一种用于单晶硅外延片的外延炉废气处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及废气处理设备技术领域，且公开了一种用于单晶硅外延片的外延炉废气处理装置，包括面板和冷却仓。该用于单晶硅外延片的外延炉废气处理装置，通过贯穿结构让设备的固定螺丝的固定效果更好，对设备的整体结构稳定性有更好的提高，使用时对设备的整体结构安全性有更好的提高，对设备的安装效率有更好的提升，且进水口可以更好地进行进水工作对设备的整体运行稳定性有更好的提高，同时焊接连接让冷却仓的整体结构稳定性有大幅提高，对冷却仓的冷却效果及稳定性有更好的保障，贯穿结构让出水口的出水效率有更好的提高，对设备的整体结构稳定性有更好的保障，对设备的运行效果更加稳定。果更加稳定。果更加稳定。

【技术实现步骤摘要】
一种用于单晶硅外延片的外延炉废气处理装置


[0001]本技术涉及废气处理装置
，具体为一种用于单晶硅外延片的外延炉废气处理装置。

技术介绍

[0002]废气处理设备，主要是指运用不同工艺技术，通过回收或去除、减少排放尾气的有害成分，达到保护环境、净化空气的一种环保设备，让我们的环境不受到污染，在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上，此现象称为吸附，吸附处理废气时，吸附的对象是气态污染物，气固吸附，被吸附的气体组分称为吸附质，多孔固体物质称为吸附剂，固体表面吸附了吸附质后，一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离，此现附，而当吸附进行一段时间后，由于表面吸附质的浓集，使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求，此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附，以协的吸附能力，这个过程称为吸附剂的再生，因此在实际吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循环过程，达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。
[0003]现有的废气处理装置对于使用时的温度控制不太稳定，设备的整体使用时对于废弃温度处理方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于单晶硅外延片的外延炉废气处理装置，包括面板(8)和冷却仓(15)，其特征在于：所述面板(8)的左右两侧均贯穿有固定螺丝(2)，所述面板(8)的上端贯穿有进水口(1)，所述面板(8)的左侧贯穿有进气口(5)，所述面板(8)的右侧贯穿有排气口(12)，所述排气口(12)的外侧活动连接有密封圈(13)，所述排气口(12)的左侧平行设置有把手(11)，所述面板(8)的上方固定连接有显示屏(3)，所述显示屏(3)的右侧平行设置有控制板(10)，所述显示屏(3)的下方平行设置有指示灯(4)，所述指示灯(4)的下方平行设置有玻璃检查板(7)，所述玻璃检查板(7)的下方平行设置有橡胶底座(9)，所述玻璃检查板(7)的后端贯穿有检查门(6)，所述冷却仓(15)位于进气口(5)的右侧，所述冷却仓(15)的右侧平行设置有第一风机(14)，所述第一风机(14)的下方平行设置有第一过滤网(16)，所述第一过滤网(16)的左右两侧均固定连接有卡合板(24)，所述卡合板(24)的上下两端均固定连接有滚轮(23)，所述滚轮(23)的下方平行设置有第二过滤网(17)，所述第二过滤网(17)的下方平行设置有第一滤芯(18)，所述第一滤芯(18)的下方平行设置有第二滤芯(19)，所述第二滤芯(19)的下方平行设置有第二风机(20)，所述第二风机(20)的右侧平行设置有防护网(21)，所述防护网(...

【专利技术属性】
技术研发人员：李亦宁，
申请(专利权)人：四川雅吉芯电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：