金属掩模用基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法技术

本发明专利技术涉及金属掩模用基材的制造方法、蒸镀用金属掩模的制造方法、金属掩模用基材及蒸镀用金属掩模。在具备表面以及与表面相反侧的面即背面的金属轧制片中，表面及背面的至少一方为处理对象。金属掩模用基材的制造方法为，通过用酸性蚀刻液将处理对象蚀刻3μm以上来使金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，得到金属制的金属掩模用片。属掩模用片。属掩模用片。

【技术实现步骤摘要】
金属掩模用基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法
[0001]本申请是申请日为2016年6月29日、申请号为201680013003.6、专利技术名称为“金属掩模用基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法”的申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及金属掩模用基材的制造方法、使用了金属掩模用基材的蒸镀用金属掩模的制造方法、金属掩模用基材以及蒸镀用金属掩模。

技术介绍

[0003]作为使用蒸镀法来制造的显示器件之一，已知有机EL显示器。有机EL显示器所具备的有机层，是在蒸镀工序中升华的有机分子的堆积物。在蒸镀工序中使用的金属掩模的开口，是供所升华的有机分子通过的通路，具有与有机EL显示器的像素的形状相对应的形状(例如，参照专利文献1)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2015
‑
055007号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的课题
[0008]然而，随着显示器件的显示品质提高、显示器件的高精细化发展本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属掩模用基材的制造方法，其中，包括：准备金属轧制片的步骤，该金属轧制片具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面，上述表面以及上述背面的至少一方为处理对象；以及通过对上述处理对象喷吹酸性蚀刻液而将上述处理对象蚀刻3μm以上，使上述金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且使上述处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，由此，得到金属制的金属掩模用片的步骤，上述金属轧制片包含由金属氧化物构成的粒子。2.如权利要求1所述的金属掩模用基材的制造方法，其中，上述处理对象为上述表面以及上述背面的双方。3.如权利要求1所述的金属掩模用基材的制造方法，其中，上述处理对象为上述表面以及上述背面的任一方，上述制造方法还包括在与上述处理对象相反侧的面上层叠树脂制的支撑层的步骤，在上述金属轧制片与上述支撑层层叠的状态下对上述处理对象进行蚀刻，由此，得到上述金属掩模用片与上述支撑层层叠的金属掩模用基材。4.如权利要求2所述的金属掩模用基材的制造方法，其中，上述蚀刻的步骤包括：对上述表面以及上述背面的一方即第一处理对象进行蚀刻的步骤；以及之后对上述表面以及上述背面的另一方即第二处理对象进行蚀刻的步骤，上述制造方法还包括在对上述第一处理对象进行了蚀刻之后在通过上述第一处理对象的蚀刻而得到的上述抗蚀剂用处理面上层叠树脂制的支撑层的步骤，在上述金属轧制片与上述支撑层层叠的状态下对上述第二处理对象进行蚀刻，由此，得到上述金属掩模用片与上述支撑层层叠的金属掩模用基材。5.如权利要求1所述的金属掩模用基材的制造方法，其中，上述金属轧制片具有10μm以上100μm以下的厚度，在上述金属轧制片中，除上述粒子之外的部分所包含的金属不同于上述粒子所包含的金属，上述金属轧制片之中，包含上述金属轧制片的厚度方向上的中央的部分是中央部分，包含上述表面的部分是第1表层部分，包含上述背面的部分是第2表层部分，与上述中央部分相比，上述粒子较多地分布在上述第1表层部分及上述第2表层部分。6.如权利要求1所述的金属掩模用基材的制造方...

【专利技术属性】
技术研发人员：三上菜穗子，田村纯香，寺田玲尔，仓田真嗣，藤户大生，西辻清明，西刚广，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：