真空镀膜机制造技术

本申请提供了一种真空镀膜机，属于显示屏电子元件镀膜技术领域，该真空镀膜机包括腔体；支撑柱，设置在腔体内；载盘，包括连接部件和载板，载板通过连接部件与支撑柱连接，以使载板可沿支撑柱的轴向转动，载板呈环状并具有第一镂空部，载板沿其自身周向分布有多个基板承载区；晶振系统，包括至少一个第一晶振，第一晶振位于第一镂空部并靠近基板承载区设置。本申请所提供的真空镀膜机中第一晶振能够更靠近基板承载区，由于基板放置于基板承载区，因此第一晶振能够更靠近基板，第一晶振检测到的蒸镀速率与镀膜厚度与基板实际的蒸镀速率与镀膜厚度更接近，从而第一晶振能够更准确检测基板的蒸镀速率与镀膜厚度。基板的蒸镀速率与镀膜厚度。基板的蒸镀速率与镀膜厚度。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜机


[0001]本申请属于显示屏电子元件镀膜
，特别涉及一种真空镀膜机。

技术介绍

[0002]近年来，在显示屏电子元件的制造领域，广泛使用真空蒸镀法进行有机层的成膜，在镀膜过程中大多采用晶振进行基板蒸镀速率的检测。
[0003]在现有的真空镀膜机中，基板大多放置在载盘的外侧进行镀膜，而位于基板内侧的晶振通常是设置在载盘中心的支撑柱轴线上，与基板的距离相隔较远。而蒸镀源中材料蒸发速率的流晕分布是呈余弦分布的，沉积在基板上的距离和方向也成余弦分布，即位置不同，蒸镀速率与镀膜厚度存在差异。因此，当晶振与基板之间的距离相隔较远时，晶振所测得的数据与基板实际的蒸镀速率与镀膜厚度偏差越大，蒸镀速率与镀膜厚度检测不准确。

