一种266纳米高功率激光增透膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种266纳米高功率激光增透膜，一种266纳米高功率激光增透膜，膜层结构为：A/cL/bH/aL/SUB/aL/bH/cL/A，其中，SUB代表玻璃基底；A代表空气；H代表高折射率膜层；L代表低折射率膜层；a﹑b﹑c分别为各膜层的四分之一参考波长光学厚度的系数，a为1.6

【技术实现步骤摘要】
一种266纳米高功率激光增透膜


[0001]本技术涉及一种266纳米高功率激光增透膜，属于增透膜


技术介绍

[0002]紫外激光由于波长短，分子能量高衍射作用小等优点，广泛使用于材料加工、光刻、医疗、科研等领域。
[0003]在光学元件中，由于元件表面的反射作用而使光能损失，为了减少元件表面的反射损失，常在光学元件表面镀层透明介质薄膜，这种薄膜就叫增透膜。
[0004]目前市场上的紫外激光产品的增透膜，存在透过率低、抗击光损伤阈值低、使用效果不佳、寿命短等问题。

技术实现思路

[0005]本技术提供一种266纳米高功率激光增透膜，所得增透膜在266nm波段处反射率小于0.05％、透过率可达99.9％以上，提高了抗击光损伤阈值，可达6J/cm2(266nm,7ns)；提高了产品的使用效果及使用寿命；可满足目前近紫外领域的一些高端应用。
[0006]为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案如下：
[0007]一种266纳米高功率激光增透膜，膜层结构为：A/cL/bH/aL/SUB/aL/bH/本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：膜层结构为：A/cL/bH/aL/SUB/aL/bH/cL/A，其中，SUB代表玻璃基底；A代表空气；H代表高折射率膜层；L代表低折射率膜层；a﹑b﹑c分别为各膜层的四分之一参考波长光学厚度的系数理论值，a为1.6
±
0.2，b为0.53
±
0.2，c为1.13
±
0.2。2.如权利要求1所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：高折射率膜层所用材料为HfO...

【专利技术属性】
技术研发人员：王泽栋，李全民，李林峰，王国力，
申请(专利权)人：南京波长光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：