提供一种适于确保包含多个旋转叶片以及粒子输送部的旋转体整体的平衡并且防止从真空泵向真空腔室侧的粒子的回流的真空泵。真空泵（P1）在从吸气口到排气口之间具备将气体分子进行排气的多个排气段（PT）、将粒子向气体分子的排气方向输送的粒子输送部（PN），粒子输送部为，通过在构成最上段的排气段的多个旋转叶片（7）中将至少一部分的上游端的高度增高或降低而作为最上段的排气段整体成为上游端的高度不同的阶差结构，从而作为将粒子向气体分子的排气方向输送的机构而起作用，由多个旋转叶片以及粒子输送部、支承该多个旋转叶片的圆筒部（6）构成的旋转体（R）为，针对该旋转体整体，修正由于前述阶差结构而上游端的高度变得比其他的旋转叶片高的旋转叶片的存在而产生的不平衡。不平衡。不平衡。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空泵
[0001]本专利技术涉及一种作为半导体制造装置、平板显示器制造装置、太阳能电池板制造装置中的处理腔室、其他的真空腔室的气体排气机构而被利用的真空泵，特别地，涉及一种适于确保包含多个旋转叶片以及粒子输送部的旋转体整体的平衡并且防止从真空泵向真空腔室侧的粒子的回流的真空泵。
技术介绍
[0002]涡轮分子泵和螺纹槽式泵等的真空泵多被用于需要高真空的真空腔室的排气。图22是作为真空腔室的气体排气机构而采用以往的真空泵的排气系统的概要图。
[0003]构成图22的排气系统的以往的真空泵Z在从吸气口2到排气口3之间具有将气体分子进行排气的多个排气段PT。
[0004]以往的真空泵Z中的各排气段PT为如下的结构：利用在每个排气段PT放射状地以既定间隔配置的多个旋转叶片7和固定叶片8将气体分子排气。
[0005]在如前所述的气体分子的排气结构中，旋转叶片7一体地形成于被磁性轴承等的轴承机构能够旋转地支承的转子6的外周面，并且与转子6一起以高速旋转。另一方面，固定叶片8被固定于外壳1的内表面。
[0006]在图22的排气系统中，在真空腔室CH内进行CVD等的化学处理，由此附带地生成的微粒状的处理副生成物在真空腔室CH内浮游/扩散，利用自重、基于气体分子的输送效果而向真空泵Z的吸气口2落下。此外，推想附着/堆积于真空腔室CH的内壁面的堆积物、附着/堆积于压力调整阀BL的堆积物等也由于振动等剥落而由于自重向真空泵Z的吸气口2落下。
[0007]并且，由于如前所述的落下而到达吸气口2的粒子从吸气口2进一步落下，射入至最上段的排气段PT（PT1）。若射入的粒子Pa与以高速旋转的该排气段PT（PT1）的旋转叶片7碰撞，则碰撞后的粒子由于与旋转叶片7的位于上端面侧的叶片边缘部的碰撞而被弹开，向吸气口2方向弹回而回流，存在由于这样的回流的粒子而真空腔室CH内被污染的问题。
[0008]专利文献1公开有防止如前所述的粒子的回流的机构（以下称为“粒子回流防止机构”）。即，该文献1的真空泵在从吸气口到排气口之间具有将气体分子进行排气多个排气段，并且在该多个排气段中最上段的排气段，作为粒子回流防止机构而具备粒子输送部（在该文献1中称为粒子输送段）。
[0009]该粒子输送部为，在构成最上段的排气段的多个旋转叶片中将至少一部分的旋转叶片的上游端的高度增高或降低，由此作为最上段的排气段整体成为上游端的高度不同的阶差结构，从而能够将粒子向气体分子的排气方向输送。
[0010]然而，在如之前说明的专利文献1那样的粒子回流防止机构中存在下述问题：存在由于阶差结构而上游端的高度比其他的旋转叶片高的旋转叶片，由于该存在而旋转体整体（由多个旋转叶片以及粒子输送部和支承该多个旋转叶片的圆筒部构成）的平衡被破坏、在真空泵的运转中产生振动等、对真空泵的运转产生障碍。
[0011]专利文献1 : WO2018／174013。
技术实现思路
[0012]本专利技术是为了解决前述问题而提出的，其目的在于提供一种真空泵，其适于确保包含多个旋转叶片以及粒子输送部的旋转体整体的平衡并且防止从真空泵向真空腔室侧的粒子的回流。
[0013]为了达到前述目的，本专利技术是一种真空泵，在从吸气口到排气口之间具有将气体分子排气的多个排气段，在前述多个排气段中，具备粒子输送部，所述粒子输送部为，在构成最上段的排气段的多个旋转叶片中将至少一部分的上游端的高度增高或降低，由此作为前述最上段的排气段整体成为前述上游端的高度不同的阶差结构，从而将粒子向前述气体分子的排气方向输送，其特征在于，由前述多个旋转叶片以及前述粒子输送部、支承该多个旋转叶片的圆筒部构成的旋转体为，针对该旋转体整体，修正由于前述阶差结构从而前述上游端的高度变得比其他的旋转叶片高的旋转叶片的存在而产生的不平衡。
[0014]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，去除由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的一部分，从而修正前述不平衡。
[0015]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，将由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的叶片表面整体中对于前述气体分子的排气的贡献较少的旋转方向的背面侧去除既定量，从而修正前述不平衡。
[0016]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，将由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的下游端缘去除既定量，从而修正前述不平衡。
[0017]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，在由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片上设置孔，从而修正前述不平衡。
[0018]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，在由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片上形成槽，从而修正前述不平衡。
