一种宽禁带异质结构的矩阵式平面变压器制造技术

技术编号:30435695 阅读:22 留言:0更新日期:2021-10-24 17:35
本发明专利技术公开一种宽禁带异质结构的矩阵式平面变压器,涉及变压器领域,器件包括GaN衬底,所述GaN衬底上为厚度在500nm

【技术实现步骤摘要】
一种宽禁带异质结构的矩阵式平面变压器


[0001]本专利技术涉及变压器领域,具体涉及一种宽禁带异质结构的矩阵式平面变压器。

技术介绍

[0002]传统的变压器有两种形式,第一种最常见,由磁芯、线圈和骨架组成,有贴片和插件两种样式,该型变压器由于绕线工艺的复杂多变以及线径的影响,其工作带宽通常低于1MHz,且线圈的交流电阻较大,损耗大,变压器尺寸也大。第二种即为平面变压器,由磁芯、PCB板组成,不需要骨架,线圈直接通过PCB板制备,该型变压器绕线一致性很高,走线薄,线圈交流电阻较小,损耗低,最重要的优点是高频性能好,工作带宽可提升至2MHz。
[0003]平面变压器是一种具有高频、低造型、高度很小但工作频率很高等特点的变压器。由于平面磁芯的研发成功,实现了平面化的变压器的设计,并且平面变压器要求磁芯、绕组是平面结构,所以采用多层PCB绕组。在铁芯及线圈绕组部分,平面变压器采用小尺寸的E型、RM型或环型铁氧体磁芯,通常是由高频功率铁氧体材料制成,在高频下有较低的磁芯损耗;绕组采用多层印刷电路板迭绕而成,绕组或铜片迭在平面的高频铁芯上构成变压本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种宽禁带异质结构的矩阵式平面变压器,其特征在于,包括结构相同的原副边器件,所述器件包括GaN衬底,所述GaN衬底上为厚度在500nm

3μm之间的GaN层,所述GaN层之上为厚度在10nm

30nm之间的AlGaN层,所述GaN层和AlGaN层异质结中间填充有绝缘体;制作原副边器件的方法,包括如下步骤;步骤一:器件清洗先依次采用丙酮、酒精、去离子水各超声5分钟,去除部分油脂;再采用1号液APM超声10分钟,去除粒子、有机物和部分金属;然后用2号液HPM超声10分钟,去除氧化物并降低氧元素的残余量;然后再次依次采用丙酮、酒精、去离子水各超声5分钟;最后氮气吹干后立即在110℃热台上烘烤5分钟备用;步骤二:台面蚀刻先做光刻,然后RIE去残胶,再采用ICP刻蚀,刻蚀时间20秒,刻蚀厚度500nm~3μm;然后RIE去残胶,再用盐酸对表面进行处理1分钟,再氮气吹干后立刻在110℃热台上烘烤5分钟;步骤三:填充绝缘体在步骤二刻蚀的凹槽中填入绝缘体。步骤四;制作电极在器件上使用物理气相淀积蒸镀电极。步骤五:互联利用IN柱进行互联,采用微加工,在IN柱外侧用微加工附上一层绝缘体,然后再利用IN柱将原边、副边互联。2.根据权利要求1所述的一种宽禁带异质结构的矩阵式平面变压器,其特征在于:所述绝缘体的填充厚度为100nm

【专利技术属性】
技术研发人员:雷建明张文波胡春花
申请(专利权)人:南京工业职业技术大学
类型:发明
国别省市:

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