分析装置制造方法及图纸

带电粒子束照射装置构成为向试样照射带电粒子束并检测从试样释放的信号。第一处理部(10)构成为能够与第一输入设备(11)进行通信，根据来自第一输入设备(11)的信号，并基于带电粒子束照射装置的检测信号对试样进行分析。第二处理部(20)构成为能够与第二输入设备(21)及第一处理部(10)进行通信，根据带电粒子束照射装置的检测信号来生成试样的观察图像，并且根据来自第二输入设备(21)的信号控制带电粒子束照射装置。第二输入设备(21)包括指示设备。第二处理部(20)将针对指示设备的操作输入转换为对带电粒子束照射装置的控制信号。转换为对带电粒子束照射装置的控制信号。转换为对带电粒子束照射装置的控制信号。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】分析装置


[0001]本专利技术涉及一种分析装置。

技术介绍

[0002]电子探针显微分析仪(EPMA：Electron Probe Micro Analyzer)和扫描电子显微镜(SEM：Scanning Electron Microscope)等分析装置构成为：向试样照射电子束和离子束等带电粒子束，并检测通过该照射而从试样产生的信号(二次电子射线、反射电子射线以及特性X射线等)，由此能够进行试样的观察和分析。
[0003]在日本特开2015
‑
17971号公报(专利文献1)中公开了一种使用分光显微镜观察试样的分光测定装置。专利文献1中记载的分光测定装置具有使由分光显微镜获取到的分光数据显示于显示部的图像处理装置。图像处理装置构成为按照来自鼠标等指示设备的指示来变更显示图像。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2015
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17971号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]在分析装置中，近年来提出了一种能够利用指示设备进行用于试样的观察和分析的所有操作的结构。根据该结构，分析者通过利用指示设备操作显示在显示器上的图标等，能够进行试样的像观察(二次电子像、反射电子像以及X射线像)、基于观察图像的试样的分析位置搜索以及分析位置处所包含的元素的定性及定量分析。
[0009]例如，在利用EPMA进行试样的分析位置搜索的情况下，在显示器显示观察图像，并且显示用于调整试样台的位置、电子束的焦点和倍率等的图标。当分析者一边看观察图像一边利用指示设备操作图标时，通过根据该操作控制电子束照射装置，能够将视野设定在试样上的期望的分析位置。
[0010]此外，由于每当变更试样时就进行试样的分析位置搜索，因此与其它操作相比，执行频率相对高。然而，在上述结构中，根据分析者的不同而操作性有时未必高，但由于需要与其它操作并用指示设备，因此难以使指示设备专门用于对电子束照射装置的控制。
[0011]另一方面，作为分析装置的其它结构，存在一种使专门用于对电子束照射装置的控制的专用操作设备附属于电子束照射装置的结构。例如，与电子束照射装置一体地设置面板状的操作设备，在该操作设备中设置用于调整试样台的位置、电子束的焦点和倍率等的操作开关(按钮、拨盘以及开关等)。分析者能够通过一边看观察图像一边手动地操作操作开关，来控制电子束照射装置。但是，即使是像这样专门用于对电子束照射装置的控制的操作设备，也因分析者不同而使用便利性不同，因此存在难以提供对于所有分析者来说操作性良好的操作设备的问题。
[0012]另外，由于在专用的操作设备与电子束照射装置的控制器之间的通信中使用电子束照射装置所固有的通信，因此装置生产商需要按每个装置进行设计，存在制造成本高的问题。
[0013]本专利技术是为了解决上述问题而完成的，其目的在于，在分析装置中以简单的结构提高分析者的作业效率。
[0014]用于解决问题的方案
[0015]根据本专利技术的第一方式，分析装置具备带电粒子束照射装置、第一处理部、第二处理部以及显示器。带电粒子束照射装置构成为向试样照射带电粒子束，并检测从试样释放的信号。第一处理部构成为能够与第一输入设备进行通信，并且构成为按照利用第一输入设备指定的分析条件，并基于带电粒子束照射装置的检测信号对试样进行分析。第二处理部构成为能够与第二输入设备及第一处理部进行通信，并且构成为根据带电粒子束照射装置的检测信号生成试样的观察图像，并且根据来自第二输入设备的信号控制带电粒子束照射装置。显示器构成为能够与第一处理部及第二处理部进行通信，并且构成为显示分析条件和由第二处理部生成的观察图像。第二输入设备包括指示设备。第二处理部将针对指示设备的操作输入转换为对带电粒子束照射装置的控制信号。
