一种反射率调节结构、制作方法及显示面板技术

本发明专利技术公开了本发明专利技术实施例中提供的一种反射率调节结构、制作方法及显示面板，其中所述反射率调节结构包括：弹性介质层和多个嵌入单元；每个嵌入单元包含金属层，多个嵌入单元阵列排布在弹性介质层内部；其中，对弹性介质层进行变形，可嵌入单元之间的间隙改变。本发明专利技术的反射率调节结构，其设计不依赖于光学偏振，设计条件要求低，设计结构极化不敏感，可直接用于自然光的环境；且构成该结构的金属层、弹性介质层易于加工，可很好的与现有制造工艺兼容。兼容。兼容。

【技术实现步骤摘要】
一种反射率调节结构、制作方法及显示面板


[0001]本专利技术涉及光学器件
，尤其涉及一种反射率调节结构、制作方法及显示面板。

技术介绍

[0002]光的非对称传输(Asymmetric Light Transmission，ALT)是指光从器件的两侧分别入射时测量的透过率不同。在开发下一代全光计算处理设备和系统，以及汽车等领域具有潜在应用。实现光的非对称传输器件的方案主要基于光学非互易方法，如磁光效应，非线性光学，间接带间光子跃迁和光声效应等。光学非互易性是一种理想的解决方案，因为它使器件能够在一个方向上传输任何光学模式，并在另一个方向利用偏振片过滤方向平行的光学模式。然而，上述方案中对光本身的偏振性有要求，或者需要对光进行周期性调制，或者要求很高的光强度，因而要适用于自然光的非对称传输研究比较困难。同时，目前多数光学非互易方法通常与CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor，互补金属氧化物半导体)工艺不兼容，加工和制造比较困难。
[0003]由此可见，现有的非对称传输器件设计方案中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反射率调节结构，其特征在于，包括：弹性介质层和多个嵌入单元；每个所述嵌入单元包含金属层，所述多个嵌入单元阵列排布在所述弹性介质层内部；其中，对所述弹性介质层进行变形，可使所述嵌入单元之间的间隙改变。2.如权利要求1所述的反射率调节结构，其特征在于，所述嵌入单元两侧的弹性介质层厚度均大于0。3.如权利要求2所述的反射率调节结构，其特征在于，所述嵌入单元两侧的弹性介质层厚度均不小于所述嵌入单元的厚度。4.如权利要求1所述的反射率调节结构，其特征在于，所述嵌入单元包括电介质层；所述金属层层叠设置在所述电介质层上。5.如权利要求4所述的反射率调节结构，其特征在于，所述嵌入单元还包括：基底层，所述电介质层层叠设置在所述基底层上，所述基底层位于所述电介质层远离金属层的一侧。6.如权利要求5所述的反射率调节结构，其特征在于，所述基底层与所述电介质层接触的侧面面积大于所述电介质层与所述基底层接触的侧面面积；所述电介质层与所述金属层接触的侧面面积大于所述金属层与所述电介质层接触的侧面面积。7.如权利要求1所述的反射率调节结构，其特征在于，所述嵌入单元在所述弹性介质层内部的阵列方式为矩形阵列。8.如权利要求1所述的反射率调节结构，其特征在于，弹性介质层的材料为：弹性透明材料，或施加电压后变形的材料。9.如权利要求8所述的反射率调节结构，其特征在于，所述弹性透明材料为以下材料的任一种或多种：聚酰亚胺、聚二甲基硅氧烷、聚对苯二甲酸乙二醇酯。10.如权利要求9所述的反射率调节结构，其特征在于，所述施加电压后变形的材料为介电弹性体。11.如权利要求10所述的反射率调节结构，其特征在于，还包括：第一电极和第二电极；所述第一电极设置在所述介电弹性体的一侧表面，并靠近所述介电弹性体的边缘；所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：周健，李文波，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：