一种U型等离子体处理系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种U型等离子体处理系统，所述等离子处理系统包括以下：前进腔、折返腔和返回腔，所述前进腔的入口端为进料口，返回腔的出口端为出料口，进料口和出料口在同一侧，从出料口出来的治具在去除PCB后能传输到进料口处重新安装新的PCB；载有待处理PCB的治具从进料口进入到前进腔后进行等离子体处理，当治具行进到前进腔的末端时，治具转移到折返腔内，由折返腔内的机构将治具传送到返回腔，治具再在返回腔内继续接收等离子体的处理，本实用新型专利技术的U型等离子体处理系统，在PCB的等离子体处理设备中，需要通过治具来承载被处理的PCB，治具在设备的入口端进入设备，在经过设备中一系列腔体后又回转回到入口端，从而完成治具的再利用。具的再利用。具的再利用。

【技术实现步骤摘要】
一种U型等离子体处理系统


[0001]本技术涉及一种U型等离子体处理系统，更具体的，特别涉及用于等离子体处理系统用于对PCB的等离子体处理的一种U型等离子体处理系统。

技术介绍

[0002]使用等离子体对PCB处理是一项重要的工艺，通常PCB无法直接进入到等离子体处理设备中，需要借助外部的治具先将PCB固定，再将治具送入到设备当中进行处理。在PCB处理完成后，需要将PCB从治具上取下，然后治具能重新转载新的PCB。因此，对于传统直线型等离子体处理系统需要有一套额外的治具回流系统将治具搬运回等离子体处理系统的上料端。另外，根据工艺的需要，直线型等离子体处理设备的长度可能会很长，再加上附属的治具回流系统，会占用很大的场地面积，造成厂房的利用率降低。

技术实现思路

[0003]为了克服上述缺陷，本技术提供了一种U型等离子体处理系统，该系统在等离子体处理腔体整体呈水平面上的U型，具有治具的上料端和下料端在同一侧的特点。
[0004]本技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种U型等离子体处理系统，所述等离子处理系统包括以下：前进腔、折返腔和返回腔，所述前进腔的入口端为进料口，返回腔的出口端为出料口，进料口和出料口在同一侧，从出料口出来的治具在去除PCB后能传输到进料口处重新安装新的PCB；载有待处理PCB的治具从进料口进入到前进腔后进行等离子体处理，当治具行进到前进腔的末端时，治具转移到折返腔内，由折返腔内的机构将治具传送到返回腔，治具再在返回腔内继续接收等离子体的处理。
[0005]作为本技术的进一步改进，所述治具在前进腔和返回腔内运行的方式可以是水平的或垂直的。
[0006]作为本技术的进一步改进，所述前进腔和返回腔相互平行并相互隔离，治具在两个腔体内的运行方向相反。
[0007]本技术的有益效果是：本技术的U型等离子体处理系统等离子体处理腔体整体呈水平面上的U型，具有治具的上料端和下料端在同一侧的特点，治具在设备内部线前运行一段距离后经过回转区域，又能在等离子体处理腔体内返回到上料端，在PCB的等离子体处理设备中，需要通过治具来承载被处理的PCB，治具在设备的入口端进入设备，在经过设备中一系列腔体后又回转回到入口端，从而完成治具的再利用。
附图说明
[0008]图1为本技术结构示意图；
[0009]图中标示：1.1、治具，1.2、前进腔，1.3、折返腔，1.4、返回腔，1.5、进料口，1.6、出料口。
具体实施方式
[0010]为了加深对本技术的理解，下面将结合实施例和附图对本技术作进一步详述，该实施例仅用于解释本技术，并不构成对本技术保护范围的限定。
[0011]图1出示了本技术一种U型等离子体处理系统的一种实施方式，所述等离子处理系统包括以下：前进腔1.2、折返腔1.3和返回腔1.4，所述前进腔1.2的入口端为进料口1.5，返回腔1.4的出口端为出料口1.6，进料口1.5和出料口1.6在同一侧，从出料口1.6出来的治具在去除PCB后能传输到进料口1.5处重新安装新的PCB；载有待处理PCB的治具1.1从进料口1.5进入到前进腔1.2后进行等离子体处理，当治具1.1行进到前进腔1.2的末端时，治具1.1转移到折返腔1.3内，由折返腔1.3内的机构将治具1.1传送到返回腔1.4，治具再在返回腔1.4内继续接收等离子体的处理。
[0012]所述治具1.1在前进腔和返回腔内运行的方式可以是水平的或垂直的。
[0013]所述前进腔1.2和返回腔1.4相互平行并相互隔离，治具1.1在两个腔体内的运行方向相反。
[0014]等离子体处理系统包含一个上料口，一个出料口，上料口和出料口处于设备的同侧，治具在上料口进入设备，从出料口离开设备；
[0015]等离子体处理系统的腔体分为三部分，从上料口开始到出料口结束依次为：前进腔1.2，折返腔1.3和返回腔1.4，前进腔1.2和返回腔1.4相互平行并相互隔离，治具在两个腔体内的运行方向相反，两个腔体通过折返腔连通，治具1.1在折返腔1.3内通过平移、旋转、翻面等动作从前进腔1.2转移到返回腔1.4；PCB在前进腔1.2和返回腔1.4完成等离子体的处理。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种U型等离子体处理系统，其特征在于：包括以下：前进腔(1.2)、折返腔(1.3)和返回腔(1.4)，所述前进腔(1.2)的入口端为进料口(1.5)，返回腔(1.4)的出口端为出料口(1.6)，进料口(1.5)和出料口(1.6)在同一侧，从出料口(1.6)出来的治具在去除PCB后能传输到进料口(1.5)处重新安装新的PCB；载有待处理PCB的治具(1.1)从进料口(1.5)进入到前进腔(1.2)后进行等离子体处理，当治具(1.1)行进到前进腔(1.2)的末端...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈培峰，宗泽源，刘庆峰，程凡雄，汤家云，
申请(专利权)人：扬州国兴技术有限公司，
类型：新型
国别省市：