一种用于移液器的新型清洗装置制造方法及图纸

技术编号:30051697 阅读:15 留言:0更新日期:2021-09-15 10:54
本实用新型专利技术公开一种用于移液器的新型清洗装置,包括清洗支架,清洗支架内一侧设有底座,底座上部一侧设有向内凹槽,底座一侧上设有支撑架,支撑架顶部设有支撑环,支撑架一侧设有下部支撑块,下部支撑块上方设有上部抵接块,下部支撑块和上部抵接块之间设有弧形凹槽,上部抵接块通过伸缩杆和清洗支架顶部下方连接,伸缩杆外设有和清洗支架顶部和上部抵接块顶部的弹簧,伸缩杆一侧设有滑动杆,滑动杆底部连接有喷头,喷头通过水管和水泵及水箱相连。本申请有效对移液器进行固定,并通过喷头对移液器进行清洗,方便有效快捷,提高移液器的稳定性,并提高清洗的效率。并提高清洗的效率。并提高清洗的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于移液器的新型清洗装置


[0001]本技术涉及器材清洗设备
,具体是一种用于移液器的新型清洗装置。

技术介绍

[0002]实验室中的操作经常需要进行实验药剂的移取,除了固体的药品,更多的药品移取是液体状态进行移动,在进行移液过程中使用到的移液设备。在用完之后通常需要对其进行清洗,如果清洗不干净,可能会造成使用同一移液器中不同液体成分的混杂,给实验带来误差。并且在清洗的过程中,如果放置的不好容易将其摔坏,因此,需要改进之前的清洗装置。

技术实现思路

[0003]为了解决上述问题,本技术公开了一种用于移液器的新型清洗装置。
[0004]本技术的技术方案为:一种用于移液器的新型清洗装置,包括清洗支架,清洗支架内一侧设有底座,底座上部一侧设有向内凹槽,底座一侧上设有支撑架,支撑架顶部设有支撑环,支撑架一侧设有下部支撑块,下部支撑块上方设有上部抵接块,下部支撑块和上部抵接块之间设有弧形凹槽,上部抵接块通过伸缩杆和清洗支架顶部下方连接,伸缩杆外设有和清洗支架顶部和上部抵接块顶部的弹簧,伸缩杆一侧设有滑动杆,滑动杆底部连接有喷头,喷头通过水管和水泵及水箱相连。
[0005]进一步地,底座上部的向内凹槽和移液器底部相适配。
[0006]进一步地,滑动杆在清洗支架的顶部进行滑动,滑动杆底部通过夹子和喷头相连,喷头正对移液器的进口端。
[0007]进一步地,弧形凹槽内设有橡胶垫,橡胶垫紧贴弧形凹槽,橡胶垫和移液器的顶部形状相适配。
[0008]本技术的有益之处:本申请有效对移液器进行固定,并通过喷头对移液器进行清洗,方便有效快捷,提高移液器的稳定性,并提高清洗的效率。
附图说明
[0009]图1为本技术的结构示意图;
[0010]其中:1、清洗支架,2、底座,3、支撑架,4、支撑环,5、下部支撑块,6、上部抵接块,7、向内凹槽,8、伸缩杆,9、弹簧,10、弧形凹槽,11、橡胶垫,12、移液器,13、滑动杆,14、喷头,15、水管,16、水泵。
具体实施方式
[0011]为了加深对本技术的理解,下面结合附图详细描述本技术的具体实施方式,该实施例仅用于解释本技术,并不构成对本技术的保护范围的限定。
[0012]如图1所示,一种用于移液器的新型清洗装置,包括清洗支架1,清洗支架1内一侧设有底座2,底座2上部一侧设有向内凹槽7底座2上部的向内凹槽7和移液器12底部相适配,底座2一侧上设有支撑架3,支撑架3顶部设有支撑环4,支撑架3一侧设有下部支撑块5,下部支撑块5上方设有上部抵接块6,下部支撑块5和上部抵接块6之间设有弧形凹槽10,弧形凹槽10内设有橡胶垫11,橡胶垫11紧贴弧形凹槽10,橡胶垫11和移液器12的顶部形状相适配,上部抵接块6通过伸缩杆8和清洗支架1顶部下方连接,伸缩杆8外设有和清洗支架1顶部和上部抵接块6顶部的弹簧9,伸缩杆8一侧设有滑动杆13,滑动杆13底部连接有喷头14,喷头14正对移液器12的进口端,滑动杆13在清洗支架1的顶部进行滑动,滑动杆13底部通过夹子和喷头14相连,喷头14通过水管15和水泵16及水箱相连。
[0013]将移液器放在底座和支撑环内,然后通过伸缩杆对上部抵接块对移液器进行挤压,来对移液器进行固定,然后通过滑动杆对喷头进行移动,并对移液器进行清洗。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于移液器的新型清洗装置,包括清洗支架,其特征在于:所述清洗支架内一侧设有底座,所述底座上部一侧设有向内凹槽,所述底座一侧上设有支撑架,所述支撑架顶部设有支撑环,所述支撑架一侧设有下部支撑块,所述下部支撑块上方设有上部抵接块,所述下部支撑块和上部抵接块之间设有弧形凹槽,所述上部抵接块通过伸缩杆和清洗支架顶部下方连接,所述伸缩杆外设有和清洗支架顶部和上部抵接块顶部的弹簧,所述伸缩杆一侧设有滑动杆,所述滑动杆底部连接有喷头,所述喷头通过水管和水...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴窈画
申请(专利权)人:南通麦西计量科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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