转印滚轮蚀刻制造设备及滚轮蚀刻装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种转印滚轮蚀刻制造设备及滚轮蚀刻装置。其中滚轮蚀刻装置包括：一旋转模块，用以将一金属滚筒设置于一中心轴线上，且能够驱动金属滚筒旋转；以及一蚀刻液喷射模块，具有至少一喷嘴，用以将蚀刻液喷射于金属滚筒和光阻层上，而能够对所述金属滚筒的外表面蚀刻，而于金属滚筒的外表面形成多个转印微结构；其中，滚轮蚀刻装置规划为在蚀刻液喷射模块喷射蚀刻液的同时，通过旋转模块带动金属滚筒和蚀刻液喷射模块的喷嘴相对旋转，而使得蚀刻液均匀喷射于金属滚筒和光阻层的表面上。面上。面上。

【技术实现步骤摘要】
转印滚轮蚀刻制造设备及滚轮蚀刻装置


[0001]本技术涉及一种转印滚轮生产设备，尤其涉及一种用于制造转印滚轮的转印滚轮蚀刻制造设备及滚轮蚀刻装置。

技术介绍

[0002]现有的一种蚀刻式转印滚轮的制造设备主要为通过一涂布装置在一金属滚筒的外表面涂布一光阻层，并且通过曝光装置及显影装置，使得光阻层形成多个图案化的接触窗口，再通过一蚀刻装置对所述金属滚筒的所述外表面蚀刻。所述蚀刻装置是通过蚀刻液并以所述光阻层为屏蔽对所述金属滚筒的外表面蚀刻而形成多个微结构，进而使得所述滚筒形成具有特定微结构的转印式滚轮。
[0003]由于蚀刻液对金属滚筒接触后会和金属滚筒反应而产生化合物，致使蚀刻液失去蚀刻效果，因此蚀刻液必须保持循环地接触金属滚筒，以得新的蚀刻液能够取代已和金属滚筒反应过后的旧蚀刻液，方能够使得蚀刻持续进行。
[0004]此外，在蚀刻的过程中，蚀刻液必须通过光阻层的接触窗口才能够接触到金属滚筒的表面而对金属滚筒进行蚀刻，然而由于光阻层上的接触窗口的孔隙尺寸相当微小，因此会使得已反应后的旧蚀刻液因毛细作用被保留在光阻层的接触窗口中，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种转印滚轮蚀刻制造设备，其特征在于，包括：一光阻涂布装置，用以在一金属滚筒的外表面涂布360度围绕所述外表面的光阻层；一曝光装置，用以产生一图案化光源照射于所述光阻层，而使得所述光阻层曝光；一显影装置，用以使得曝光后的所述光阻层显影而形成多个接触窗口，并且使得所述金属滚筒的所述外表面从多个所述接触窗口暴露出来；及一滚轮蚀刻装置，包括：一旋转模块，用以将所述金属滚筒设置于所述滚轮蚀刻装置的一中心轴线上，且能够驱动所述金属滚筒绕着所述中心轴线旋转；以及一蚀刻液喷射模块，所述蚀刻液喷射模块具有至少一喷嘴，用以将蚀刻液喷射于所述金属滚筒和所述光阻层上，而能够以所述光阻层为屏蔽对所述金属滚筒的所述外表面蚀刻，而于所述金属滚筒的所述外表面形成多个转印微结构；其中，所述滚轮蚀刻装置规划为能够通过所述旋转模块带动所述金属滚筒和所述蚀刻液喷射模块的至少一所述喷嘴相对旋转，而使得至少一所述喷嘴能够将所述蚀刻液均匀喷射于所述金属滚筒和所述光阻层的表面上。2.根据权利要求1所述的转印滚轮蚀刻制造设备，其特征在于，所述滚轮蚀刻装置被规划为能够以蚀刻模式和离心旋转模式操作，当所述滚轮蚀刻装置以所述蚀刻模式操作时，所述蚀刻液喷射模块的至少一所述喷嘴将所述蚀刻液喷射于所述金属滚筒和所述光阻层上，且所述旋转模块带动所述金属滚筒和至少一所述喷嘴相对旋转；当所述滚轮蚀刻装置以所述离心旋转模式操作时，所述蚀刻液喷射模块停止喷射所述蚀刻液，并且所述旋转模块带动所述金属滚筒以一离心转速旋转，而使得所述金属滚筒的所述外表面和所述光阻层上残留的所述蚀刻液因离心力作用而被甩离。3.根据权利要求1所述的转印滚轮蚀刻制造设备，其特征在于，所述滚轮蚀刻装置带动所述金属滚筒以离心转速旋转时产生的离心力在800G以上。4.根据权利要求1所述的转印滚轮蚀刻制造设备，其特征在于，所述蚀刻液喷射模块的所述喷嘴的数量限定为一个，所述蚀刻液喷射模块还具有一直线移动模块，所述喷嘴设置于所述直线移动模块上，且通过所述直线移动模块带动所述喷嘴沿着和所述中心轴线平行的方向往复位移。5.根据权利要求1所述的转印滚轮蚀刻制造设备，其特征在于，所述蚀刻液喷射模块的所述喷嘴的数量限定为多个，多个所述喷嘴沿着和所...

【专利技术属性】
技术研发人员：林刘恭，
申请(专利权)人：光群雷射科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：