一种提高陶瓷釉面质量的窑炉制造技术

本实用新型专利技术涉及陶瓷窑炉领域，一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，包括窑体，所述窑体搭配有供热设备，所述窑体两侧设有窑门，所述窑体顶部均匀设置多个散热口，所述散热口贯穿所述窑体，所述散热口顶部具有锥形结构的开口，其顶部孔径大于其底部孔径，所述开口上方设有可开合的盖体，所述盖体底部设有密封层和隔热层。本实用新型专利技术的目的在于提供一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，有助于解决现有结构冷却速度不均，成品率低的问题。成品率低的问题。成品率低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种提高陶瓷釉面质量的窑炉


[0001]本技术涉及陶瓷窑炉领域，特别是涉及一种提高陶瓷釉面质量的窑炉。

技术介绍

[0002]窑炉，是用耐火材料砌成的用以烧成制品的设备，是陶艺成型中的必备设施。陶瓷施釉后一般要在窑炉内1200℃的条件下烧制，随后冷却凝固成型，传统窑炉很多采用长窑结构，如图1所示，该窑体为两侧设有窑门的长条状结构，在冷却时，将两侧的窑门打开，形成空气对流，即一侧进风一侧出风，将窑内的热量带走，实现降温的效果，但这个冷却方式存在弊端，靠近两侧窑门区域热量流失速度较快，窑体中部区域冷却速度较慢，这使得两侧的陶瓷制品的釉面由于温度冷却过快，极易出现龟裂、剥落，甚至陶瓷整体破裂，这也是传统窑体成品率较低的重要原因之一。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，有助于解决现有结构冷却速度不均，成品率低的问题。
[0004]为了达到上述目的，本技术采用这样的技术方案：
[0005]一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，包括窑体，所述窑体搭配有供热设备，所述窑体两侧设有窑门，所述窑体顶部均匀设置多个散热口，所述散热口贯穿所述窑体，所述散热口顶部具有锥形结构的开口，其顶部孔径大于其底部孔径，所述开口上方设有可开合的盖体，所述盖体底部设有密封层和隔热层。
[0006]优选的，所述盖体一侧设有枢转部，所述盖体通过所述枢转部与所述窑体可转动连接，所述盖体顶部设有把手。
[0007]优选的，所述开口底部设有环状结构的沉槽，所述沉槽位于所述散热口顶部外侧。r/>[0008]优选的，所述沉槽内侧壁为斜边，使得沉槽顶部间隙大于其槽底间隙。
[0009]优选的，所述密封层与隔热层外侧轮廓与所述开口相适配，所述盖体压盖所述散热口时，所述密封层与隔热层外侧轮廓与所述开口紧密接触，构成密封结构。
[0010]优选的，所述盖体连接有驱动装置，所述驱动装置能够驱动所述盖体进行开合动作。
[0011]相较于现有技术，本技术至少包括以下优点：
[0012]本技术公开的窑炉结构通过在窑体顶部均匀设置散热口，使得窑内热量能够均匀上升并从该散热口匀速排出，使得窑内温度能够均匀下降，陶瓷制品釉面的冷却速度能够温和流畅，从而使得釉面成型质量得到大大提升；本技术在散热口设置盖体，盖体底部设有密封层和隔热层，使得盖体关闭时，能够具备较佳的密封性和保温性，防止窑内升温过程中的热量损耗；本技术在散热口顶部设置圆锥结构的开口，配合沉槽，使得盖体处于开启状态时，窑体顶部的杂质粉尘或高温气体在散热口顶部冷凝后的液态水会沿开口结构下落时，会被沉槽阻拦，避免从散热口掉入窑体内部，对陶瓷制品造成破坏，而沉槽内
侧边采用斜边结构，有助于对沉槽内堆积物的清洁操作。
附图说明
[0013]图1为现有窑炉采用对流散热的原理示意图。
[0014]图2为本技术窑体散热的原理示意图。
[0015]图3为一实施例中散热口的结构示意图。
[0016]图4为图3局部视图A的放大图。
[0017]图中标注：1
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窑体；11
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窑门；12
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窑室；13
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散热口；14
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开口；15
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沉槽；16
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斜边；2
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盖体；21
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枢转部；22
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把手；3
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密封层；4
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隔热层。
具体实施方式
[0018]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图及具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其他方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施的限制。
[0019]需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一元件，它可以直接在另一元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一元件，它可以是直接连接到两一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
[0020]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文中所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0021]参见图2至图4，本实施例公开一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，包括窑体1，所述窑体1搭配有供热设备，所述窑体1两侧设有窑门11，窑门11连通窑体1内的窑室12，窑室12主要用于放置陶瓷制品，窑门11主要用于供陶瓷制品进出，所述窑体1顶部均匀设置多个散热口13，所述散热口13竖直贯穿所述窑体1，所述散热口13顶部具有锥形结构的开口14，其顶部孔径大于其底部孔径，所述开口14上方设有可开合的盖体2，所述盖体2底部设有密封层3和隔热层4，盖体2主要用于控制散热口13的开合状态。
[0022]进一步的，所述盖体2一侧设有枢转部21，所述盖体2通过所述枢转部21与所述窑体1可转动连接，使得盖体2能够通过翻转来实现开合，所述盖体2顶部设有把手22，用于辅助作业者的开合操作。
[0023]进一步的，所述开口14底部设有环状结构的沉槽15，所述沉槽15位于所述散热口13顶部外侧，沉槽15主要用于阻拦杂质粉尘或液化水进入散热口13内的作用。
[0024]进一步的，所述沉槽15内侧壁为斜边16，使得沉槽15顶部间隙大于其槽底间隙，这有助于作业者在对沉槽15进行清洁维护时，能够便捷地将槽底的杂质粉尘沿斜边16清理出来。
[0025]进一步的，所述密封层3与隔热层4外侧轮廓与所述开口14相适配，所述盖体2压盖所述散热口13时，所述密封层3与隔热层4外侧轮廓与所述开口14紧密接触，构成密封结构，
这在窑室12升温过程中，能够起到保温作用，减少热量流失损耗。
[0026]在其他实施例中，所述盖体2连接有驱动装置，所述驱动装置能够驱动所述盖体2进行开合动作。还可以借助控制系统针对窑室12内部温度进行合理控制，能够进行相匹配运作，进而高效调整冷却效果。
[0027]工作原理：在窑体1顶部均匀设置散热口13，在散热口13开启时，窑室12内的热量自由辐射扩散，由下往上流动，并在窑室12顶部穿过散热口13排出，这一过程中，窑室12内各水平面温度基本能够保持同等状态，从而实现窑室12内各区域均匀降温，各区域陶瓷制品的釉面能够温和均匀冷却，使得釉面质量得到提升。
[0028]以上实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本技术进行了详本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，包括窑体，所述窑体搭配有供热设备，其特征在于，所述窑体两侧设有窑门，所述窑体顶部均匀设置多个散热口，所述散热口贯穿所述窑体，所述散热口顶部具有锥形结构的开口，其顶部孔径大于其底部孔径，所述开口上方设有可开合的盖体，所述盖体底部设有密封层和隔热层。2.根据权利要求1所述的一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，其特征在于，所述盖体一侧设有枢转部，所述盖体通过所述枢转部与所述窑体可转动连接，所述盖体顶部设有把手。3.根据权利要求1所述的一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，其特征在于，所述开口底部...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢怡锋，王振泉，梁晓冬，
申请(专利权)人：泉州市绿色低碳研究院，
类型：新型
国别省市：