稳定光学透镜温度的系统技术方案

本揭露的实施例提供一种稳定光学透镜温度的系统，包含光源控制模块，光源控制模块包含红外线感测模块，红外线感测模块定位以侦测至少一光学透镜发射的红外线辐射，并产生代表至少一光学透镜的温度的红外线感测信号，至少一光学透镜接收来自第一光源的光，在至少一光学透镜接收的来自第一光源的光的能量密度具有可变能量密度以及光源控制器，光源控制器包含处理单元与至少一红外线光源，至少一红外线光源包含电子功率管理电路，处理单元配置以接收红外线感测信号，并产生控制信号，电子功率管理电路配置以接收控制信号，并调节来自至少一红外线光源的光的发射，红外线光源配置以导向光至至少一光学透镜。向光至至少一光学透镜。向光至至少一光学透镜。

【技术实现步骤摘要】
稳定光学透镜温度的系统


[0001]本揭露是关于一种用于稳定光学透镜温度的系统。

技术介绍

[0002]用于成像的光学系统使用于各种产业中。如半导体制造业的一些产业依赖可提供精确与明确定义的维度与解析度的光学系统，以达到次微米成像标准。
[0003]例如，可通过光源照射由半导体基底所形成的晶圆，以作为常规半导体制程步骤的一部分。例如，光阻层可覆盖晶圆，接着暴露光图案，光图案通过通过遮罩的光罩的光与通过透镜聚焦在晶圆平面上的光所产生。透镜的变形降低了制程在晶圆上生产具有精确且明确定义的特征的能力。

技术实现思路

[0004]根据本揭露的一实施方式，一种用于稳定光学透镜温度的系统，包含光源控制模块，光源控制模块包含红外线感测模块，红外线感测模块定位以侦测至少一光学透镜发射的红外线辐射，并产生代表至少一光学透镜的温度的红外线感测信号，至少一光学透镜接收来自第一光源的光，在至少一光学透镜接收的来自第一光源的光的能量密度具有可变能量密度以及光源控制器，光源控制器包含处理单元与至少一红外线光源，至少一红外线光源包含电子功率管理电路，处理单元配置以接收红外线感测信号，并产生控制信号，电子功率管理电路配置以接收控制信号，并调节来自至少一红外线光源的光的发射，红外线光源配置以导向光至至少一光学透镜。
附图说明
[0005]当结合随附诸图阅读时，得自以下详细描述最佳地理解本揭露的一实施例。应强调，根据工业上的标准实务，各种特征并未按比例绘制且仅用于说明目的。事实上，为了论述清楚，可任意地增大或减小各种特征的尺寸。
[0006]图1绘示晶圆、透镜与遮罩；
[0007]图2绘示图1中的透镜的焦平面的变形；
[0008]图3绘示晶圆、透镜与第二遮罩；
[0009]图4绘示图3中的透镜的焦平面的变形；
[0010]图5绘示根据本揭露一实施例的用于稳定光学透镜温度的系统；
[0011]图6绘示根据本揭露一实施例的用于稳定光学透镜温度的系统；以及
[0012]图7绘示根据本揭露一实施例的用于调整和/或稳定光学透镜温度的流程图。
[0013]【符号说明】
[0014]102:晶圆
[0015]104:透镜
[0016]106:遮罩
[0017]108:光
[0018]110:光罩
[0019]112:平面
[0020]114:焦平面
[0021]114A:焦平面
[0022]114B:焦平面
[0023]114C:焦平面
[0024]116:遮罩
[0025]118:光罩
[0026]114D:焦平面
[0027]114E:焦平面
[0028]114F:焦平面
[0029]500:系统
[0030]502:光源控制模块
[0031]504:红外线感测模块
[0032]506:光源控制器
[0033]508:红外线光路径控制器,光路径控制器
[0034]508A:光路径控制器
[0035]508B:光路径控制器
[0036]510:光学透镜系统
[0037]512:曝光光源
[0038]514:遮罩
[0039]516:光学透镜
[0040]516A:第一光学透镜
[0041]516B:相应光学透镜
[0042]516C:相应光学透镜
[0043]516D:相应光学透镜
[0044]518:晶圆
[0045]520:可选水冷却模块
[0046]522:预定焦平面,图像平面
[0047]524:红外线辐射
[0048]524A:红外线辐射,红外线辐射信号
[0049]524B:红外线辐射信号
[0050]524C:红外线辐射信号
[0051]524D:红外线辐射信号
[0052]526:处理单元
[0053]527:电子功率管理电路
[0054]528:红外线光源
[0055]529:红外线光
[0056]530:前侧
[0057]531:红外线光
[0058]532:后侧
[0059]534:纵轴
[0060]536:第一光路径导向装置
[0061]538:第二光路径导向装置
[0062]600:系统
[0063]602:红外线感测侦测器
[0064]602A:红外线感测侦测器
[0065]602B:红外线感测侦测器
[0066]602C:红外线感测侦测器
[0067]602D:红外线感测侦测器
[0068]604:红外线光源
[0069]604A:红外线光源
[0070]604B:红外线光源
[0071]604C:红外线光源
[0072]604D:红外线光源
[0073]606:红外线滤光片
[0074]700:方法
[0075]702:步骤
[0076]704:步骤
[0077]706:步骤
[0078]708:步骤
具体实施方式
[0079]以下揭示的实施例内容提供了用于实施所提供的标的的不同特征的许多不同实施例，或实例。下文描述了元件和布置的特定实例以简化本案。当然，这些实例仅为实例且并不意欲作为限制。例如，在以下描述中的第一特征在第二特征之上或上方的形式可包含其中第一特征与第二特征直接接触形成的实施例，且亦可包含其中可于第一特征与第二特征之间形成额外特征，以使得第一特征与第二特征可不直接接触的实施例。此外，本案可在各个实例中重复元件符号及/或字母。此重复是用于简便和清晰的目的，且其本身不指定所论述的各个实施例及/或配置之间的关系。
[0080]此外，诸如“在
……
下方”、“在
……
之下”、“下部”、“在
……
之上”、“上部”等等空间相对术语可在本文中为了便于描述的目的而使用，以描述如附图中所示的一个元件或特征与另一元件或特征的关系。空间相对术语意欲涵盖除了附图中所示的定向之外的在使用或操作中的装置的不同定向。装置可经其他方式定向(旋转90度或以其他定向)并且本文所使用的空间相对描述词可同样相应地解释。
[0081]在半导体制造期间，用于光刻的曝光光源的强度、持续时间与波长以及用于执行各种半导体制程步骤(例如，蚀刻、沉积、掺杂以及离子布植)的不同光刻遮罩可导致入射在
光学透镜系统上的光的能量密度发生变化。可变能量密度可造成一或多个透镜的焦平面随时间偏移，导致在半导体基底或晶圆上不符标准的遮罩的光罩图案成像。由此可导致如集成电路的半导体产品具有缺陷而无法达到指定标准。
[0082]图1绘示晶圆102、透镜104以及遮罩106。晶圆102可例如由半导体基底所形成，并且本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种稳定光学透镜温度的系统，其特征在于，包含：一光源控制模块，包含：一红外线感测模块，定位以侦测至少一光学透镜发射的红外线辐射，并产生代表该至少一光学透镜的一温度的一红外线感测信号，该至少一光学透镜接收来自一第一光源的光，在该至少一光学透镜接收的来自该第一光源的该光的一能量密度具有一可变能量...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖啟宏，杨岳霖，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：