本申请提供了一种涂布纠偏装置及涂布系统，属于电池制造技术领域。其中，涂布纠偏装置用于设置于第一涂布机构和第二涂布机构之间，第一涂布机构用于对极片基材的正面进行涂布，以形成第一涂布区，第二涂布机构用于对极片基材的反面进行涂布，以形成第二涂布区。涂布纠偏装置包括检测机构和纠偏机构。检测机构被配置为对第一涂布区的位置进行检测。纠偏机构用于响应于检测机构的检测结果，以调节极片基材与第二涂布机构的相对位置，以减小第二涂布区相对于第一涂布区的偏移量。这种结构的涂布纠偏装置以极片基材的第一涂布区为基准来进行纠偏，可有效减小第二涂布区相对于第一涂布区的偏移量，提升了产品的质量，降低了产品的不良率。良率。良率。
【技术实现步骤摘要】
一种涂布纠偏装置及涂布系统
[0001]本申请涉及电池制造
，具体而言，涉及一种涂布纠偏装置及涂布系统。
技术介绍
[0002]在涂布系统中，涂布纠偏装置位于第一涂布机构与第二涂布机构之间，第一涂布机构对极片基材的正面进行涂布后，经过涂布纠偏装置进行纠偏后，第二涂布机构对极片基材的反面进行涂布。
[0003]目前，涂布系统中的涂布纠偏装置的纠偏效果较差，容易出现极片基材的正面的涂布区与反面的涂布区错位量较大的情况。
技术实现思路
[0004]本申请实施例提供一种涂布纠偏装置及涂布系统，以改善现有的涂布纠偏装置容易出现极片基材的正面的涂布区与反面的涂布区错位量较大的问题。
[0005]第一方面，本申请实施例提供一种涂布纠偏装置，用于设置于第一涂布机构和第二涂布机构之间，所述第一涂布机构用于对极片基材的正面进行涂布，以形成第一涂布区，所述第二涂布机构位于所述第一涂布机构的下游，用于对所述极片基材的反面进行涂布，以形成第二涂布区，所述涂布纠偏装置包括检测机构以及纠偏机构；
[0006]检测机构被配置为对所述第一涂布区的位置进行检测；
[0007]纠偏机构用于响应于所述检测机构的检测结果，以调节所述极片基材与所述第二涂布机构的相对位置，以减小所述第二涂布区相对于所述第一涂布区的偏移量。
[0008]上述方案中，通过检测机构对极片基材的第一涂布区的位置进行检测，纠偏机构可响应于检测机构的检测结果，以调节极片基材与第二涂布机构的相对位置，以实现纠偏。这种结构的涂布纠偏装置以极片基材的第一涂布区为基准来进行纠偏，使得第二涂布机构能够在极片基材的反面上与第一涂布区相对应的位置进行涂布，可有效减小第二涂布区相对于第一涂布区的偏移量，提升了产品的质量，降低了产品的不良率。
[0009]在一些实施例中，所述检测机构被配置为对所述第一涂布区的边缘的位置进行检测。
[0010]上述方案中，检测机构可对第一涂布区的边缘的位置进行检测，从而得到第一涂布区的位置。
[0011]在一些实施例中，所述检测机构包括两个检测单元，所述两个检测单元分别用于检测所述第一涂布区在所述极片基材的宽度方向上相对的两个边缘的位置。
[0012]上述方案中，通过两个检测单元分别检测第一涂布区在其宽度方向上相对的两个边缘的位置，可减小检测误差，提高检测精度。
[0013]在一些实施例中，所述检测单元为光电检测器。
[0014]上述方案中，检测单元为光电检测器，光电检测器具有灵敏度高，响应速度快的优点，且不易受到外界温度变化和环境变化的影响，具有很好的稳定性和可靠性。
[0015]在一些实施例中，所述涂布纠偏装置还包括基架以及托辊；所述检测单元和所述纠偏机构均安装于所述基架上；托辊安装于所述基架上，用于托起所述极片基材。
[0016]上述方案中，检测单元和纠偏机构均安装于基架，基架起到连接检测单元和纠偏机构的作用，使得检测单元与纠偏机构两者具有确定的位置关系。此外，基架上的托辊可托起极片基材，托辊对极片基材起到支撑作用，提高了极片基材的稳定性，使得检测单元能够准确地检测到极片基材的边缘，提高了检测单元检测的准确性。
[0017]在一些实施例中，所述托辊轴向具有相对的第一端和第二端；所述涂布纠偏装置还包括第一调节机构以及第二调节机构；所述第一端通过所述第一调节机构与所述基架连接；所述第二端通过所述第二调节机构与所述基架连接；所述第一调节机构和所述第二调节机构用于调节所述托辊的位置，以调节所述极片基材与所述检测单元的距离。
[0018]上述方案中，通过第一调节机构和第二调节机构可调节托辊的位置，以达到调节极片基材与检测单元的距离的目的，以使极片基材位于检测单元的检测范围内。当极片基材宽度方向上的两侧受到的张力不一致时，还可通过单独调节第一调节机构或第二调节机构来调节托辊第一端或第二端的高度，以使极片基材宽度方向上的两侧受到的张力保持一致。
[0019]在一些实施例中，所述检测单元沿所述极片基材的宽度方向位置可调地设置于所述基架。
