一种新型曝光机制造技术

本申请涉及曝光设备技术领域，尤其是涉及一种新型曝光机，包括沿光刻胶传送方向依次设置的放卷装置、曝光装置以及收卷装置，曝光装置包括机架、固设于机架顶部的光刻板、固设于光刻板下方的曝光机构以及盖板机构，盖板机构包括盖设于光刻板顶面的框架、软性压片组件、抽真空组件以及升降组件，软性压片组件封盖于框架内侧，以令光刻板、框架以及软性压片组件可共同形成一抽真空腔体，抽真空组件固设于机架上且与抽真空腔体相连通，升降组件固设于机架上且用于驱动框架沿竖向升降。本申请能够将光刻胶与光刻板之间的残留空气压出，以提高光刻胶的平整度，从而提高光刻胶的曝光效果。从而提高光刻胶的曝光效果。从而提高光刻胶的曝光效果。

【技术实现步骤摘要】
一种新型曝光机


[0001]本申请涉及曝光设备
，尤其是涉及一种新型曝光机。

技术介绍

[0002]曝光机是指通过开启灯光发出紫外线，将光刻板的图像信息转移到光刻胶，集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂半导体加工设备。曝光机在70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业。
[0003]现有的曝光机通常包括沿光刻胶传送方向依次设置的放卷装置、曝光装置以及收卷装置，其中，曝光装置包括机架、固设于机架顶部的光刻板、固设于光刻板下方的曝光机构以及盖设于光刻板上方的盖板机构。工作过程中，光刻胶在放卷装置与收卷装置的共同作用下间歇性地传送至曝光装置内，并平铺在光刻板顶面，此时，先利用盖板机构盖设于光刻板上方，再利用曝光机构产生的聚焦电子束对光刻胶进行曝光，使受电子束辐照后的光刻胶的物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。
[0004]但是，在现有曝光机的工作过程中，光刻胶平铺在光刻板顶面时，光刻胶与光刻板之间容易残留有空气，导致光刻胶的平整度下降，从而导致光刻胶的曝光效果下降；因此，可作进一步改善。

