【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于设置写入参数最优值的方法，写入参数最优值用在利用辐射束将信息写入光记录介质的光记录装置中。本专利技术也涉及一种用于在光记录介质上记录信息的光记录装置，该装置包括辐射光源，用于发射具有可控写入功率电平值的、用于在记录介质上记录信息的辐射束。另外，本专利技术涉及一种利用辐射束照射记录介质来记录信息的光记录介质，该记录介质包括一个包含表示记录过程的控制信息的区域，由此可将信息记录在记录介质上。
技术介绍
在光记录装置中，利用激光束的恰当功率将信息记录在光记录介质上是非常重要的。虽然介质制造商可以以无条件的方式给出该恰当功率(比如，预先记录在光盘上)，但是每种记录介质和记录装置组合的环境及装置到装置(apparatus-to-apparatus)的偏差使得必须采用可靠的光记录来寻找与正被讨论的所述记录介质相关的恰当功率。在本领域中存在一些已知的用于该目的的最优功率控制(OPC)常规方法(routine)，比如(用于CR-RW的)gamma-OPC、(用于CD-R和DVD+/-R的)beta-OPC和(用于BD-RE/R)的kappa-OPC。在W...
【技术保护点】
一种用于设置写入参数最优值的方法，写入参数最优值用在利用辐射束（５）将信息写入光记录介质（１）的光记录装置中，所述方法包括步骤：１）在记录介质上写入一系列测试图案，每个图案用辐射束的写入功率电平（Ｐ）的不同值写入，２）读出所 述图案，以便形成对应的读取信号部分（１８、１９），以及３）从每个读取信号部分导出读取参数的值，４）将多个函数曲线拟合到相关联的所述读取参数值和所述写入功率电平（Ｐ）值，每个函数定义所述读取参数和所述写入功率电平（Ｐ）之间的关 系，每个曲线拟合函数具有对应的写入功率电平初始值（Ｐ↓［ｉｎｉ］），...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2004-12-23 04106921.21.一种用于设置写入参数最优值的方法，写入参数最优值用在利用辐射束(5)将信息写入光记录介质(1)的光记录装置中，所述方法包括步骤1)在记录介质上写入一系列测试图案，每个图案用辐射束的写入功率电平(P)的不同值写入，2)读出所述图案，以便形成对应的读取信号部分(18、19)，以及3)从每个读取信号部分导出读取参数的值，4)将多个函数曲线拟合到相关联的所述读取参数值和所述写入功率电平(P)值，每个函数定义所述读取参数和所述写入功率电平(P)之间的关系，每个曲线拟合函数具有对应的写入功率电平初始值(Pini)，5)从每个所述曲线拟合函数中导出对应的多个写入功率电平特征值(PChar)，每个写入功率电平特征值(PChar)因此具有相关联的写入功率电平初始值(Pini)，以及6)将所述多个写入功率电平初始值(Pini)和与其相关联的写入功率电平特征值(PChar)的每个值比较，从而设置写入参数最优值。2.如权利要求1的方法，其中所述读取参数是从记录在所述记录介质(1)上的信息得出的读取信号的振幅的调制(M)。3.如权利要求2的方法，其中所述多个曲线拟合函数中的至少一个函数具有P·M＝α·(P-β)的形式，其中α和β具有由曲线拟合产生的值，并且其中用于所述至少一个函数的所述写入参数特征值(PChar)设置成基本上等于β乘以第一倍增常数(κ)的值。4.如权利要求3的方法，其中所述第一倍增常数(κ)从包含表示记录过程的控制信息的所述记录介质(1)上的区域读出，凭借所述记录过程可以将信息记录在所述记录介质上。5.如权利要求3的方法，其中定义直线的所述至少一个函数的曲线拟合是在写入功率电平的预定拟合范围内实现的。6.如权利要求5的方法，其中所述预定拟合范围的位置由与每个曲线拟合函数相关联的写入功率电平初始值(Pini)以及范围因子(R)确定。7.如权利要求1的方法，其中基本上通过分离常数(S)乘以一个整数，使得多个写入功率电平初始值(Pini)中的每个写入功率电平初始值(Pini)在数值上互不相同。8.如权利要求1的方法，其中表示所述多个写入功率电平初始值(Pini)的信息从包含表示记录过程的控制信息的所述记录介质(1)上的区域读出，凭借所述记录过程可以将信息记录在所述记录介质上9.如权利要求1的方法，其中通过估计每个写入功率电平初始值(Pini)和每个与之相关联的写入功率电平特征值(PChar，)之间的数值差异，可以在步骤6中进行写入参数最优值的设置，写入参数最优值是具有最小数值差异的写入参数特征值(PChar)。10.如权利要求1的方法，其中通过找到一条直线与一条曲线之间...
【专利技术属性】
技术研发人员：M凯帕，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[]
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