一种导流盘和导流盘的布局方法技术

本发明专利技术公开一种导流盘和导流盘布局方法，所述导流盘包括本体、多个第一凸台和多个第二凸台，本体中心设有通孔，所述本体上设有凸点，多个第一凸台以本体的中心为圆心环形均匀分布在本体上，且多个第一凸台沿本体的径向从通孔向本体的边缘间隔设置，多个第二凸台邻近本体的外轮廓设置在本体上，多个第二凸台以本体的中心为圆心环形均匀分布，且多个第二凸台沿本体的径向间隔设置，每个第二凸台为条状，每个第二凸台延伸方向与本体的径向相交，相邻的两个第二凸台的延伸方向相互平行，多个第一凸台的部分位于相邻的两个第二凸台之间。本发明专利技术实施例的导流盘，具有导流盘剪切力大、流体性能均衡的优点。能均衡的优点。能均衡的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种导流盘和导流盘的布局方法


[0001]本专利技术涉及膜组件
，具体地，涉及一种导流盘和导流盘的布局方法。

技术介绍

[0002]近年来，膜技术发展迅速，在电力、冶金、石油石化、医药、食品、市政工程、污水回用及海水淡化等领域得到较为广泛的应用，各类工程对膜技术及其装备的需求量更是急速增加。目前在渗滤液和浓盐水零排放应用领域，碟管式反渗透膜组件已得到广泛的应用。碟管式膜组件中导流盘主要作用是两个导流盘之间形成一个空腔，为膜片提供一个安装位置，进而实现浓液和清液的分离。导流盘与外筒形成一个进水通道，导流盘与紧固螺栓形成一个清液通道。导流盘靠近中心孔位置设置有密封槽，内部安装O型密封圈，防止浓液和清液混合。
[0003]传统的碟管式膜组件所使用导流盘多为凸点式导流盘，导流盘上设置很多湍流凸点，湍流凸点可以加强导流盘的导向作用，也对膜片起到支撑作用。所述湍流凸点为细小凸点，设备运行压力较大时(或压力波动剧烈时)易损坏膜片，且分布较多时对动能损耗大，分布较少时无法对膜片起到支撑作用。