[0020]上述方案中，检测单元在极片基材的宽度方向上的位置可调，当因更换产品型号、第一涂布机构位置发生改变等因素导致第一涂布区位置变化时，可对检测单元在极片基材的宽度方向上的位置进行调节，保证检测单元能够准确地检测到第一涂布区的边缘的位置。
[0021]在一些实施例中，所述涂布纠偏装置还包括第三调节机构，所述检测单元连接于所述第三调节机构，所述第三调节机构沿所述极片基材的宽度方向位置可调地设置于所述基架，所述第三调节机构用于调节所述检测单元与所述极片基材的距离，和/或，调节所述检测单元在所述极片基材的宽度方向上的位置。
[0022]上述方案中，检测单元连接于第三调节机构，第三调节机构沿极片基材的宽度方向位置可调地设置于基架，通过调节第三调节机构的位置，则可实现对检测单元在极片基材的宽度方向上的位置的调节。第三调节机构具备调节检测单元的位置功能，以调节检测单元与极片基材的距离，和/或，调节检测单元在极片基材的宽度方向上的位置。
[0023]在一些实施例中，所述第三调节机构还用于调节所述检测单元的检测角度。
[0024]上述方案中，通过第三调节机构还可调节检测单元的检测角度，以将检测单元的检测角度调整至较佳的角度，提高检测单元的检测准确性。
[0025]第二方面，本申请实施例提供一种涂布系统，包括第一涂布机构、第二涂布机构以及第一方面任意一实施例提供的涂布纠偏装置；
[0026]第一涂布机构用于对极片基材的正面进行涂布，以形成第一涂布区；
[0027]第二涂布机构位于所述第一涂布机构的下游，用于对极片基材的反面进行涂布，以形成第二涂布区；
[0028]所述涂布纠偏装置设置于所述第一涂布机构与所述第二涂布机构之间。
[0029]上述方案中，涂布系统中的涂布纠偏装置以极片基材的第一涂布区为基准来进行
纠偏，使得第二涂布机构能够在极片基材的反面上与第一涂布区相对应的位置进行涂布，可有效减小第二涂布区相对于第一涂布区的偏移量，提升了产品的质量，降低了产品的不良率。
附图说明
[0030]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0031]图1为本申请一些实施例提供涂布系统的示意图；
[0032]图2为本申请一些实施例提供的极片基材的断面图；
[0033]图3为本申请又一些实施例提供的涂布系统的示意图；
[0034]图4为本申请一些实施例提供的涂布纠偏装置与第二涂布机构的位置关系图；
[0035]图5为本申请一些实施例提供的极片基材的正面图；
[0036]图6为本申请一些实施例提供本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种涂布纠偏装置，用于设置于第一涂布机构和第二涂布机构之间，所述第一涂布机构用于对极片基材的正面进行涂布，以形成第一涂布区，所述第二涂布机构位于所述第一涂布机构的下游，用于对所述极片基材的反面进行涂布，以形成第二涂布区，其特征在于，所述涂布纠偏装置包括：检测机构，被配置为对所述第一涂布区的位置进行检测；以及纠偏机构，用于响应于所述检测机构的检测结果，以调节所述极片基材与所述第二涂布机构的相对位置，以减小所述第二涂布区相对于所述第一涂布区的偏移量。2.根据权利要求1所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述检测机构被配置为对所述第一涂布区的边缘的位置进行检测。3.根据权利要求2所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述检测机构包括两个检测单元，所述两个检测单元分别用于检测所述第一涂布区在所述极片基材的宽度方向上相对的两个边缘的位置。4.根据权利要求3所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述检测单元为光电检测器。5.根据权利要求3所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述涂布纠偏装置还包括：基架，所述检测单元和所述纠偏机构均安装于所述基架上；以及托辊，安装于所述基架上，用于托起所述极片基材。6.根据权利要求5所述的涂布纠偏装置，其特征在于，所述托辊轴向具有相对的第一端和第二端；所述涂布纠偏装置还包括：第一调节机构...
【专利技术属性】
技术研发人员：童杰，
申请(专利权)人：江苏时代新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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