一种强磁场热处理用工件进给机构制造技术

技术编号:29993000 阅读:27 留言:0更新日期:2021-09-11 04:32
本实用新型专利技术公开了一种强磁场热处理用工件进给机构,包括移动装置所述移动装置底部设置有固定支架,所述固定支架上侧连接有导轨,所述导轨左侧中间位置连接有移动装置步进电机,所述导轨上侧连接有滑块,所述移动装置步进电机右侧连接有丝杆,所述滑块上侧连接有移动支架,所述移动支架右侧连接有热处理炉,所述移动支架右侧末端连接有蜗轮旋转支架,所述蜗轮旋转支架下侧连接有蜗轮,所述蜗轮外侧设置有蜗杆传动轴,所述蜗杆传动轴左侧设置有旋转机构步进电机,所述蜗轮旋转支架内部连接有硅片。该装置在使用的时候能够精准的对硅片进行旋转,同时能够对硅片进行添加和取出的作用,保证加工完成的硅片质量,确保硅片的材料性能可以均匀提升。性能可以均匀提升。性能可以均匀提升。

【技术实现步骤摘要】
一种强磁场热处理用工件进给机构


[0001]本技术涉及磁场热处理
,具体为一种强磁场热处理用工件进给机构。

技术介绍

[0002]磁场热处理是指在磁场中居于居里温度附近将材料保温若干时间后冷却,或以一定的速度在磁场中冷却的热处理过程。通过磁场热处理,常常可以使合金中的磁性离子或离子对出现方向有序,从而引起所谓感生各向异性,使材料中原来易磁化方向各不相同的磁畴结构,变成易磁化的,方向大致平行于磁场取向的磁畴结构。
[0003]在对硅片进行磁场热处理的时候往往需要用到一定的辅助装置,来保证硅片在热处理炉内部能够均匀受热,但是现有技术中的辅助装置在使用的时候往往不能够准确的对硅片进行旋转以及无法对硅片进行添加和取出,并且加工完成的硅片质量无法有效地保证,材料性能提升不均匀。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种强磁场热处理用工件进给机构,以解决上述
技术介绍
中提出现有技术中的辅助装置在使用的时候往往不能够准确的对硅片进行旋转以及无法对硅片进行添加和取出,并且加工完成的硅片质量无法有效地保证,材料性能提升不均匀的问本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种强磁场热处理用工件进给机构,其特征在于:包括移动装置(1)和旋转机构(2),所述移动装置(1)底部设置有固定支架(3),所述固定支架(3)上侧连接有导轨(4),所述导轨(4)左侧中间位置连接有移动装置步进电机(7),所述导轨(4)上侧连接有滑块(5),所述移动装置步进电机(7)右侧连接有丝杆(6),所述滑块(5)上侧连接有移动支架(8),所述移动支架(8)右侧连接有热处理炉(9),所述移动支架(8)右侧末端连接有蜗轮旋转支架(12),所述蜗轮旋转支架(12)下侧连接有蜗轮(13),所述蜗轮(13)外侧设置有蜗杆传动轴(11),所述蜗杆传动轴(11)左侧设置有旋转机构步进电机(10),所述蜗轮旋转支架(12)内部连接有硅片(14)。2.根据权利要求1所述的一种强磁场热处理用工件进给机构,其特征在于:所述移动支架(8)与热处理炉(9)连接处在所述移动支架(8)上设置有圆形端盖,所述圆形端盖与热处理炉(9)的炉口密封连接。3.根据权利要求1所述的一种强磁场热处理用工件进给机构,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:张弛李超马鹏葛正福兰贤辉周涛刘向宏冯勇张平祥
申请(专利权)人:西安聚能超导磁体科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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