【技术实现步骤摘要】
用于熔融和澄清玻璃的设备以及用于制造此类设备的方法
[0001]本专利技术涉及一种用于熔融和澄清玻璃的设备，所述设备包括：
[0002]浴槽，所述浴槽具有预设高度和预设宽度、至少用于制造玻璃熔体，
[0003]澄清墙所述澄清墙基本上在所述浴槽的横向方向上延伸并且其高度小于所述浴槽的高度，其中所述澄清墙具有两个壁部用于形成间隙，在所述间隙中布置有溢流堰，用于形成所述玻璃熔体的溢流边缘。
[0004]本专利技术还涉及一种用于制造用于熔融和澄清玻璃的设备的方法，所述方法包括以下步骤：
[0005]‑
提供浴槽，所述浴槽具有预设高度和预设宽度、至少用于制造玻璃熔体，以及
[0006]‑
提供澄清墙，所述澄清墙基本上在所述浴槽的横向方向上延伸并且其高度小于所述浴槽的高度，其中所述澄清墙具有两个壁部用于形成间隙，在所述间隙中布置有溢流堰，用于形成所述玻璃熔体的溢流边缘。
技术介绍
[0007]虽然本专利技术一般而言可用于任意的澄清墙材料，但是参考包含钼的澄清墙来阐释本专利技术。
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于熔融和澄清玻璃的设备(1)，所述设备包括：浴槽(3)，所述浴槽具有预设高度(300)和预设宽度(301)、至少用于制造玻璃熔体，澄清墙(2)，所述澄清墙基本上在所述浴槽(3)的横向方向(100)上延伸并且其高度(200)小于所述浴槽(3)的高度(300)，其中所述澄清墙(2)具有两个壁部(4a、4b)用于形成间隙(5)，在所述间隙(5)中布置有溢流堰(6)，用于形成所述玻璃熔体的溢流边缘，其特征在于，布置有保护流体供给装置(7)，所述保护流体供给装置(7)与所述间隙(5)流体连接，并且其中所述保护流体供给装置(7)被形成为至少在所述设备(1)的启用过程期间相对于所述浴槽(3)的环境以正压在所述间隙中提供保护流体用于保护所述溢流堰(6)。2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，一个或多个遮盖件(8)被布置在所述澄清墙(2)上，所述遮盖件(8)具有可预设数量的间隙(9)和/或其中在至少两个相邻的遮盖件(8)之间形成有间隙(9)。3.根据权利要求1
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2之一所述的设备，其特征在于，以气体形式提供所述保护流体，优选地，以惰性气体、尤其氮气和/或稀有气体的形式和/或以合成气的形式提供所述气体，所述合成气优选具有介于0与20体积％之间、尤其介于0.5与10体积％之间的氢气比例。4.根据权利要求1
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3之一所述的设备，其特征在于，布置有至少一个压力测量装置(12)，所述压力测量装置包括至少一个压力传感器(12')并且被形成为用于测量所述间隙内部的保护流体的压力，和/或布置有温度测量装置(13)，所述温度测量装置包括至少一个温度传感器(13')并且被形成为用于测量所述间隙(5)内部的所述溢流堰(6)的温度。5.根据权利要求1
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4之一所述的设备，其特征在于，布置有调节装置(10)，所述调节装置被形成为用于借助于由所述压力测量装置(12)测量的压力和/或由所述温度测量装置(13)测量的温度来将保护流体的流入量调节到可预先确定的值。6.根据权利要求1
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5之一所述的设备，其特征在于，所述保护流体供给装置(7)包括多个用于对所述间隙(5)施加保护流体的施加装置(11)，所述施加装置在侧向竖直地(...
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