一种自动清洁装置制造方法及图纸

技术编号:30492026 阅读:47 留言:0更新日期:2021-10-27 22:20
本发明专利技术提供一种自动清洁装置,包括上箱体,上箱体上方设有短进气管,上箱体下方设有上密封部,上箱体与上密封部留有空隙,形成上出风口,上箱体内设置上腔体,上腔体设置在上密封部上,上箱体、短进气管、上密封部和上腔体构成上清洁单元;上密封部下方设有下箱体,下箱体顶部正中心连接有长进气管,长进气管的进气端设置在上箱体上方,长进气管穿过上箱体设置,下箱体下方设有下密封部,下箱体和下密封部留有空隙,形成下出风口,下箱体内设置下腔体,下腔体设置在下密封部上,下箱体、长进气管、下密封部和下腔体构成下清洁单元;本发明专利技术降低了人力成本,使清洗工程自动化,质量稳定,避免了因员工接触而产生的的损伤。避免了因员工接触而产生的的损伤。避免了因员工接触而产生的的损伤。

【技术实现步骤摘要】
一种自动清洁装置


[0001]本专利技术主要涉及自动清洁领域,尤其涉及一种自动清洁装置。

技术介绍

[0002]内存条模块分离作业工序中,模块板上的粉尘等异物一般有作业员手动清理,不仅耗费人力,品质还时常不稳定情况,甚至有造成员工接触形成二次损伤的风险。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的上述缺陷,本专利技术提供一种自动清洁装置,包括上箱体1,所述上箱体1上方设有短进气管2,所述上箱体1下方设有上密封部3,所述上箱体1与上密封部3留有空隙,形成上出风口9,所述上箱体1内设置上腔体4,所述上腔体4设置在上密封部3上,所述上箱体1、短进气管2、上密封部3和上腔体4构成上清洁单元;所述上密封部3下方设有下箱体5,所述下箱体5顶部正中心连接有长进气管6,所述长进气管6的进气端设置在上箱体1上方,长进气管6穿过上箱体1设置,所述下箱体5下方设有下密封部 7,所述下箱体5和下密封部7留有空隙,形成下出风口10,所述下箱体5内设置下腔体14,所述下腔体14设置在下密封部7上,所述下箱体5、长进气管6、下密封部7和下腔体14构成下清洁单元本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自动清洁装置,其特征在于,包括上箱体(1),所述上箱体(1)上方设有短进气管(2),所述上箱体(1)下方设有上密封部(3),所述上箱体(1)与上密封部(3)留有空隙,形成上出风口(9),所述上箱体(1)内设置上腔体(4),所述上腔体(4)设置在上密封部(3)上,所述上箱体(1)、短进气管(2)、上密封部(3)和上腔体(4)构成上清洁单元;所述上密封部(3)下方设有下箱体(5),所述下箱体(5)顶部正中心连接有长进气管(6),所述长进气管(6)的进气端设置在上箱体(1)上方,长进气管(6)穿过上箱体(1)设置,所述下箱体(5)下方设有下密封部(7),所述下箱体(5)和下密封部(7)留有空隙,形成下出风口(10),所述下箱体(5)内设置下腔体(14),所述下腔体(14)设置在下密封部(7)上,所述下箱体(5)、长进气管(6)、下密封部(7)和下腔体(14)构成下清洁单元。2.根据权利要求1所述的一种自动清洁装置,其特征在于:所述短进气管(2)共设有两个,分别设置在上箱体(1)顶部两端。3.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:王林马全成杨向锋胡斌李林严金笑伉
申请(专利权)人:海太半导体无锡有限公司
类型:发明
国别省市:

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