技术实现思路

[0005]为了提高光刻胶的曝光效果，本申请提供一种新型曝光机。
[0006]本申请的上述目的是通过以下技术方案得以实现的：一种新型曝光机，包括沿光刻胶传送方向依次设置的放卷装置、曝光装置以及收卷装置，曝光装置包括机架、固设于机架顶部的光刻板、固设于光刻板下方的曝光机构以及盖板机构，所述盖板机构包括盖设于光刻板顶面的框架、软性压片组件、抽真空组件以及升降组件，所述软性压片组件封盖于框架内侧，以令光刻板、框架以及软性压片组件可共同形成一抽真空腔体，所述抽真空组件固设于机架上且与抽真空腔体相连通，所述升降组件固设于机架上且用于驱动框架沿竖向升降。
[0007]通过采用上述技术方案，盖板机构工作过程中，在光刻胶平铺在光刻板顶面时，框架在升降组件的驱动下沿竖向下降并盖设于光刻板顶面，使光刻板、框架以及软性压片组件共同形成一抽真空腔体，此时，通过抽真空组件将抽真空腔体内的空气抽出以形成负压，使封盖于框架内侧的软性压片组件在大气压作用下产生弹性拉伸形变，并贴紧在光刻胶背离光刻板一侧，以将光刻胶与光刻板之间的残留空气压出，从而提高光刻胶的平整度，进而提高光刻胶的曝光效果。
[0008]可选的，所述软性压片组件包括由上至下依次设置的高弹性压片以及低弹性压片，所述高弹性压片封盖于框架内侧顶部，所述框架内侧中部相对设置的两侧均开设有一安装槽，两个所述安装槽内均可转动地设有一安装轴，所述低弹性压片两侧分别固定绕设
于两个安装轴；两个所述安装轴与框架之间均设有弹性复位件，以令两个安装轴分别对低弹性压片两侧形成拉力。
[0009]通过采用上述技术方案，当抽真空组件将抽真空腔体内的空气抽出以形成负压时，高弹性压片在大气压作用下产生弹性拉伸形变，使高弹性压片中部区域竖直朝下移动，并且推动低弹性压片中部区域，使低弹性压片克服弹性复位件的扭力作用并竖直朝下移动至贴紧在光刻胶背离光刻板一侧，以实现将光刻胶与光刻板之间的残留空气压出；同时，由于低弹性压片通过克服弹性复位件的扭力作用进行放卷的方式贴紧在光刻胶背离光刻板一侧，因此低弹性压片在贴紧过程中的形变量较小，对薄膜状的光刻胶形成保护作用，防止高弹性压片所产生的较大的形变直接作用于光刻胶上而导致光刻胶发生变形，有利于提高光刻胶的曝光效果。
[0010]可选的，所述框架内侧顶部四周开设有一密封槽，所述密封槽槽口下侧固设有一密封块，所述密封块朝向密封槽槽底一侧固设有一密封条；所述高弹性压片四周延伸至密封槽内且与密封块固定连接，以令密封条夹持于密封块与高弹性压片之间。
[0011]通过采用上述技术方案，高弹性压片四周绕过密封条后与密封块固定连接，以令密封条夹持于密封块与高弹性压片之间，实现将高弹性压片封盖于边框内侧顶部，并且高弹性压片在大气压作用下逐步产生弹性拉伸形变时，高弹性压片与密封条之间的作用力逐步增加，保证密封效果。
[0012]可选的，所述升降组件包括升降架、两组升降柱以及驱动结构，所述升降架围设于框架四周且与框架固定连接，两组所述升降柱均固设于机架上且分别位于升降架两侧，每个所述升降柱一侧均开设有沿竖向延伸的升降槽，每个所述升降槽内均滑动设有与升降架固定连接的滑块，且每个所述升降槽内均可转动地设有与滑块螺纹连接传动的丝杆；所述驱动结构安装于升降柱顶部且用于驱动所有丝杆同步转动。
[0013]通过采用上述技术方案，当驱动结构驱动所有丝杆同步转动时，多个丝杆均通过螺纹连接传动以带动所有滑块沿竖向上升/下降，从而带动升降架沿竖向上升/下降，进而带动边框沿竖向上升/下降，即实现了由升降组件驱动框架沿竖向下降盖设于光刻板顶面，使光刻板、框架以及软性压片组件共同形成一抽真空腔体。
[0014]可选的，所述驱动结构包括主轴、两个副轴以及驱动件，所述主轴可转动地设置于机架预设的支架上，两个所述副轴与两组升降柱一一相对应设置，每个所述副轴均可转动地穿设于相对应的升降柱顶部，且每个所述副轴与相对应升降柱内的丝杆之间、主轴与两个副轴之间均通过预设的传动结构相连接传动；所述驱动件固设于支架上且用于驱动主轴转动。
[0015]通过采用上述技术方案，每个副轴与相对应升降柱内的丝杆之间、主轴与两个副轴之间均通过预设的传动结构相连接传动，使得驱动件驱动主轴转动时，主轴通过传动结构带动两个副轴同步转动，两个副轴通过传动结构带动所有丝杆同步转动，从而实现由驱动结构驱动所有丝杆同步转动的效果，使得框架沿竖向上升/下降的过程中保持水平布置。
[0016]可选的，所述机架与放卷装置之间、机架与收卷装置之间均设有一抬升组件，所述抬升组件包括位于光刻胶下方的抬升辊以及两个抬升杆，每个所述抬升杆一侧均固设有一直线导轨，每个所述直线导轨均滑动设置于升降架预设的直线滑槽内，每个所述抬升杆顶部均固设有一限位块，所述抬升辊两端分别可转动地穿设于两个抬升杆底部。
[0017]通过采用上述技术方案，在光刻胶曝光完毕，升降组件驱动框架沿竖向上升的过程中，抬升组件的抬升辊能够将光刻胶进行抬升，使光刻胶与光刻板相分离，从而实现防止粘附于光刻板顶面的光刻胶被收卷装置拉扯变形；同时，为了减少机架与放卷装置之间、机架与收卷装置之间安装抬升组件所需的空间，抬升杆与升降架之间设置为相对滑动，当抬升辊下降至一定高度并且无法继续下降时，通过抬升杆与升降架之间的相对滑动，能够使得升降架的下降不受影响，从而实现减少机架与放卷装置之间、机架与收卷装置之间为了安装抬升组件所需预留的空间。
[0018]可选的，所述框架包括边框以及密封圈，所述密封圈固设于边框朝向光刻板一侧。
[0019]通过采用上述技术方案，密封圈能够增强边框与光刻板之间的密封性。
[0020]可选的，所述边框一侧开设有与抽真空腔体相连通的气孔，所述气孔远离抽真空腔体一端可拆卸安装有与抽真空组件相连通的快速接头。
[00本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型曝光机，包括沿光刻胶(100)传送方向依次设置的放卷装置(200)、曝光装置(300)以及收卷装置(400)，曝光装置(300)包括机架(1)、固设于机架(1)顶部的光刻板(2)、固设于光刻板(2)下方的曝光机构(3)以及盖板机构(4)，其特征在于：所述盖板机构(4)包括盖设于光刻板(2)顶面的框架(41)、软性压片组件(42)、抽真空组件(43)以及升降组件(44)，所述软性压片组件(42)封盖于框架(41)内侧，以令光刻板(2)、框架(41)以及软性压片组件(42)可共同形成一抽真空腔体(500)，所述抽真空组件(43)固设于机架(1)上且与抽真空腔体(500)相连通，所述升降组件(44)固设于机架(1)上且用于驱动框架(41)沿竖向升降。2.根据权利要求1所述的一种新型曝光机，其特征在于：所述软性压片组件(42)包括由上至下依次设置的高弹性压片(421)以及低弹性压片(422)，所述高弹性压片(421)封盖于框架(41)内侧顶部，所述框架(41)内侧中部相对设置的两侧均开设有一安装槽(51)，两个所述安装槽(51)内均可转动地设有一安装轴(52)，所述低弹性压片(422)两侧分别固定绕设于两个安装轴(52)；两个所述安装轴(52)与框架(41)之间均设有弹性复位件(53)，以令两个安装轴(52)分别对低弹性压片(422)两侧形成拉力。3.根据权利要求2所述的一种新型曝光机，其特征在于：所述框架(41)内侧顶部四周开设有一密封槽(54)，所述密封槽(54)槽口下侧固设有一密封块(55)，所述密封块(55)朝向密封槽(54)槽底一侧固设有一密封条(56)；所述高弹性压片(421)四周延伸至密封槽(54)内且与密封块(55)固定连接，以令密封条(56)夹持于密封块(55)与高弹性压片(421)之间。4.根据权利要求1所述的一种新型曝光机，其特征在于：所述升降组件(44)包括升降架(441)、两组升降柱(442)以及驱动结构(443)，所述升降架(441)围设于框架(41)四周且与框架(41)固定连接，两组所述升降柱(442)均固设于机架(...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈铭，李金水，朱世敏，
申请(专利权)人：深圳市华鼎星科技有限公司，
类型：发明
国别省市：