一种暗场散射显微成像和光谱测试系统技术方案

本发明专利技术公开了一种暗场显微成像和光谱测试系统。它由光源、新型散射光路、光谱仪、CCD组成。本发明专利技术主要基于暗场散射，通过将传统暗场散射光路中的透镜元件更换为曲面反射镜，简化了光路，增加了散射光吸收效率。其优点在于：光路简单、成本低廉、散射光收集效率高、不仅能工作于可见光波段还能工作于红外、紫外、太赫兹波段。本发明专利技术在颗粒散射成像与光谱分析、表面成分检测等领域有广泛应用前景。成分检测等领域有广泛应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种暗场散射显微成像和光谱测试系统


[0001]本专利技术涉及显微成像和光谱测试技术，特别涉及一种具有新型散射光路的暗场散射光谱仪测试系统。

技术介绍

[0002]显微成像是一种用于对观测对象进行光学放大，通过图像采集设备的感光区域观测和记录，来实现对样品的检测及进行形态分析的技术，自问世以来即在科研和工业领域有广泛应用。但是,无论是传统的光学显微镜还是各种电子显微镜,它们都只能提供微小物体(如细胞等)的形态学计量,并不能给出物体中物质结构和成分的进一步细节.而成像光谱技术把成像技术和光谱技术有机地结合在了一起,不仅能对物体进行形态成像,并且还能提供丰富的光谱信息;它具有光谱分辨率高、波段多、图像与光谱相结合等优点,因此近年来在生物大分子材料检测、表面缺陷表征、表面微纳加工等领域有重要应用。
[0003]暗场散射是光学显微和电子显微中的一种特殊显微手法，暗场散射的基本原理是，使入射光大角度倾斜入射而发生散射，同时阻止反射光直接进入目镜，仅使散射光进入物镜成像，使得测到的视野背景是黑的，物体边缘是亮的。相较于允许反射光进入目镜的明场成像，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种暗场散射显微成像和光谱测试系统，其特征在于，包括至少一个光源（1）、一个光纤探头（2）、4个曲面反射镜（4、9、11、13）、至少一个光阑（5），2个平面反射镜（3、6）、半透半反镜（10），三维调节台（8），光谱仪（12）、CCD（14）、待测样品（7）。2.如权利要求1所述的光谱仪测试系统，其特征在于：其中所述光纤探头（2）通过光纤与光源（1）相连，且光纤探头（2）经过平面反射镜（3）作镜像对称后，光纤探头（2）的镜像位于曲面反射镜（4）的焦点位置，以保证入射光经过曲面反射镜（4）反射后为平行光出射。3.如权利要求1所述的光谱仪测试系统，其特征在于：所述之曲面反射镜（4）、曲面反射镜（9）均为凹面反射镜，放置于同一光轴上，反射面彼此相对。4.如权利要求1所述的光谱仪测试系统，其特征在于：所述光源可为可见光...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁浚潇，侯宜栋，杨秀，吴轩楠，高福华，杜惊雷，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：发明
国别省市：