折射元件的清洁方法和用于近场光学系统的光学扫描设备技术方案

一种清洁用于扫描光盘的近场光学扫描设备的折射元件的光学出射表面的方法，该方法包括接触步骤，包括使折射元件和清洁垫机械接触，以使得折射元件的光学出射表面不平行于清洁垫的表面，该折射元件沿着接触边缘与表面垫接触，以及第一清洁步骤，至少包括清洁垫至少沿着清洁轴相对于折射元件的相对运动，其中清洁轴处在清洁垫的平面中并且与接触边缘基本垂直。本发明专利技术还涉及能够根据所述方法清洁折射元件的近场光学扫描设备。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体涉及一种清洁近场型光学扫描设备的折射元件的方法。 本专利技术还涉及近场型光学扫描设备。
技术介绍
光学扫描设备借助在光盘上聚焦为小光点的辐射束来扫描光盘。扫 描光盘意味着从光盘中的或光盘上的信息层中读取或在信息层上写入。 可以在光盘上进行读取和/或记录的最大数据密度与聚焦在光盘上的辐 射光点的尺寸成反比。聚焦在光盘上的光点越小，能够被记录在光盘上 的数据密度越大。前述的光点尺寸又是由光学辐射源(例如激光器)生 成的扫描光束的波长X和也可以被称为物镜的聚焦透镜的数值孔径(NA)的比例所决定的。在本领域中已知的是，获得大于一的数值孔径(NA)要求所谓的近 场设置，其中将光学扫描设备的折射元件放置在物镜和光盘之间，使 得折射元件与光盘的出射表面以远小于波长的 一半的距离间隔开，在实 践中该距离小于几十纳米。当从光盘读取或向光盘写入时能实现上述距离要求的已知的光学 扫描设备设计是利用了滑动器的系统，类似于利用了致动器的有源反馈 系统和》兹性记录系统。对于滑动器和致动器这两种设计来说，技术挑战在于保持折射元件 的出射表面没有污染物和灰尘。这种在辐射路径中附着在表面上的污染 物或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁用于扫描光盘的近场光学扫描设备的折射元件的光学出射表面的方法，该方法包括：　　　　－接触步骤，包括使折射元件和清洁垫机械接触，以使得折射元件的光学出射表面不平行于清洁垫的表面，该折射元件沿着接触边缘与表面垫接触；　　　　－第一清洁步骤，至少包括清洁垫至少沿着清洁轴相对于折射元件的相对运动，其中清洁轴处在清洁垫的平面中并且与接触边缘基本垂直。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2005-7-20 05106634.81、一种清洁用于扫描光盘的近场光学扫描设备的折射元件的光学出射表面的方法，该方法包括-接触步骤，包括使折射元件和清洁垫机械接触，以使得折射元件的光学出射表面不平行于清洁垫的表面，该折射元件沿着接触边缘与表面垫接触；-第一清洁步骤，至少包括清洁垫至少沿着清洁轴相对于折射元件的相对运动，其中清洁轴处在清洁垫的平面中并且与接触边缘基本垂直。2、 根据权利要求1的清洁方法，其特征在于沿着清洁轴选择相对 运动的方向，使得接触边缘跟随该折射元件。3、 根据权利要求2的清洁方法，其特征在于该方法还包括在第一 清洁步骤之前的第 一旋转步骤，该第 一旋转步骤包括在折射元件的平面中围绕旋转轴旋转折射元件。4、 根据权利要求3的清洁方法，其特征在于旋转轴平行于接触边缘。5、 根据权利要求4的清洁方法，其特征在于第一清洁步骤还包括 沿着平行于接触边缘的轴的横向相对运动，优选地该相对运动沿着清洁 轴并且同时扭a行该;镜向相对运动。6、 根据权利要求3、 4或5的清洁方法，其特征在于还包括-第二旋转步骤，包括在与第一旋转步骤中的旋转方向相反的方向上围绕旋转轴旋转折射元件；-第二清洁步骤，至少包括清洁垫至少在清洁方向上相对于折射元 件的相对运动，该清洁方向沿着清洁轴使得接触边缘跟随该折射元件。7、 根据权利要求6的清洁方法，其特征在于重复第一旋转、第一 清洁、第二旋转、第二清洁的步骤序列。8、 根据权利要求7的清洁方法，其特征在于在第一旋转、第一清 洁、第二旋转、第二清洁的每一步骤序列之后，减小旋转折射元件的旋 转角度。9、 根据权利要求7或8的清洁方法，其特征在于该清洁步骤还包 括在平行于接触边缘的方向上的相对运动。10、 根据前述权利要求中任一的清洁方法，其特征在于选择接触边缘，使得它对应于当从光盘中读取信息时折射元件相对于光盘的切线运 动方向。11、 根据权利要求7的清洁方法，其特征在于将对应于第一旋转、 第一清洁、第二旋转、第二清洁的给定步骤序列的旋转轴选择为不同于 其他序列的旋转轴。12、 根据前述权利要求中任一的清洁方法，其特征在于折射元件的 旋转是通过用于在扫描光盘时提供透镜倾斜和聚焦控制的致动器来进 行的。13、 根据前述权利要求中任一的清洁方法，其特征在于清洁垫具有 基于棉花的表面。14、 根据前述权利要求中任一的清洁方法，其特征在于旋转角度在 1至100毫弧度之间。15、 根据前述权利要求中任一的清洁方法，其特征在于折射元件是 固体浸没透镜(SIL)。16、 一种用于扫描光盘的近场光学扫描设备，包括-前端单元，用于生成前向辐射束并检测反射的辐射束； -光头，该光头包括用于朝向光盘透射前向辐射束并朝向前端单元 透射从光盘反射的辐射束的折射元件； -清洁垫；-用于使折射元件和清洁塾处于机械接触的第一机械运动装置，以 使得折射元件的光学出射表面不平行于清洁垫的表面，折射元件沿着接 触边缘接触该清洁垫；-用于至少沿清洁轴相对于折射元件相对地移动清洁垫的第二机械 运动装置，其中该清洁轴处在清洁垫的平面中并且基本垂直于接触边 缘。17、 根据权利要求16的近场光学扫描设备，其特征在于第二机械 运动装置设置为沿着清洁轴在选择的方向上相对移动该清洁垫，该方向 被选择为使得接触边缘跟随该折...

【专利技术属性】
技术研发人员：CA弗舒伦，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]