.一种记录功率控制方法，其特征在于包括步骤检测激...

【专利技术属性】
技术研发人员：碓井隆，黑田和人，上野雅史，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：JP[日本]