技术实现思路

[0004]为此，本专利技术的实施例提出一种剪切力大、流体性能均衡导流盘。
[0005]本专利技术的实施例还提出一种导流盘的布局方法。
[0006]根据本专利技术实施例的一种导流盘，包括：
[0007]本体，所述本体中心设有通孔，所述本体上设有凸点；
[0008]多个第一凸台，多个所述第一凸台以所述本体的中心为圆心环形均匀分布在所述本体上，且多个所述第一凸台沿所述本体的径向从所述通孔向所述本体的边缘间隔设置；和
[0009]多个第二凸台，多个所述第二凸台邻近所述本体的外轮廓设置在本体上，多个所述第二凸台以所述本体的中心为圆心环形均匀分布，且多个所述第二凸台沿所述本体的径向间隔设置；
[0010]每个所述第二凸台为条状，每个所述第二凸台延伸方向与所述本体的径向相交，相邻的两个所述第二凸台的延伸方向相互平行，多个所述第一凸台的部分位于相邻的两个第二凸台之间。
[0011]根据本专利技术实施例的导流盘，具有导流盘剪切力大、流体性能均衡的优点。
[0012]在一些实施例中，每个所述第二凸台均包括第一端和第二端，所述第二凸台的第一端邻近所述本体的中心，所述第二凸台的延伸方向与所述本体过所述第二凸台第一端的径向的夹角为1
°‑
45
°
之间。
[0013]在一些实施例中，所述第二凸台的长度为1mm
‑
10mm。
[0014]在一些实施例中，所述第一凸台由邻近所述本体的一侧向远离所述本体的一侧呈
收缩状结构，所述第一凸台邻近所述本体的一侧与所述本体之间具有过渡段，所述第一凸台的顶部为半球面。
[0015]在一些实施例中，所述第二凸台的形状为长方体、正方体、梯形台或四棱台的中的一种。
[0016]根据本专利技术上述任一实施例所述的导流盘的布局方法，包括以下步骤：
[0017]制作导流盘的本体的三维模型；
[0018]将多个第一凸台以本体的中心为圆心，环形设置在本体上，以形成第一层第一环形凸台；
[0019]对经过第一环形凸台剪切后的流体进行流量数值模拟，根据被第一层环形凸台剪切后的流体的流速，在本体上沿本体的径向设置与第一层环形凸台间隔的第二层第一环形凸台；
[0020]第二层第一环形凸台中的每个第一凸台设在被第一层环形凸台剪切后的流体流速较低的位置；
[0021]对流体进行多次流量数值模拟，并根据模拟结果沿本体的径向从第二层第一环形凸台向本体的边缘方向间隔设置多层第一环形凸台；
[0022]对经过多层第一环形凸台剪切后的流体进行流量数值模拟，根据模拟结果在本体上沿本体的径向间隔设置多层第二环形凸台；
[0023]其中，每层第二环形凸台均包括多个第二凸台，每个第二凸台均为条状，多个第二凸台以本体的中心为圆心环形布置，相邻两个第二凸台在其延伸方向相互平行。
[0024]根据本专利技术实施例的导流盘的布局方法，具有导流盘剪切力大、流体性能均衡的优点。
[0025]在一些实施例中，设置第二层第一环形凸台包括以下步骤：
[0026]对经过第一层第一环形凸台剪切后的流体进行CFD流速分布测试，根据CFD流速分布测试的结果，将第二层第一环形凸台中的每一个第一凸台以环形设在经第一层第一环形凸台剪切后流速低且避开尾流影响的位置。
[0027]在一些实施例中，设置多层第二环形凸台还包括以下步骤：
[0028]第二环形凸台中的每一个第二凸台设在被多层第一层环形凸台剪切后的流体流速较低的位置。
[0029]在一些实施例中，设置多层第二环形凸台还包括以下步骤：
[0030]对经过多层第一环形凸台剪切后的流体进行CFD流速分布测试，根据CFD流速分布测试的结果，将第一层第二环形凸台中的每一个第二凸台以环形设在经多层第一环形凸台剪切后流速低且避开尾流影响的位置；
[0031]对流体进行多次流量数值模拟，并根据模拟结果沿本体的径向从第一层第二环形凸台向本体的边缘方向间隔设置多层第二环形凸台。
[0032]在一些实施例中，第二凸台的延伸方向与导流盘的径向相交。
附图说明
[0033]图1是根据本专利技术实施例所述的导流盘的结构示意图。
[0034]图2是仅优化第一凸台位置的导流盘的膜片剪切力示意图。
[0035]图3是根据本专利技术实施例所述的导流盘的膜片剪切力示意图。
[0036]图4是不同导流盘的平均湍流动能柱状图。
[0037]图5是不同导流盘的平均膜片剪切力柱状图。
[0038]图6是将传统导流盘划分成为三个监测圈的划分示意图。
[0039]图7是图6中导流盘每个监测圈的膜片剪切力示意图。
[0040]图8是将仅优化第一凸台位置的导流盘划分成为三个监测圈的划分示意图。
[0041]图9是图8中导流盘每个监测圈的膜片剪切力示意图。
[0042]图10是将本申请中导流盘划分成为三个监测圈的划分示意图。
[0043]图11是图10中导流盘每个监测圈的膜片剪切力示意图。
[0044]图12是传统导流盘中进水方向示意图。
[0045]图13是仅优化第一凸台位置的导流盘中进水方向示意图。
[0046]图14是本申请中导流盘进水方向示意图。
[0047]图15是每个导流盘中沿进水方向膜片剪切力结构示意图。
[0048]附图标记：
[0049]导流盘100，
[0050]本体1，通孔11，第一凸台2，第二凸台3。
具体实施方式
[0051]下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。
[0052]如图1所示，根据本专利技术实施例的导流盘包括本体、多个第一凸台和多个第二凸台。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种导流盘，其特征在于，包括：本体，所述本体中心设有通孔，所述本体上设有凸点；多个第一凸台，多个所述第一凸台以所述本体的中心为圆心环形均匀分布在所述本体上，且多个所述第一凸台沿所述本体的径向从所述通孔向所述本体的边缘间隔设置；和多个第二凸台，多个所述第二凸台邻近所述本体的外轮廓设置在本体上，多个所述第二凸台以所述本体的中心为圆心环形均匀分布，且多个所述第二凸台沿所述本体的径向间隔设置；每个所述第二凸台为条状，每个所述第二凸台延伸方向与所述本体的径向相交，相邻的两个所述第二凸台的延伸方向相互平行，多个所述第一凸台的部分位于相邻的两个第二凸台之间。2.根据权利要求1所述的导流盘，其特征在于，每个所述第二凸台均包括第一端和第二端，所述第二凸台的第一端邻近所述本体的中心，所述第二凸台的延伸方向与所述本体过所述第二凸台第一端的径向的夹角为1
°‑
45
°
之间。3.根据权利要求1所述的导流盘，其特征在于，所述第二凸台的长度为1mm
‑
10mm。4.根据权利要求1所述的导流盘，其特征在于，所述第一凸台由邻近所述本体的一侧向远离所述本体的一侧呈收缩状结构，所述第一凸台邻近所述本体的一侧与所述本体之间具有过渡段，所述第一凸台的顶部为半球面。5.根据权利要求1所述的导流盘，其特征在于，所述第二凸台的形状为长方体、正方体、梯形台或四棱台的中的一种。6.一种如权利要求1
‑
5中任一项所述的导流盘的布局方法，其特征在于，包括以下步骤：制作导流盘的本体的三维模型；将多个第一凸台以本体的中心为圆心，环形设置在本体上，以形成第一层第一环形凸台；对经过第一环形凸台剪切后的流体进行流量数值模拟，根据被第一层环形凸台剪切后的流体的流速...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹湘，韦文术，李然，周如林，赵康康，张晶晶，王远，吕顺之，孙邃，
申请(专利权)人：江苏新宜中澳环境技术有限公司，
类型：发明
国别省市：