【技术实现步骤摘要】
一种金属材料表面零厚度光栅的简易制作方法
[0001]本专利技术涉及光栅
,具体涉及一种金属材料表面零厚度光栅的简易制作方法。
技术介绍
[0002]光栅是刻有大量平行等宽、等距狭缝(刻线)的光学仪器,试件光栅的好坏直接影响到激光密栅云纹干涉实验的成败。
技术实现思路
[0003]本专利技术所要解决的问题是:提供一种金属材料表面零厚度光栅的简易制作方法,采用电化学刻蚀法来制作金属材料零厚度光栅,可以大大提高金属材料性能参数的测试温度。
[0004]本专利技术为解决上述问题所提供的技术方案为:一种金属材料表面零厚度光栅的简易制作方法,所述方法包括以下步骤
[0005](1)、研磨:采用碳化硼研磨试件,最后使用的研磨膏进行抛光处理,使试件表面达到镜面要求;用丙酮去掉表面油状物,然后用清水清洗、吹干,直至无任何污渍;
[0006](2)、甩胶:涂胶采用旋转法,利用离心甩胶机,将多余的胶液甩掉,在试件表面覆盖均匀胶层,要求胶膜均匀,达到预定厚度2
‑
4μ,与试件粘附良好 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种金属材料表面零厚度光栅的简易制作方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤(1)、研磨:采用碳化硼研磨试件,最后使用的研磨膏进行抛光处理,使试件表面达到镜面要求;用丙酮去掉表面油状物,然后用清水清洗、吹干,直至无任何污渍;(2)、甩胶:涂胶采用旋转法,利用离心甩胶机,将多余的胶液甩掉,在试件表面覆盖均匀胶层,要求胶膜均匀,达到预定厚度2
‑
4μ,与试件粘附良好,无灰尘和夹杂物;(3)、预烘:将涂好胶的试件置于烘箱中进行预烘处理,促使胶膜体内的溶剂充分挥发,胶膜干燥,以增加胶膜与试件的粘附性和胶膜的耐磨性;在曝光过程中,胶膜与母栅不易擦伤、磨损,同时只有在胶膜干燥后曝光,化学反应才能充分进行;(4)、曝光:用灯紫外光对已涂覆光刻胶膜的试件进行选择性照射,紫外光照射到的胶膜发生光化学反应,显影后光刻胶膜就呈现出与母栅相对应的图形;(5)、显影:将曝光后的试件放入显影液中约四分钟,并轻轻地晃动试件,使未感光的光刻胶溶掉,从而显现出所需的图形;(6)、定影:定影液为清水,用清水清洗显影掉试件上的显影液,使光刻胶溶解停止;(7)、腐蚀:用浓硫酸作电解液,腐蚀试件上溶化光刻胶部分的金属底基;未溶光刻胶部分金属底基被光胶保存下来,则在试件表面得到光栅图形;(8)、脱胶:将经过腐蚀的试件表面残留的光刻胶用NaOH溶液去除干净,得到零厚度光栅。2.根据权利要求1所述的一种金属材料表面零厚度光栅的简易制作方法,其特征在于:所述步骤(1)中碳化硼的...
【专利技术属性】
技术研发人员:张宸宇,张宇轩,杨柳青,朱芃宇,
申请(专利权)人:南昌航空大学,
类型:发明
国别省市:
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