技术实现思路

[0004]本申请的目的在于提供一种真空镀膜机，旨在解决现有技术中蒸镀速率与镀膜厚度检测不准确的技术问题。
[0005]本申请提供一种真空镀膜机，包括：
[0006]腔体；
[0007]支撑柱，设置在所述腔体内；
[0008]载盘，包括连接部件和载板，所述载板通过所述连接部件与所述支撑柱连接，以使所述载板可沿所述支撑柱的轴向转动，所述载板呈环状并具有第一镂空部，所述载板沿其自身周向分布有多个基板承载区；
[0009]晶振系统，包括至少一个第一晶振，所述第一晶振位于所述第一镂空部并靠近所述基板承载区设置。
[0010]相对于现有技术，本申请提供的真空镀膜机至少实现了如下有益效果：
[0011]本申请所提供的真空镀膜机中支撑柱设置在腔体内，载盘包括连接部件和沿其自身周向分布有多个基板承载区的载板。载板通过连接部件与支撑柱连接，以使载板可沿支撑柱的轴向转动。载板呈环状并具有第一镂空部，第一镂空部给第一晶振预留了安装位置，使第一晶振位于第一镂空部并靠近基板承载区设置，即第一晶振能够更靠近基板承载区。由于基板放置于基板承载区，因此第一晶振能够更靠近基板，第一晶振检测到的蒸镀速率与镀膜厚度与基板实际的蒸镀速率与镀膜厚度更接近，从而第一晶振能够更准确检测基板的蒸镀速率与镀膜厚度。
附图说明
[0012]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本
申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0013]图1是本申请实施例提供的一种真空镀膜机的结构示意图；
[0014]图2是本申请实施例提供的载盘与晶振系统的一种位置关系示意图；
[0015]图3是本申请实施例提供的另一种真空镀膜机的结构示意图；
[0016]图4是本申请实施例提供的载盘的一种结构示意图；
[0017]图5是本申请实施例提供的另一种真空镀膜机的结构示意图；
[0018]图6是本申请实施例提供的载盘的另一种结构示意图；
[0019]图7是本申请实施例提供的侧板的结构示意图；
[0020]图8是本申请实施例提供的另一种真空镀膜机的结构示意图；
[0021]图9是本申请实施例提供的载盘与晶振系统的另一种位置关系示意图；
[0022]图10是本申请实施例提供的载盘与晶振系统的另一种位置关系示意图；
[0023]图11是本申请实施例提供的线束连接机构的一种结构示意图；
[0024]图12是本申请实施例提供的线束连接机构的另一种结构示意图；
[0025]图13是本申请实施例提供的线束连接机构的另一种结构示意图；
[0026]图14是本申请实施例提供的线束连接机构的另一种结构示意图；
[0027]图15是本申请实施例提供的另一种真空镀膜机的结构示意图；
[0028]图16是本申请实施例提供的载盘与晶振系统的另一种位置关系示意图。
[0029]图中标记的含义为：
[0030]10、转动系统；1、腔体；2、支撑柱；3、载盘；31、连接部件；311、连接板；3111、第一通孔；312、侧板；3121、第二通孔；32、载板；321、基板承载区；41、第一晶振；42、第二晶振；43、第三晶振；44、第四晶振；51、固定连接件；511、第一正极导线；512、第一负极导线；52、旋转连接件；521、第二正极导线；522、第二负极导线；6、主挡板；7、蒸镀源；8、传动机构。
具体实施方式
[0031]为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
[0032]需说明的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利的限制。术语“第一”、“第二”仅用于便于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明技术特征的数量。“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。此外，术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
[0033]还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元
件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
[0034]为了说明本申请所述的技术方案，以下结合具体附图及实施例进行详细说明。
[0035]请参阅图1，图1是本申请实施例提供的一种真空镀膜机的结构示意图，图 1中方向X即可以表示支撑柱2的轴向方向。
[0036]本申请实施例提供的真空镀膜机包括腔体1和支撑柱2，支撑柱2设置在腔体1内；还包括载盘3，载盘3包括连接部件31和载板32，载板32通过连接部件 31与支撑柱2连接，以使载板32可沿支撑柱2的轴向转动，载板32呈环状并具有第一镂空部，载板32沿自身周向分布有多个基板承载区321；还包括晶振系统，晶振系统包括至少一个第一晶振41，第一晶振41位于第一镂空部并靠近基板承载区321设置。
[0037]可选的，支撑柱2的一端可以设置在腔体1内，支撑柱2的另一端可以伸出腔体1外且可以与转动系统10连接，以使支撑柱2在转动系统10的驱动下沿支撑柱2的轴向进行转动。连接部件31的一个部位可以与支撑柱2位于腔体1内的一端连接，连接部件31的另一个部位可以与载板32连接，以使呈环状的载板32 能够与支撑柱2连接，并可以随着支撑柱2的转本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机，其特征在于，包括：腔体；支撑柱，设置在所述腔体内；载盘，包括连接部件和载板，所述载板通过所述连接部件与所述支撑柱连接，以使所述载板可沿所述支撑柱的轴向转动，所述载板呈环状并具有第一镂空部，所述载板沿其自身周向分布有多个基板承载区；晶振系统，包括至少一个第一晶振，所述第一晶振位于所述第一镂空部并靠近所述基板承载区设置。2.如权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述连接部件包括：连接板，连接于所述支撑柱，所述连接板与所述载板沿支撑柱的轴向间隔设置；侧板，所述侧板的一端与所述连接板连接，所述侧板的另一端与所述载板连接。3.如权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，所述连接板上开设有多个第一通孔，各所述基板承载区位于所述第一通孔沿所述支撑柱的轴向在所述载板上的正投影之内；所述侧板的一端与所述连接板的外边缘连接，所述侧板的另一端与所述载板的外边缘连接。4.如权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，所述侧板的一端与所述连接板的外边缘连接，所述侧板的另一端与所述载板朝向所述第一镂空部的内边缘连接。5.如权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，所述侧板的一端与所述连接板的外边缘连接，所述侧板的另一端与所述载板的外边缘连接，所述侧板在所述基板承载区对应的位置处开设第二通孔。6.如权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述晶振系统包括至少一个第二晶振，所述第二晶振设置在所述载板上。7.如权利要求6所述的真空镀膜机，其特征在于，所述第二晶振位于相邻的两个所述基板承载区之间；或者，所述第二晶振位于所述基板承载区背离所述第一镂空部的一侧。8.如权利要求6所述的真空镀膜机，其特征在于，所述第一晶振和/或所述第二晶振通过线束连接机构与所述腔体内的线束电性连接，所述线束连接机构包括：固定连接件，固定于所述支撑柱并与所述支撑柱同轴设置，所述固定连接件包括相互绝缘设置的第一正极导线和第一负极导线；旋转连接件，与所述第一晶振和/或所述第二晶振电性连接，所述旋转连接件包括相互绝缘设置的第二正极导线和第二负极导线，其中，所述旋转连接件相对所述固定连接件绕所述支撑柱的轴向可转动设置，且所述第一正极导线与所述第二正极导线连接，所述第一负极导线与所述第二负极导线连接。9.如权利要求8所述的真空镀膜机，其特征在于，所述固定连接件的外表面呈球面，所述固定连接件包括沿所述支撑柱的轴向分布的第一半球面和第二半球...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑新源，戴铭志，牛晶华，程爽，张莉，袁青松，刘园园，
申请(专利权)人：上海天马有机发光显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：