【技术实现步骤摘要】
用于PECVD反应室的辅助加热装置及PECVD反应室
[0001]本技术涉及PECVD设备,尤其涉及一种用于PECVD反应室的辅助加热装置及PECVD反应室。
技术介绍
[0002]PECVD设备采用的等离子体增强化学气相沉积技术,在低压条件下,利用射频电场使反应气体产生辉光放电,电离出等离子体,促进反应活性基团的生成,从而使得反应能在较低的温度进行。应用管式PECVD设备在硅片表面制备一层或多层二氧化硅或氮氧硅或氮化硅减反射膜,既可以减少硅片表面对太阳光的发射提高光的吸收率,又可以对硅片表面起到钝化和保护作用,故在光伏电池的生产中广泛应用。
[0003]在实际生产应用过程中,为了尽可能缩短恒温时间以提高单位时间产能,多在反应室内部增加辅助加热装置,并且目前大多采用石英套管封装的加热灯管作为辅助加热装置,有辅助加热装置采用电阻丝绕制加石英套管形式的,有辅助加热装置采用红外灯管的。虽然也有辅助加热装置直接采用铁铬铝合金作为加热丝,整体绕制成圆弧板状结构,但因加热丝无石英套管保护,加热丝直接暴露在高温等离子体反应气氛中, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于PECVD反应室的辅助加热装置,其特征在于:包括绝缘封头(61)、保护管(62)和辅助加热丝(63),所述绝缘封头(61)设于反应室一端端部的外侧,且绝缘封头(61)与反应室的端部之间具有密封结构,所述反应室一端端部的内侧设有内安装套(53),所述保护管(62)设于反应室内,且保护管(62)的一端套在所述内安装套(53)内,所述辅助加热丝(63)设于保护管(62)内,且辅助加热丝(63)的引线穿设在绝缘封头(61)上。2.根据权利要求1所述的用于PECVD反应室的辅助加热装置,其特征在于:所述密封结构为密封圈(71);所述保护管(62)为石英保护管。3.根据权利要求1所述的用于PECVD反应室的辅助加热装置,其特征在于:所述保护管(62)的端部与内安装套(53)的底壁之间设有缓冲垫圈(72)。4.根据权利要求3所述的用于PECVD反应室的辅助加热装置,其特征在于:所述缓冲垫圈(72)为耐高温的铁氟龙材料。5.根据权利要求1至4任意一项所述的用于PECVD反应室的辅助加热装置,其特征在于:所述辅助加热丝(63)为铠装电阻丝;所述辅助加热丝(63)由单根铠装电阻丝呈双螺旋绕成。6.一种PECVD反应室,所述反应室包括石英反应管(1)、保温层(2)、主加热丝(3)、进气法兰(4)、尾端法兰(5),所述主加热丝(3)缠绕在石英反应管(1)的外周,所述保温层(2)套在主加热丝(3)上,所述进气法兰(4)和尾端...
【专利技术属性】
技术研发人员:谢成,张春成,李明,
申请(专利权)人:湖南红太阳光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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