[0019]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，将由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的径向长度设定为比它们之外的前述其他的旋转叶片的径向长度短，从而修正前述不平衡。
[0020]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，将与由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片接近的旋转叶片的上游端去除既定量，从而修正前述不平衡。
[0021]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，对位于由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的相对于旋转中心相反侧的旋转叶片附加质量，从而修正前述不平衡。
[0022]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，位于由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的相对于旋转中心相反侧的旋转叶片的下游端缘比它们之外的前述其他的旋转叶片更长地
延伸，从而修正前述不平衡。
[0023]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，将位于由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的相对于旋转中心相反侧的旋转叶片的径向长度设定为比它们之外的前述其他的旋转叶片的径向长度更长，从而修正前述不平衡。
[0024]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，令位于由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的相对于旋转中心相反侧的旋转叶片的厚度比它们之外的旋转叶片增加，从而修正前述不平衡。
[0025]在前述本专利技术中，其特征也可以在于，从前述旋转体的旋转中心观察，位于与由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片同侧的至少两个以上的旋转叶片本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空泵，在从吸气口到排气口之间具有将气体分子排气的多个排气段，在前述多个排气段中，具备粒子输送部，所述粒子输送部为，在构成最上段的排气段的多个旋转叶片中将至少一部分的上游端的高度增高或降低从而作为前述最上段的排气段整体成为前述上游端的高度不同的阶差结构，由此将粒子向前述气体分子的排气方向输送，其特征在于，由前述多个旋转叶片以及前述粒子输送部、支承该多个旋转叶片的圆筒部构成的旋转体为，针对该旋转体整体，修正由于前述阶差结构导致的前述上游端的高度变得比其他的旋转叶片高的旋转叶片的存在而产生的不平衡。2.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，去除由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的一部分，从而修正前述不平衡。3.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，将由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的叶片表面整体中对于前述气体分子的排气的贡献较少的旋转方向的背面侧去除既定量，从而修正前述不平衡。4.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，将由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的下游端缘去除既定量，从而修正前述不平衡。5.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，在由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片上设置孔，从而修正前述不平衡。6.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，在由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片上形成槽，从而修正前述不平衡。7.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，将由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的径向长度设定为比它们之外的前述其他的旋转叶片的径向长度短，从而修正前述不平衡。8.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，将与由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片接近的旋转叶片的上游端去除既定量，从而修正前述不平衡。9.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，对位于由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的相对于旋转中心相反侧的旋转叶片附加质量，从而修正前述不平衡。10.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，位于由于前述阶差结构而前述上游端的高度变得比前述其他的旋转叶片高的前述旋转叶片或者与前述旋转叶片接近的旋转叶片的...
【专利技术属性】
技术研发人员：江野泽秀树，野中学，前岛靖，高阿田勉，
申请(专利权)人：埃地沃兹日本有限公司，
类型：发明
国别省市：
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