[0016]专利技术的效果
[0017]根据本专利技术，在分析装置中，能够以简单的结构提高分析者的作业效率。
附图说明
[0018]图1是说明本专利技术的实施方式所涉及的分析装置的结构例的概要图。
[0019]图2是概要地示出图1所示的电子束照射装置的结构例的图。
[0020]图3是概要地示出第一计算机和第二计算机的结构的图。
[0021]图4是示出第一显示器及第二显示器的显示例以及第一PD及第二PD的结构例的图。
[0022]图5是例示与第二PD的各操作对应的对电子束照射装置的控制内容的图。
具体实施方式
[0023]下面，参照附图来详细地说明本专利技术的实施方式。此外，对图中的相同或相当部分标注同一附图标记，不重复其说明。
[0024]图1是说明本专利技术的实施方式所涉及的分析装置的结构例的概要图。本实施方式所涉及的分析装置100构成为向试样照射带电粒子束，检测从试样产生的信号来进行试样的观察和分析。分析装置100例如是电子探针显微分析仪(EPMA：Electron Probe Micro Analyzer)。
[0025]参照图1，本实施方式所涉及的EPMA 100具备电子束照射装置50、第一计算机10、第二计算机20、第一显示器12、第二显示器22、第一指示设备(以下也称为“第一PD”)11以及第二指示设备(以下也称为“第二PD”)21。
[0026]电子束照射装置50构成为向试样表面照射电子束，并检测从试样表面释放的信号。在检测信号中包含具有试样表面含有的元素所特有的能量的特性X射线、二次电子以及反射电子等。在EPMA 100中，通过对检测到的特性X射线的能量和强度进行分析，能够对在
试样表面的分析位置处存在的元素进行鉴定和定量。电子束照射装置50对应于“带电粒子束照射装置”的一个实施例。
[0027]另外，能够基于所检测到的二次电子和反射电子来观察试样表面的形状、组成像、凸凹形状。分析者能够一边观察二次电子像或反射电子像一边搜索试样表面上的分析位置。具体地说，分析者能够一边观察电子像，一边设定电子射线在试样表面上的照射位置(即，试样表面的测定位置)并且指定试样表面上的分析对象区域。
[0028]EPMA一般存在以下倾向：在与对电子束照射装置的控制有关的处理以及与由电子束照射装置检测到的特性X射线的分析有关的处理各处理中所要处理的信息量和运算量变多。因此，本实施方式所涉及的分析装置100构成为利用不同的处理部执行与对电子束照射装置50的控制有关的处理以及与特性X射线的分析有关的处理。
[0029]具体地说，第一计算机10是用于分析由电子束照射装置50检测到的特性X射线的分析用计算机。第一计算机10对应于“第一处理部”的一个实施例。第二计算机20是用于控制电子束照射装置50的控制用计算机。第二计算机20对应于“第二处理部”的一个实施例。
[0030]如图1所示，第一计算机10和第二计算机20以能够通信的方式进行连接。第二计算机20还与电子束照射装置50以能够通信的方式进行连接。第二计算机20生本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种分析装置，具备：带电粒子束照射装置，其构成为向试样照射带电粒子束，并检测从所述试样释放的信号；第一处理部，其构成为能够与第一输入设备进行通信，并且构成为按照利用所述第一输入设备指定的分析条件，并基于所述带电粒子束照射装置的检测信号对所述试样进行分析；第二处理部，其构成为能够与第二输入设备及所述第一处理部进行通信，并且构成为根据所述带电粒子束照射装置的检测信号生成所述试样的观察图像，并且根据来自所述第二输入设备的信号控制所述带电粒子束照射装置；以及显示器，其构成为能够与所述第一处理部及所述第二处理部进行通信，并且构成为显示所述分析条件及由所述第二处理部生成的所述观察图像，其中，所述第二输入设备包括指示设备，所述第二处理部将针对所述指示设备的操作输入转换为对所述带电粒子束照射装置的控制信号。2.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述带...

【专利技术属性】
技术研发人员：石川丈宽，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：