对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法技术

本发明专利技术涉及平面显示技术领域，公开了一种对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法。所述对位标记结构设置于基板或掩膜板上，所述对位标记结构包括对位标记及开设于对位标记上的透光孔。本发明专利技术提供的对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法可提高对位标记的对位精准度及基板与掩膜板间的位置精度，确保产品良率。确保产品良率。确保产品良率。

【技术实现步骤摘要】
对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法


[0001]本专利技术涉及平面显示
，尤其涉及一种对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法。

技术介绍

[0002]曝光工艺是在光刻胶涂布后，用带有图形的掩膜板对玻璃基板进行曝光，把需要的图形从掩膜板上转移到玻璃基板上。利用曝光机进行曝光时，为保证曝光精准度，需要在玻璃基板及掩膜板上制作对位标记，并在曝光前根据对位标记预先进行对位，以保证曝光时玻璃基板与掩膜板的位置精度。
[0003]现有技术中，玻璃基板的对位标记上还覆盖有不透明膜层，不透明膜层的存在会影响对位标记的识别效果，导致图像传感器无法获取清晰的对位标记图像，进而影响玻璃基板及掩膜板间对位精准度及位置精度。另外，当玻璃基板上需要制作多层电路图形时，需要反复进行对位，对于曝光工艺来讲，需要确保每层膜层间的对位精度，才能避免多层膜层间出现套合误差，保证产品良率。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法，用于解决对位标记对位精准差的问题本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种对位标记结构，设置于基板或掩膜板上，其特征在于，所述对位标记结构包括对位标记及开设于所述对位标记上的透光孔。2.根据权利要求1所述的对位标记结构，其特征在于，所述透光孔包括至少一个点状孔或条形孔，且所述透光孔沿着所述对位标记的至少部分边缘延伸。3.根据权利要求1或2所述的对位标记结构，其特征在于，所述对位标记为正方形、长方形、三角形或十字形的一种。4.一种基板，其特征在于，所述基板上设有如权利要求1
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3中任一项所述的对位标记结构。5.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板上设有如权利要求1
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3中任一项所述的对位标记结构。6.一种基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，所述对位方法包括：提供基板，所述基板上设有第一对位标记及开设于所述第一对位标记上的第一透光孔，所述基板上还设有覆盖所述第一对位标记及所述第一透光孔的不透明膜层；提供掩膜板，所述掩膜板上设有第二对位标记；根据所述不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数；利用所述图像传感器获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述第一对位标记的位置相对。7.根据权利要求6所述的基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，所述对位方法还包括：提供辅助对位膜层，所述辅助对位膜层设置于所述不透明膜层的上方；利用背曝光技术，在所述辅助对位膜层上形成与所述第一对位标记和所述第一透光孔结构及位置相同的辅助对位标记和辅助透光孔；利用所述图像传感器获取所述基板的位置信息，并根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：古海裕，刘威，何春荣，朱春生，王士敏，朱泽力，
申请(专利权)人：深圳莱宝高科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：