一种提高陶瓷釉面质量的窑炉制造技术

本实用新型专利技术涉及陶瓷窑炉领域，一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，包括窑体，所述窑体搭配有供热设备，所述窑体两侧设有窑门，所述窑体顶部均匀设置多个散热口，所述散热口贯穿所述窑体，所述散热口顶部具有锥形结构的开口，其顶部孔径大于其底部孔径，所述开口上方设有可开合的盖体，所述盖体底部设有密封层和隔热层。本实用新型专利技术的目的在于提供一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，有助于解决现有结构冷却速度不均，成品率低的问题。成品率低的问题。成品率低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种提高陶瓷釉面质量的窑炉


[0001]本技术涉及陶瓷窑炉领域，特别是涉及一种提高陶瓷釉面质量的窑炉。

技术介绍

[0002]窑炉，是用耐火材料砌成的用以烧成制品的设备，是陶艺成型中的必备设施。陶瓷施釉后一般要在窑炉内1200℃的条件下烧制，随后冷却凝固成型，传统窑炉很多采用长窑结构，如图1所示，该窑体为两侧设有窑门的长条状结构，在冷却时，将两侧的窑门打开，形成空气对流，即一侧进风一侧出风，将窑内的热量带走，实现降温的效果，但这个冷却方式存在弊端，靠近两侧窑门区域热量流失速度较快，窑体中部区域冷却速度较慢，这使得两侧的陶瓷制品的釉面由于温度冷却过快，极易出现龟裂、剥落，甚至陶瓷整体破裂，这也是传统窑体成品率较低的重要原因之一。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，有助于解决现有结构冷却速度不均，成品率低的问题。
[0004]为了达到上述目的，本技术采用这样的技术方案：
[0005]一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，包括窑体，所述窑体搭配有供热设备，所述窑体两侧设有窑门，所述窑体顶部均匀本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，包括窑体，所述窑体搭配有供热设备，其特征在于，所述窑体两侧设有窑门，所述窑体顶部均匀设置多个散热口，所述散热口贯穿所述窑体，所述散热口顶部具有锥形结构的开口，其顶部孔径大于其底部孔径，所述开口上方设有可开合的盖体，所述盖体底部设有密封层和隔热层。2.根据权利要求1所述的一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，其特征在于，所述盖体一侧设有枢转部，所述盖体通过所述枢转部与所述窑体可转动连接，所述盖体顶部设有把手。3.根据权利要求1所述的一种提高陶瓷釉面质量的窑炉，其特征在于，所述开口底部...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢怡锋，王振泉，梁晓冬，
申请(专利权)人：泉州市绿色低碳研究院，
类型：新型
国别省市：